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냉각판을 이용한 고분자 분산 액정 소자의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015003535
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요약 본 발명은 냉각판을 이용한 고분자 분산 액정 소자의 제조방법 및 이에 의해 제조된 고분자 분산 액정 소자에 관한 것이다.본 발명에 의한 제조방법은 비교적 간단한 방법으로 효율적으로 열을 제거할 수 있는 기능을 가진 냉각판을 이용하여 구동전압의 특성 개선은 물론 고분자 분산 액정 소자의 제조 단가를 낮추는 효과도 기대할 수 있다.
Int. CL G02F 1/1334 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020120094969 (2012.08.29)
출원인 동국대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1347940-0000 (2013.12.27)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20140108) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.08.29)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 동국대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 중구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 한정인 대한민국 서울 송파구
2 김재용 대한민국 인천 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다나 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *길 **, 신관 *층~*층, **층(역삼동, 광성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 (주) 코아콘 충청남도 아산시 음봉면
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.08.29 수리 (Accepted) 1-1-2012-0696901-19
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.08.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.08.27 수리 (Accepted) 9-1-2013-0072475-89
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.09.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0646529-02
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.11.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-1041665-12
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.11.15 수리 (Accepted) 1-1-2013-1041654-10
7 등록결정서
Decision to grant
2013.12.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0895120-16
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2014-0002002-62
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.16 수리 (Accepted) 4-1-2019-5163486-33
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 2~7장의 기판을 스페이서(spacer)가 혼합된 UV 접착제로 합착시켜 갭(gap)을 형성하는 단계; (b) 프리폴리머(pre-polymer) 및 액정(liquid crystal)이 혼합된 액정혼합액을 상기 갭에 주입하는 단계; 및 (c) UV 로 경화 및 냉각판으로 냉각하는 경화 및 냉각하는 단계를 포함하는 고분자 분산 액정 소자의 제조방법으로, 상기 UV의 경화시 UV의 세기는 80~780 uW/cm2인 것을 특징으로 하는 고분자 분산 액정 소자의 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 기판은 산화 인듐-주석(Indium-Tin Oxide)이 증착된 유리, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌술폰, 폴리이미드, 폴리싸이클릭 올레핀, 폴리아릴레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트 또는 폴리에텔에테르케톤인 것을 특징으로 하는 고분자 분산 액정 소자의 제조방법
3 3
제 1항에 있어서, 상기 스페이서의 소재는 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)인 것을 특징으로 하는 고분자 분산 액정 소자의 제조방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 프리폴리머는 acrylate 계, thiolene 계 또는 expoxy 계인 것을 특징으로 하는 고분자 분산 액정 소자의 제조방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 액정은 E7인 것을 특징으로 하는 고분자 분산 액정 소자의 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 프리폴리머 및 액정의 질량비율은 50:50~20:80인 것을 특징으로 하는 고분자 분산 액정 소자의 제조방법
7 7
삭제
8 8
제1항에 있어서, 상기 냉각판을 사용하여 UV 조사하는 동안의 온도를 5~25 ℃로 유지하는 것을 특징으로 하는 고분자 분산 액정 소자의 제조방법
9 9
삭제
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1 US09028290 US 미국 FAMILY
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1 US2014065917 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US9028290 US 미국 DOCDBFAMILY
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1 지식경제부 ㈜영우화인텍 부품소재기술개발사업 (단독사업) 고분자분산형액정(PDLC) 적용한 오토쉐이딩 기능의 기능성 안경 렌즈 및 렌즈 제어 모듈 개발