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금속 산화물/질화물/황화물 박막의 전사 방법 및 이에 사용되는 전사용 시트

  • 기술번호 : KST2015067948
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 기재 상에 금속 산화물/질화물/황화물 박막을 형성하고 고분자 지지층을 형성한 뒤 기재를 제거하여 수득하는 전사용 시트는, 원하는 다른 기재 상에 접착한 뒤 고분자 지지층을 제거함으로써 금속 산화물/질화물/황화물 박막을 전사 하는데 유용하게 사용될 수 있으며, 이와 같이 전사된 금속 산화물/질화물/황화물 박막은 원하는 두께로 형성될 수 있어서, 그래핀 전극 등을 사용하는 다양한 전자 소자의 제조를 보다 용이하게 할 수 있다.
Int. CL H01L 29/786 (2006.01) G02F 1/1368 (2006.01) H01L 51/50 (2006.01)
CPC B32B 9/041(2013.01) B32B 9/041(2013.01)
출원번호/일자 1020120048247 (2012.05.07)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-1431595-0000 (2014.08.12)
공개번호/일자 10-2013-0124820 (2013.11.15) 문서열기
공고번호/일자 (20140822) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.05.07)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이선숙 대한민국 대전 중구
2 정대성 대한민국 경북 포항시 북구
3 이영국 대한민국 대전 유성구
4 안기석 대한민국 대전광역시 유성구
5 김성준 대한민국 대전 서구
6 강성구 대한민국 경남 진주시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 제일특허법인(유) 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.05.07 수리 (Accepted) 1-1-2012-0363848-65
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.05.03 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.05.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0444615-02
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.06.05 수리 (Accepted) 9-1-2013-0041806-83
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0607124-66
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2013-0956412-50
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.11.29 수리 (Accepted) 1-1-2013-1094176-17
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.12.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-1208678-11
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.12.30 수리 (Accepted) 1-1-2013-1208675-85
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2014.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0345789-63
11 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)		 2014.06.10 수리 (Accepted) 7-1-2014-0021508-90
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.07.21 수리 (Accepted) 1-1-2014-0682206-92
13 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2014.07.21 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0682231-23
14 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2014.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0525336-72
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 제 1 기재 상에 금속 산화물, 금속 질화물, 금속 황화물 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 물질을 포함하는 금속계 박막을 형성하는 단계; (b) 상기 금속계 박막 위에 고분자 지지층을 형성하는 단계; (c) 상기 제 1 기재를 제거하여 고분자 지지층과 금속계 박막이 적층된 전사용 시트를 수득하는 단계; (d) 상기 전사용 시트를 금속계 박막 면이 접하도록 제 2 기재에 접착시키는 단계; 및(e) 상기 전사용 시트의 고분자 지지층을 제거하는 단계를 포함하며,이때 상기 단계 (d)의 접착이, 접착층의 사용없이, 상기 전사용 시트의 금속계 박막 면에 물을 적시고 금속계 박막을 제 2 기재에 접합시킨 뒤 건조를 통해 물을 증발시키면서 반데르발스 힘에 의해 접착시킨 후 가열하여 물기를 제거하는 것임을 특징으로 하는, 금속계 박막의 전사 방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 단계 (e) 이후에 추가로 단계 (a) 내지 (e)를 1회 이상 반복하여, 상기 제 2 기재 상에 상기 금속계 박막을 복수개 전사하는 것을 특징으로 하는, 금속계 박막의 전사 방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 단계 (a)에서 상기 금속 산화물이 산화알루미늄(Al2O3), 산화실리콘(SiO2), 산화아연(ZnO), 산화하프늄(HfO2), 산화지르코늄(ZrO2), 산화티타늄(TiO2), 산화주석 (SnO2) 및 이들의 혼합물로부터 선택되고;상기 금속 질화물이 질화갈륨(GaN), 질화붕소(BN), 질화알루미늄(AlN), 질화티타늄(TiN), 질화인듐(InN), 및 이들의 혼합물로부터 선택되고;상기 금속 황화물이 이황화몰리브덴(MoS2), 황화카드뮴(CdS), 황화아연(ZnS), 이황화텅스텐(WS2), 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 금속계 박막의 전사 방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 단계 (a)에서 금속계 박막의 형성이 원자층증착법(ALD), 화학기상증착법(CVD), 화학적용액성장법(CBD), 잉크젯, 스핀코팅, 졸겔법, 인쇄공정, 스퍼터링법, 또는 열 증착법에 의해 실시되는 것을 특징으로 하는, 금속계 박막의 전사 방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 단계 (b)에서 고분자 지지층이 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리디메틸실록산(PDMS), 및 열박리성테이프(thermal release tape)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 금속계 박막의 전사 방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 단계 (c)에서 제 1 기재의 제거가 에칭 용액 또는 유기 용매에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는, 금속계 박막의 전사 방법
7 7
삭제
8 8
제 1 항에 있어서, 상기 단계 (b)에서 고분자 지지층이 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)이고, 상기 단계 (e)에서 유기 용매에 의해 고분자 지지층을 제거하는 것을 특징으로 하는, 금속계 박막의 전사 방법
9 9
삭제
10 10
삭제
11 11
삭제
12 12
삭제
13 13
삭제
14 14
제 1 항 내지 제 6 항 및 제 8 항 중 어느 한 항의 방법에 의해 전사된 금속계 박막을 포함하는, 전자 소자
15 15
제 14 항에 있어서, 상기 전자 소자가 그래핀(graphene) 소재의 전극 또는 채널층을 포함하는 것을 특징으로 하는, 전자 소자
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1 WO2013168968 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2013168968 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국화학연구원 미래기반기술개발사업 분자제어를 통한 기능성 유/무기 소재 및 유연 전자 소자 개발
2 산업기술연구회 한국화학연구원 기관고유사업 정보전자 산업용 전구체 개발