맞춤기술찾기
이전대상기술
전자파 측정실 설계 및 평가 기술
- 기술번호 : KST2015021050
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명은 전자파 잔향실에 관한 것으로, 실내의 반사 특성을 조절하기 위해 의도된 공간에 전자파 흡수 장치가 설치되며 전자파 흡수 장치는 전자파 저지대 구조를 가지고, 이처럼 전자파저지대와 같은 주기 구조 기술을 응용한 소형 및 박형의 전자파 흡수 장치를 포함하는 전자파 잔향실을 제공함으로써 사용자가 더 넓은 내부 공간을 활용할 수 있게 하여 다양한 크기의 시험기기를 테스트할 수 있게 하고 동일 시험기기에 대해 더 적은 공간이 요구되므로 전자파 잔향실의 제작비를 크게 절감할 수 있는 이점이 있다. |
|---|---|
| Int. CL | G01R 29/08 (2006.01) |
| CPC | G01R 29/0814(2013.01) G01R 29/0814(2013.01) G01R 29/0814(2013.01) G01R 29/0814(2013.01) G01R 29/0814(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020100133406 (2010.12.23) |
| 출원인 | 한국전자통신연구원 |
| 등록번호/일자 | |
| 공개번호/일자 | 10-2012-0071740 (2012.07.03) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 등록 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2015.12.03) |
| 심사청구항수 | 17 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국전자통신연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 심동욱 | 대한민국 | 충청북도 청주시 흥덕구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 특허법인 무한 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국전자통신연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2010.12.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0852263-23 |
| 2 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.02.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-0006137-44 |
| 3 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination) |
2015.12.03 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-1184186-87 |
| 4 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2016.08.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 5 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2016.10.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-1006807-47 |
| 6 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2016.11.02 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0794714-38 |
| 7 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2016.11.02 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-6-2016-0142555-84 |
| 8 | [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative) |
2017.01.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2017-0001332-12 |
| 9 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2017.01.02 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2017-0001634-95 |
| 10 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2017.01.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2017-0001635-30 |
| 11 | 등록결정서 Decision to grant |
2017.05.23 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2017-0361253-93 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 실내의 반사 특성을 조절하기 위해 의도된 공간에 전자파 흡수 장치가 설치되며, 상기 전자파 흡수 장치는 복수의 단위셀이 주기적으로 배열되고,상기 단위셀은, 금속 도체층과, 상기 금속 도체층 위에 형성된 유전체층과, 상기 유전체층 위에 저항성 재질로 형성된 단위셀 패턴을 포함하는 전자파 저지대 구조를 가지는전자파 잔향실 |
| 2 |
2 삭제 |
| 3 |
3 실내의 반사 특성을 조절하기 위해 의도된 공간에 전자파 흡수 장치가 설치되며, 상기 전자파 흡수 장치는 복수의 단위셀이 주기적으로 배열되고,상기 단위셀은, 금속 도체층과, 상기 금속 도체층 위에 형성된 유전체층과, 상기 유전체층 위에 금속 재질로 형성된 단위셀 패턴과, 상기 단위셀 패턴 위에 형성된 저항 피막을 포함하는전자파 잔향실 |
| 4 |
4 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 단위셀 패턴은, 다각형, 원형 또는 루프형 중에서 적어도 하나 이상의 형태를 포함하는전자파 잔향실 |
| 5 |
5 제 1 항에 있어서,상기 전자파 흡수 장치는, 주기적으로 배열되어 서로 인접한 상기 단위셀의 상기 단위셀 패턴들이 서로 다른 표면 저항 값을 가지는전자파 잔향실 |
| 6 |
6 제 1 항에 있어서,상기 전자파 흡수 장치는, 상기 단위셀을 주기적으로 배열할 때에 서로 인접한 상기 단위셀 패턴의 구조 또는 표면 저항 값 중에서 적어도 하나 이상이 서로 다르게 배치되도록 교대로 배치한전자파 잔향실 |
| 7 |
7 제 1 항에 있어서,상기 단위셀 패턴은, 정사각형에서 각 변 중앙이 직사각형 모양으로 패인 형태로 중앙에 위치하는 기본 패치와,일정한 각도에 의해 상기 기본 패치의 상측, 하측, 좌측 및 우측의 각 중앙에 일정 간격을 두고 상기 기본 패치와 맞물려 배치된 반 직교다이폴 패치를 포함하는전자파 잔향실 |
| 8 |
8 제 7 항에 있어서,상기 전자파 흡수 장치는, 상기 기본 패치와 상기 반 직교다이폴 패치의 전기적 길이를 결정하는 구조 파라미터, 상기 기본 패치와 상기 반 직교다이폴 패치의 간격, 상기 금속 도체층으로부터 상기 단위셀 패턴까지의 높이, 상기 유전체층의 재료 특성, 상기 단위셀 패턴의 표면 저항 값 중에서 적어도 하나 이상을 조절하여 공진 주파수 및 대역폭을 조절하는전자파 잔향실 |
| 9 |
9 제 7 항에 있어서,상기 기본 패치는, 중앙에 정사각형 구조의 제 1 슬롯이 형성된전자파 잔향실 |
| 10 |
10 제 9 항에 있어서,상기 전자파 흡수 장치는, 상기 기본 패치와 상기 반 직교다이폴 패치의 전기적 길이를 결정하는 구조 파라미터, 상기 기본 패치와 상기 반 직교다이폴 패치의 간격, 상기 금속 도체층으로부터 상기 단위셀 패턴까지의 높이, 상기 유전체층의 재료 특성, 상기 단위셀 패턴의 표면 저항 값, 상기 제 1 슬롯의 크기 중에서 적어도 하나 이상을 조절하여 공진 주파수 및 대역폭을 조절하는전자파 잔향실 |
| 11 |
11 제 9 항에 있어서,상기 기본 패치는, 상기 제 1 슬롯의 각 모서리에 길이가 일정한 정사각형 구조의 제 2 슬롯이 형성된전자파 잔향실 |
| 12 |
12 제 11 항에 있어서,상기 전자파 흡수 장치는, 상기 기본 패치와 상기 반 직교다이폴 패치의 전기적 길이를 결정하는 구조 파라미터, 상기 기본 패치와 상기 반 직교다이폴 패치의 간격, 상기 금속 도체층으로부터 상기 단위셀 패턴까지의 높이, 상기 유전체층의 재료 특성, 상기 단위셀 패턴의 표면 저항 값, 상기 제 1 슬롯의 크기, 상기 제 2 슬롯의 한 변의 길이 중에서 적어도 하나 이상을 조절하여 공진 주파수 및 대역폭을 조절하는전자파 잔향실 |
| 13 |
13 제 7 항에 있어서,상기 반 직교다이폴 패치는, 외곽변의 중앙에 반 직교다이폴 구조의 제 3 슬롯이 형성된전자파 잔향실 |
| 14 |
14 제 13 항에 있어서,상기 전자파 흡수 장치는, 상기 기본 패치와 상기 반 직교다이폴 패치의 전기적 길이를 결정하는 구조 파라미터, 상기 기본 패치와 상기 반 직교다이폴 패치의 간격, 상기 금속 도체층으로부터 상기 단위셀 패턴까지의 높이, 상기 유전체층의 재료 특성, 상기 단위셀 패턴의 표면 저항 값, 상기 제 3 슬롯의 크기 중에서 적어도 하나 이상을 조절하여 공진 주파수 및 대역폭을 조절하는전자파 잔향실 |
| 15 |
15 제 13 항에 있어서,상기 기본 패치는, 중앙에 정사각형 구조의 제 1 슬롯이 형성되며,상기 전자파 흡수 장치는, 상기 기본 패치와 상기 반 직교다이폴 패치의 전기적 길이를 결정하는 구조 파라미터, 상기 기본 패치와 상기 반 직교다이폴 패치의 간격, 상기 금속 도체층으로부터 상기 단위셀 패턴까지의 높이, 상기 유전체층의 재료 특성, 상기 단위셀 패턴의 표면 저항 값, 상기 제 1 슬롯의 크기, 상기 제 3 슬롯의 크기 중에서 적어도 하나 이상을 조절하여 공진 주파수 및 대역폭을 조절하는전자파 잔향실 |
| 16 |
16 제 13 항에 있어서,상기 기본 패치는, 중앙에 정사각형 구조의 제 1 슬롯이 형성되며, 상기 제 1 슬롯의 각 모서리에 길이가 일정한 정사각형 구조의 제 2 슬롯이 형성되고,상기 전자파 흡수 장치는, 상기 기본 패치와 상기 반 직교다이폴 패치의 전기적 길이를 결정하는 구조 파라미터, 상기 기본 패치와 상기 반 직교다이폴 패치의 간격, 상기 금속 도체층으로부터 상기 단위셀 패턴까지의 높이, 상기 유전체층의 재료 특성, 상기 단위셀 패턴의 표면 저항 값, 상기 제 1 슬롯의 크기, 상기 제 2 슬롯의 한 변의 길이, 상기 제 3 슬롯의 크기 중에서 적어도 하나 이상을 조절하여 공진 주파수 및 대역폭을 조절하는전자파 잔향실 |
| 17 |
17 제 7 항에 있어서,상기 전자파 흡수 장치는, 상기 기본 패치와 상기 반 직교다이폴 패치가 각각 다른 표면 저항 값을 가지는전자파 잔향실 |
| 18 |
18 제 8 항, 제 10 항, 제 12항, 제 14 항, 제 15 항 또는 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 구조 파라미터는, 상기 단위셀 패턴의 한 변의 길이, 상기 반 직교다이폴 패치의 상기 단위셀 패턴에 맞닿아 있는 변의 길이, 상기 반 직교다이폴 패치에서 상기 기본 패치와 맞물려 있는 부분 중 상기 기본 패치와 평행한 방향인 변의 길이, 상기 기본 패치에서 정사각형의 한 변의 길이, 상기 단위셀 패턴의 두께 또는 상기 반 직교다이폴 패치에서 상기 단위셀 패턴의 한 변으로부터 수직한 높이 중에서 적어도 하나 이상을 포함하는전자파 잔향실 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | US09035817 | US | 미국 | FAMILY |
| 2 | US20120162001 | US | 미국 | FAMILY |
DOCDB 패밀리 정보
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | US2012162001 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
| 2 | US9035817 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
| 순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 방송통신위원회 | 한국전자통신연구원 | 정보통신산업원천기술개발사업 | 전자파 기반 진단 및 방호기술 연구 |
| 등록사항 정보가 없습니다 |
|---|
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
- 해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2010.12.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0852263-23 |
| 2 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.02.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-0006137-44 |
| 3 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 | 2015.12.03 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-1184186-87 |
| 4 | 선행기술조사의뢰서 | 2016.08.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 5 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2016.10.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-1006807-47 |
| 6 | 의견제출통지서 | 2016.11.02 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0794714-38 |
| 7 | 선행기술조사보고서 | 2016.11.02 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-6-2016-0142555-84 |
| 8 | [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2017.01.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2017-0001332-12 |
| 9 | [명세서등 보정]보정서 | 2017.01.02 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2017-0001634-95 |
| 10 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2017.01.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2017-0001635-30 |
| 11 | 등록결정서 | 2017.05.23 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2017-0361253-93 |
| 기술번호 | KST2015021050 |
|---|---|
| 자료제공기관 | 미래기술마당 |
| 기술공급기관 | 한국전자통신연구원 |
| 기술명 | 전자파 측정실 설계 및 평가 기술 |
| 기술개요 |
본 발명은 전자파 잔향실에 관한 것으로, 실내의 반사 특성을 조절하기 위해 의도된 공간에 전자파 흡수 장치가 설치되며 전자파 흡수 장치는 전자파 저지대 구조를 가지고, 이처럼 전자파저지대와 같은 주기 구조 기술을 응용한 소형 및 박형의 전자파 흡수 장치를 포함하는 전자파 잔향실을 제공함으로써 사용자가 더 넓은 내부 공간을 활용할 수 있게 하여 다양한 크기의 시험기기를 테스트할 수 있게 하고 동일 시험기기에 대해 더 적은 공간이 요구되므로 전자파 잔향실의 제작비를 크게 절감할 수 있는 이점이 있다. |
| 개발상태 | 연구실환경 테스트 |
| 기술의 우수성 |
1) 기술의 특징 - 실제 전자파 환경을 고려한 전기·전자기기의 전자파적합성(EMC) 성능 평가(전자파 장해(EMI) 및 내성(EMS), 차폐효과(SE))가 가능함 - 전 방향에서 정해진 세기의 전자파 노출이 가능한 측정 장치로서 동물 및 세포의 전자파 영향 평가 적절한 시설임 2) 기술적 측면 - 전자파 무반사실의 대형 시설을 보다 현실적인 측정 환경으로 구현한 IEC61000-4-21 기반의 소형 전자파 측정실임 - 동물/세포 실험에 있어 다방향에서의 균일한 전자파 노출이 가능함 3) 사업적 측면 - 특수한 재료가 필요 없고 제작 방식이 용이함 - 기존 측정실의 응용이 가능하고 초기 투자 비용 30% 이상 절감 - 유지보수 비용 40% 이상 절감 |
| 응용분야 |
1) 본 이전기술은 다양한 전자 기기의 EMC 성능 평가와 연계되어 필수적인 전자파 측정 시설로 응용이 가능하기에 본 기술이 진출 가능한 시장은 통신기기, 정보기기, 방송기기, 정보통신 응용기기 등의 산업 등이 있음 - 본 기술의 주요 수요처는 소수의 대기업과 다수의 중소기업들로 예상되며 보다 상세하게는 유무선 정보통신 기기 개발 업체 또는 EMC를 포함한 전자파 인증 업체들로 일정 수준의 수요처가 확보 가능할 것으로 판단됨 - 이전기술의 적용 翕籠害？？？？？？？？？？ ？ ？？ ？란1？( 1？ ？？？ ` ？？？？ ？ ？？延？？ ？？？？？1？ ？？彿廷？廷巫廷？？맘？彿廷만？塚廷맘？？？ ？？學廷漸？？？廷？？？廷 圭廷？ ？( ？(？？？ % 괰1？？？？？괰1？( 괰1？ ？？？괰1？ ？괴1？ ？팃痛괴1？？괴1？큁痛괴1？？？≪？？ ？？痛멜？ ？？專？i ？？？？굤1瑄？ 괴1 |
| 시장규모 및 동향 |
1) 본 기술과 관련한 상용화 사례 없음 2) 연구소 및 학계를 중심으로 전자파적합성(EMC) 측정 평가 기술에 대한 연구 수행 중 (미국 NIST, ETS-Lindgren, Oklahoma State Univ., 영국 NPL, York Univ., 한국표준과학연구원, 한국산업기술시험원, 한양대 등) 3) ETRI에서는 (G)TEM Cell 등 EMC 대용시설 설계 및 성능 평가 연구 수행, 국내외 표준에 반영, 기존의 전자파 측정 시설에 적용 가능한 전자파 흡수 소재 설계 기술 보유 |
| 희망거래유형 | |
| 사업화적용실적 | |
| 도입시고려사항 |
| 과제고유번호 | 1415108551 |
|---|---|
| 세부과제번호 | KI001685 |
| 연구과제명 | 전자파 기반 진단 및 방호 기술 연구 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
| 연구주관기관명 | 한국전자통신연구원 |
| 성과제출연도 | 2010 |
| 연구기간 | 200703~201102 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
특허성과
| [1020100133780] | I파 흡수 장치 | 새창보기 |
|---|---|---|
| [1020100133779] | 인공자기도체와 결합된 영차 공진 메타 안테나 | 새창보기 |
| [1020100133406] | 전자파 측정실 설계 및 평가 기술 | 새창보기 |
| [1020100133403] | I파 인체 보호 장치 | 새창보기 |
| [1020100129433] | 적응형 파라미터 메쉬를 이용한 전자파 단층영상 복원 방법 | 새창보기 |
| [1020100120470] | IC 캐패시터의 제조 방법 | 새창보기 |
| [1020100082941] | 광대역 노이즈를 억제하는 I기 밴드갭 구조 | 새창보기 |
| [1020100017366] | 전자파 노출을 진단하기 위한 마커 및 이를 포함하는 키트 | 새창보기 |
| [1020100017365] | 전자파 노출을 진단하기 위한 마커 및 이를 포함하는 키트 | 새창보기 |
| [1020100017364] | 전자파 노출을 진단하기 위한 마커 및 이를 포함하는 키트 | 새창보기 |
| [1020100010330] | 시험관 실험을 위한 다중 주파수 노출장치 | 새창보기 |
중요키워드
| [KST2019001655][한국전자통신연구원] | 전자파 잔향실 기반의 복사성 방출 측정 방법 및 복사성 방출 측정 시스템 | 새창보기 |
|---|---|---|
| [KST2016020275][한국전자통신연구원] | 액체 속에서 동작하는 안테나의 성능 측정 장치 및 방법(Performance Measuring Apparatus and Method for Antenna Operating in Liquid) | 새창보기 |
| [KST2016017346][한국전자통신연구원] | 통계적 기법을 이용한 전자파 양립성 평가 방법(Method for Evaluation of Electromagnetic compatibility using statistical approach) | 새창보기 |
| [KST2017016143][한국전자통신연구원] | 드론에서의 실내 위치 기반 무인 전파측정 장치 및 방법(APPARATUS AND METHOD FOR UNMANNED RADIO WAVE MEASUREMENT IN DRONE) | 새창보기 |
| [KST2014031942][한국전자통신연구원] | 실내 공간의 전자파 환경 재현 시설 및 그 구축 방법 | 새창보기 |
| [KST2015089401][한국전자통신연구원] | 행성 간 공간의 전파를 관측하는 시스템 및 방법 | 새창보기 |
| [KST2015086189][한국전자통신연구원] | ＲＦＩＤ 인식 영역 가시화 방법 및 장치 | 새창보기 |
| [KST2015080526][한국전자통신연구원] | 직선형 이중편파 티이엠 라인 | 새창보기 |
| [KST2015079229][한국전자통신연구원] | 티이엠 도파관을 이용한 복사체의 전자파 복사 패턴 및이득 측정 방법 | 새창보기 |
| [KST2014045074][한국전자통신연구원] | 근장 스캔 보정 방법 및 장치 | 새창보기 |
| [KST2016021051][한국전자통신연구원] | 기지국 전자파 노출 관리 장치 및 방법(APPARATUS AND METHOD FOR MANAGING ELECTROMAGNETIC WAVES EXPOSURE FROM BASE STATION) | 새창보기 |
| [KST2015092298][한국전자통신연구원] | 잡음 파라미터 추정 방법 및 장치 | 새창보기 |
| [KST2015076892][한국전자통신연구원] | 결합전송선로셀 | 새창보기 |
| [KST2015100108][한국전자통신연구원] | ＲＦＩＤ 리더 장치와 그의 ＲＦＩＤ 태그 인식 방법 및 수신 전력 패턴 분석 장치 | 새창보기 |
| [KST2015095404][한국전자통신연구원] | 강우에 의한 전계 강도 감쇠 측정장치 | 새창보기 |
| [KST2015084839][한국전자통신연구원] | 마이크로웨이브 토모그래피 장치와 그 제어 방법 | 새창보기 |
| [KST2014045505][한국전자통신연구원] | 근역장 또는 프레넬장의 크기값 패턴을 이용한 위상값 패턴 예측 방법 | 새창보기 |
| [KST2015090787][한국전자통신연구원] | 전파 시스템에서 전자파 프로파게이션 분석 장치 및 방법 | 새창보기 |
| [KST2015098412][한국전자통신연구원] | 안테나 방사전력 측정 장치 및 방법 | 새창보기 |
| [KST2015082245][한국전자통신연구원] | 기지국 전자파의 인체 노출량 평가 장치 및 그 방법 | 새창보기 |
| [KST2015091272][한국전자통신연구원] | 전파 시스템에서 전자파 분포 분석 장치 및 방법 | 새창보기 |
| [KST2014031708][한국전자통신연구원] | ＥＭＣ 측정용 안테나 | 새창보기 |
| [KST2014031692][한국전자통신연구원] | 실내 공간의 전자파 환경 재현 방법 | 새창보기 |
| [KST2019005816][한국전자통신연구원] | 전자파 잔향실 | 새창보기 |
| [KST2015091083][한국전자통신연구원] | ＴＥＭ 셀 | 새창보기 |
| [KST2015091140][한국전자통신연구원] | 전자기파 장해 측정 장치 및 전자기파 장해 측정 방법 | 새창보기 |
| [KST2014045292][한국전자통신연구원] | I기장의 실시간 모니터링 및 트래킹 장치 및 방법 | 새창보기 |
| [KST2015092119][한국전자통신연구원] | RF 수동부품 내성 시험 장치 및 방법 | 새창보기 |
| [KST2015085957][한국전자통신연구원] | 가우시안 전파 잡음 판별 시스템 및 방법 | 새창보기 |
| [KST2015083802][한국전자통신연구원] | 무인 원격 비행체를 이용한 전자파 강도 측정장치 및 그방법 | 새창보기 |
| 심판사항 정보가 없습니다 |
|---|