요약 | 본 발명은 고유전 폴리이미드-폴리아닐린 복합체 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 내열성이 우수한 폴리이미드에 전도성을 나타내는 폴리아닐린을 첨가함으로써, 전도성 고분자의 입자 생성 및 모폴로지 조절을 이루고 메트릭스 고분자와의 상호작용을 조절하여 분산 입자의 크기조절, 균일한 모폴로지 및 고른 분산을 통해 고유전 특성 및 절연특성을 나타내는 폴리이미드-폴리아닐린 복합체 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 고유전, 폴리이미드-폴리아닐린 복합체 |
---|---|
Int. CL | C08G 73/10 (2006.01) C08G 73/04 (2006.01) C08G 73/02 (2006.01) C08G 73/00 (2006.01) |
CPC | C08G 73/00(2013.01) C08G 73/00(2013.01) C08G 73/00(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020090043729 (2009.05.19) |
출원인 | 한국화학연구원 |
등록번호/일자 | 10-1085051-0000 (2011.11.14) |
공개번호/일자 | 10-2010-0124623 (2010.11.29) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20111121) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2009.05.19) |
심사청구항수 | 4 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국화학연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 정현민 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
2 | 원종찬 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
3 | 김용석 | 대한민국 | 대전 유성구 |
4 | 오재범 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 김영우 | 대한민국 | 서울시 서초구 강남대로 ***(서초동, 남강빌딩 *층)(한라특허법인(유한)) |
2 | 한라특허법인(유한) | 대한민국 | 서울시 서초구 강남대로 ***(서초동, 남강빌딩 *층) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국화학연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2009.05.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0300392-44 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2010.01.08 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2010.02.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0010105-66 |
4 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2010.09.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0594033-54 |
5 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2011.02.18 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0093040-93 |
6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2011.04.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0272322-15 |
7 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2011.04.13 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0272323-61 |
8 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.10.24 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0612985-98 |
9 | 대리인선임신고서 Report on Appointment of Agent |
2015.12.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-5033520-42 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2017.09.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5149265-52 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2017.09.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5149242-13 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 산이무수물과 디아민을 모노머로 하여 폴리아믹산을 중합하는 반응에서 도데실벤젠설폰산(DBSA)이 도핑된 폴리아닐린을 상기 중합되는 폴리아믹산의 중량평균 분자량이 3,000 ~ 6,000에 해당되는 시점에 첨가 후, 중합 종결 반응시켜 폴리아닐린-폴리아믹산 용액을 제조하는 1단계; 및 상기 1단계의 폴리아닐린-폴리아믹산 용액을 가열 건조하는 2단계 를 포함하며, 상기 산이무수물은 파이로멜리틱산 이무수물, 1,2,3,4-벤젠 테트라카르복시산 이무수물, 벤조페논 테트라카르복시산 이무수물, 비스(디카르복시페닐에테르) 이무수물, 비스(디카르복시페닐설폰) 이무수물, 비스(디카르복시페닐설파이드) 이무수물, 비스(디카르복시페닐)프로판 이무수물, 비스(디카르복시페닐)헥사플루오르프로판 이무수물, 비페닐 테트라카르복시산 이무수물, 나프탈렌 테트라카르복시산 이무수물 및 사이클로부탄 테트라카르복시산 이무수물 중에서 선택된 1종 이상이며, 상기 디아민은 p-페닐렌디아민, 4,4'-비페닐디아민, 3,3'-옥시디벤젠아민, 3,4'-옥시디벤젠아민, 4,4'-옥시디벤젠아민, 3,3'-(1,3-페닐렌비스(옥시))디벤젠아민, 3,3'-(1,4-페닐렌비스(옥시))디벤젠아민, 4,4'-(1,4-페닐렌비스(옥시))디벤젠아민, 4,4'-(4,4'-설포닐비스(4,1-페닐렌)비스(옥시))디벤젠아민, 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)프로판 및 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)헥사플루오르프로판 중에서 선택된 1 종 이상인 것을 특징으로 하는 폴리이미드-폴리아닐린 복합체의 제조방법 |
2 |
2 삭제 |
3 |
3 삭제 |
4 |
4 제 1 항에 있어서, 상기 중합 종결 반응은 15 ~ 25 ℃에서 12 ~ 30 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법 |
5 |
5 삭제 |
6 |
6 제 1 항에 있어서, 상기 폴리아닐린은 중량평균 분자량이 2,000 ~ 200,000이고, 전도도가 2 S/cm 이상인 것을 특징으로 하는 제조방법 |
7 |
7 청구항 1, 4 및 6 중에서 선택된 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 것을 특징으로 하는 고유전 폴리이미드-폴리아닐린 복합체 |
지정국 정보가 없습니다 |
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패밀리정보가 없습니다 |
---|
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
특허 등록번호 | 10-1085051-0000 |
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표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20090519 출원 번호 : 1020090043729 공고 연월일 : 20111121 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20111024 청구범위의 항수 : 4 유별 : C08G 73/00 발명의 명칭 : 고유전 폴리이미드-폴리아닐린 복합체 및 이의 제조방법 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국화학연구원 대전광역시 유성구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 100,500 원 | 2011년 11월 15일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 89,600 원 | 2014년 09월 22일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 89,600 원 | 2015년 10월 15일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 89,600 원 | 2016년 10월 06일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 176,400 원 | 2017년 11월 01일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 126,000 원 | 2018년 11월 01일 | 납입 |
제 9 년분 | 금 액 | 126,000 원 | 2019년 10월 01일 | 납입 |
제 10 년분 | 금 액 | 230,000 원 | 2020년 09월 25일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2009.05.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0300392-44 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2010.01.08 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 | 2010.02.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0010105-66 |
4 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2010.09.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0594033-54 |
5 | 의견제출통지서 | 2011.02.18 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0093040-93 |
6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2011.04.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0272322-15 |
7 | [명세서등 보정]보정서 | 2011.04.13 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0272323-61 |
8 | 등록결정서 | 2011.10.24 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0612985-98 |
9 | 대리인선임신고서 | 2015.12.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-5033520-42 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2017.09.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5149265-52 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2017.09.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5149242-13 |
기술번호 | KST2014065359 |
---|---|
자료제공기관 | 미래기술마당 |
기술공급기관 | 한국화학연구원 |
기술명 | 내열성 및 성형가공성이 우수한 고유전고분자 복합체 기술(원종찬) |
기술개요 |
본 발명은 고유전 폴리이미드-폴리아닐린 복합체 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 내열성이 우수한 폴리이미드에 전도성을 나타내는 폴리아닐린을 첨가함으로써, 전도성 고분자의 입자 생성 및 모폴로지 조절을 이루고 메트릭스 고분자와의 상호작용을 조절하여 분산 입자의 크기조절, 균일한 모폴로지 및 고른 분산을 통해 고유전 특성 및 절연특성을 나타내는 폴리이미드-폴리아닐린 복합체 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 고유전, 폴리이미드-폴리아닐린 복합체 |
개발상태 | 기능 및 개념 검증 |
기술의 우수성 |
1) 기존 고분자 고유전체의 유전상수를 크게 상회하는 60 이상의 유전 특성을 보이기 때문에 두께가 얇은 박막으로 특성을 발현할 수 있는 장점이 있음
2) 열적 기계적 안정성이 우수할 뿐만 아니라 고유 전 특성을 발현하는 코어-쉘 입자를 고분산 시킨 고분자복합체를 박막 및 필름으로 가공할 수 있어 고유전 특성이 필요한 다양한 분야에 응용이 가능함 |
응용분야 | 1) 전기전자회사 |
시장규모 및 동향 |
1) 시장규모 : 7,200억원(2013) 2) Fuji Chimera Research(2009)의 유망전자부품재료 조사총람에 따르면, Emerging Market in High Performance Electronics & Printable Electronics의 세계시장은 2009년 1.320억원에서 해마다 성장하여 2013년에 7,200억원으로 추산됨 (growth rate 54%) |
희망거래유형 | |
사업화적용실적 | |
도입시고려사항 |
과제고유번호 | 1415115449 |
---|---|
세부과제번호 | K0004127 |
연구과제명 | 화학소재의 내열/수축 특성 및 유전특성 제어기술 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
연구주관기관명 | 한국생산기술연구원 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 200807~201206 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
과제고유번호 | 1415100340 |
---|---|
세부과제번호 | K0004127 |
연구과제명 | 화학소재의내열/수축특성및유전특성제어기술 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
연구주관기관명 | 한국생산기술연구원 |
성과제출연도 | 2009 |
연구기간 | 200807~201206 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
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[KST2015139887][한국화학연구원] | 트리플루오로 비닐 에테르기를 포함하는 화합물, 이를 포함하는 폴리이미드 공중합체, 이들의 제조방법 및 이를 이용한 광학용 필름 또는 디스플레이용 기판 | 새창보기 |
[KST2015138631][한국화학연구원] | 에틸렌이민 커플링제를 이용한 폴리이미드 필름의표면개질방법, 그를 이용한 동박 적층 필름의 제조방법 및그로 제조된 2층 구조의 동박 적층필름 | 새창보기 |
[KST2021000595][한국화학연구원] | 폴리아미도아민 입자 및 이를 이용한 중금속 오염수의 처리방법 | 새창보기 |
[KST2022023453][한국화학연구원] | 지속 가능한 자원과 이산화탄소를 이용한 폴리옥사졸리돈의 제조방법, 이를 이용하여 제조된 폴리옥사졸리돈 및 이를 포함하는 성형체 | 새창보기 |
[KST2015139123][한국화학연구원] | 무색 투명의 고접착성 지방족 폴리이미드 수지와 이를이용한 폴리이미드/무기물 복합 소재 | 새창보기 |
[KST2015000880][한국화학연구원] | 신규한 폴리이미드 중합체, 이의 제조방법 및 이를 이용한 유기절연막 | 새창보기 |
[KST2015000830][한국화학연구원] | 고내열 폴리이미드 화합물, 이를 포함하는 유기절연체 조성물및이를이용한박막트랜지스터 | 새창보기 |
[KST2022005645][한국화학연구원] | 저유전성 폴리이미드 수지 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[KST2015139782][한국화학연구원] | 머리-꼬리 구조가 제어된 폴리아미드이미드의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2015140015][한국화학연구원] | 전유기 박막트랜지스터 절연체용 저온경화형 감광성폴리이미드 수지 | 새창보기 |
[KST2019025446][한국화학연구원] | 아이소헥사이드 다이안하이드라이드 단량체, 이로부터 제조된 폴리이미드 및 이들의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014000175][한국화학연구원] | 저온공정용 가용성 폴리이미드 수지 혼합 조성물 및 이를 절연막으로 사용하여 제조한 전유기 박막 트랜지스터 소자 | 새창보기 |
[KST2014006733][한국화학연구원] | 신규의 아믹산 올리고머와 이를 이용하여 개질된 친유기성층상실리케이트를 함유하는 폴리이미드 나노복합재 (New Oligomeric amic acid and Polyimide Nano | 새창보기 |
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[KST2015138037][한국화학연구원] | 광통신용 폴리이미드 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[KST2015138428][한국화학연구원] | 감광성 투명 폴리아믹산 유도체와 폴리이미드계 수지 | 새창보기 |
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