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웨이퍼 세정기술

  • 기술번호 : KST2015002549
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 펨토초 레이저를 이용한 웨이퍼의 건식세정방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 실리콘 웨이퍼 상의 오염물질을 제거하는 레이저를 이용한 건식세정방법에 있어서, 펨토초 레이저의 빔 축과 웨이퍼 표면이 평행하도록 펨토초 레이저 및 웨이퍼를 준비하는 단계; 및 펨토초 레이저를 조사하여 웨이퍼 표면을 세정하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의하면, 세정대상물을 파손하지 않고, 광대역에 걸쳐 고효율의 세정효과를 얻을 수 있는 친환경적인 펨토초 레이저를 이용한 웨이퍼의 건식세정방법을 제공할 수 있다. 펨토초레이저, 건식세정, 웨이퍼, 플라즈마, 플라즈마 라인 빔
Int. CL H01L 21/304 (2006.01) H01L 21/268 (2006.01)
CPC H01L 21/02098(2013.01)
출원번호/일자 1020080042880 (2008.05.08)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-0931001-0000 (2009.12.02)
공개번호/일자 10-2009-0117020 (2009.11.12) 문서열기
공고번호/일자 (20091210) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.05.08)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조성학 대한민국 대전 서구
2 박정규 대한민국 대전광역시 유성구
3 유병헌 대한민국 서울 광진구
4 장원석 대한민국 대전 유성구
5 김재구 대한민국 대전 유성구
6 최두선 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장한특허법인 대한민국 서울특별시 서초구 서초대로 ***, **층 (서초동, 서초지웰타워)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.05.08 수리 (Accepted) 1-1-2008-0328905-87
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2009.05.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2009.06.12 수리 (Accepted) 9-1-2009-0035135-31
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.08.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0349911-79
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2009.10.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0617411-70
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.10.08 수리 (Accepted) 1-1-2009-0617412-15
7 등록결정서
Decision to grant		 2009.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0491340-51
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
실리콘 웨이퍼 상의 오염물질을 제거하는 레이저를 이용한 건식세정방법에 있어서, 펨토초 레이저의 빔 축과 웨이퍼 표면이 평행하도록 상기 펨토초 레이저를 조사하여 상기 웨이퍼 표면을 세정하되, 상기 펨토초 레이저의 빔은 유기 집광으로 인한 플라즈마 점 형태 또는 플라즈마 셀프 필라멘트인 라인 형태로 구현된 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저를 이용한 웨이퍼의 건식세정방법
2 2
삭제
3 3
제 1항에 있어서, 상기 펨토초 레이저의 빔 축과 웨이퍼 사이의 거리는 100~200㎛인 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저를 이용한 웨이퍼의 건식세정방법
4 4
제 3항에 있어서, 상기 펨토초 레이저의 펄스폭은 100fs이고, 펄스에너지는 3
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.