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매엽식 웨이퍼 세정 장치에 있어서, 챔버;상기 챔버 내에 구비되고 웨이퍼가 안착되는 지지대;상기 웨이퍼 위로 세정액을 분사하는 세정액 공급부;상기 챔버 내에 구비되고 세정공정 동안 비산되는 세정액 및 세정공정 동안 발생하는 흄(fume)을 포함하는 배기가스를 포집하는 회수부;상기 회수부와 연결되어 상기 챔버 내부의 비산된 세정액 및 배기가스를 외부로 배출시키는 배기부; 를 포함하고, 상기 회수부는,상기 챔버의 중심으로부터 하방 외측으로 경사지게 형성되고, 상기 비산된 세정액 및 배기가스가 배출되는 배출 유로를 형성하는 벽부;상기 벽부에 의해 형성되는 공간으로 불활성가스를 분사하는 가스공급부;를 구비하고,상기 가스공급부는, 상기 벽부를 따라 이격되어 불활성가스를 분사하는 복수의 가스공급관과, 상기 가스공급관으로 불활성가스를 공급하는 가스공급장치를 포함하고,상기 가스공급관은 상기 웨이퍼 표면에 수직인 직선에 대해 0°초과 90°미만 사이에서 상기 비산된 세정액 및 배출가스가 배출되는 방향으로 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 매엽식 웨이퍼 세정장치
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제1항에 있어서,상기 회수부는 컵 형상을 갖거나 또는 환형으로 되어 상기 웨이퍼를 감싸는 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 매엽식 웨이퍼 세정장치
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제2항에 있어서,상기 벽부의 선단부는 라운드지게 형성되는 것을 특징으로 하는 매엽식 웨이퍼 세정장치
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 지지대는 상기 웨이퍼를 회전 가능하게 지지하는 스핀척으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 매엽식 웨이퍼 세정장치
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제8항에 있어서,상기 스핀척은 상기 웨이퍼를 지지하는 복수의 척핀을 포함하는 것을 특징으로 하는 매엽식 웨이퍼 세정장치
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 챔버의 상부에 구비되어 상기 챔버 하부로 불활성가스를 분사하는 가스공급노즐;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 매엽식 웨이퍼 세정장치
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 챔버의 하단에 배치된 세정액 배수관;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 매엽식 웨이퍼 세정장치
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 지지대는 승강 가능하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 매엽식 웨이퍼 세정장치
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챔버 내에서 웨이퍼의 세정동안 비산되는 세정액을 포집하여 배출하기 위한 회수컵을 구비하고, 상기 회수컵의 내벽을 따라 이격된 복수의 가스공급관을 통해 불활성가스를 분사하고, 상기 가스공급관은 웨이퍼 표면에 수직인 직선에 대해 0°초과 90°미만 사이에서 상기 비산된 세정액이 배출되는 방향으로 경사지게 형성된 것을 특징으로 하는 매엽식 웨이퍼 세정장치
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