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제1 기판;상기 제1 기판의 하면에 위치하는 중간층;상기 중간층에 제1 방향으로 형성되는 제1 투명 전극;상기 제1 투명 전극을 전기적으로 연결하는 제1 배선;상기 제1 기판과 이격되어 위치하는 제2 기판; 상기 제1 투명 전극과 전기적으로 절연되고, 제2 기판 상에 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 형성되는 제2 투명 전극; 및상기 제2 투명 전극을 전기적으로 연결하는 제2 배선 을 포함하는 터치 패널
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제1항에 있어서,상기 중간층은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널
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제3항에 있어서,상기 중간층이 단층 또는 다층으로 형성되는 터치 패널
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제1항에 있어서,상기 제1 기판과 상기 제2 기판 사이에 형성되는 광학용 투명 접착제(optically clear adhesive, OCA)를 포함하는 터치 패널
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제1항에 있어서,상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 중 적어도 어느 하나에 반사 방지층이 형성되는 터치 패널
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제6항에 있어서,상기 반사 방지층은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널
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제7항에 있어서,상기 반사 방지층은 단층 또는 다층으로 형성되는 터치 패널
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제1항에 있어서,상기 제1 기판은 유리를 포함하는 터치 패널
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제1항에 있어서,상기 제2 기판은 유리 및 폴리 에틸렌테레프탈레이트(poly (ethylene terephthalate), PET)필름으로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널
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제1항에 있어서,상기 제2 기판에 보호층이 형성되는 터치 패널
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제11항에 있어서,상기 보호층은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 적어도 어느 하나를 포함하는 터치 패널
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제12항에 있어서,상기 보호층이 단층 또는 다층으로 형성되는 터치 패널
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제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 배선의 선폭이 80 um 이하인 터치 패널
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제1 기판을 준비하는 단계;상기 제1 기판에 중간층을 형성하는 단계;상기 중간층에 제1 방향으로 제1 투명 전극을 형성하는 단계;상기 제1 투명 전극을 전기적으로 연결하는 제1 배선을 형성하는 단계;상기 제1 기판과 이격되어 위치하는 제2 기판을 준비하는 단계;상기 제2 기판에 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 제2 투명 전극을 형성하는 단계;상기 제2 투명 전극을 전기적으로 연결하는 제2 배선을 형성하는 단계; 및상기 상기 제1 기판과 상기 제2 기판을 합착하는 단계를 포함하는 터치 패널의 제조 방법
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제15항에 있어서,상기 중간층은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널의 제조 방법
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제15항에 있어서,상기 제1 배선을 형성하는 단계 및 상기 제2 배선을 형성하는 단계는, 그라비아 오프 셋(gravure off set), 스크린(screen) 인쇄, 그라비아(gravure) 인쇄 및 스퍼터링(sputtering) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 터치 패널의 제조 방법
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