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전자회로 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015069091
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일 실시예에 따른 전자회로는 편평한 소자영역 및 굴곡진 배선영역을 가지는 기판을 포함할 수 있다. 도전배선은 배선영역 상의 요철부를 따라 연장되며 굴곡질 수 있다. 요철부 및 도전배선은 물결형상을 가질 수 있다. 외부에서 전자회로에 가해지는 힘은 요철부 및 도전배선에 의하여 수용될 수 있다. 전자소자는 외부의 힘에 의하여 영향을 받지 않을 수 있다. 이에 따라, 전자회로의 기능을 유지할 수 있다. 본 발명에 따른 전자회로의 제조방법은 배선영역 및 소자영역의 면적 및 위치를 용이하게 조절할 수 있다. 또한 요철부의 구조와 형태도 제어할 수 있다. 즉 요철부의 물결형상의 진폭, 주기, 및/또는 방향성을 제어할 수 있다. 본 발명의 전자회로 제조방법은 대면적 적용이 가능하며, 신뢰성이 향상될 수 있다.
Int. CL H05K 1/02 (2006.01.01) H01L 21/60 (2006.01.01) H05K 3/32 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020120105893 (2012.09.24)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2014-0039572 (2014.04.02) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.06.13)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박찬우 대한민국 대전 유성구
2 구재본 대한민국 대전 서구
3 임상철 대한민국 대전 유성구
4 오지영 대한민국 대전 중구
5 정순원 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.09.24 수리 (Accepted) 1-1-2012-0773979-98
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2015.01.13 수리 (Accepted) 1-1-2015-0033916-80
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2017.06.13 수리 (Accepted) 1-1-2017-0562202-32
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2019.03.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0182787-21
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2019.05.10 수리 (Accepted) 1-1-2019-0478923-18
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2019.05.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0478924-53
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2019.09.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0664425-92
9 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2019.10.04 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2019-1015399-24
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2019.10.04 수리 (Accepted) 1-1-2019-1015398-89
11 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2019.10.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0790210-50
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번호 청구항
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배선영역 및 소자영역을 포함하는 기판을 제공하는 것; 상기 배선영역 상에 도전배선을 형성하고, 상기 소자영역 상에 전자소자를 형성하는 것; 및상기 기판 상에 캐핑층을 형성하는 것을 포함하되, 상기 배선영역은 요철부를 가지며, 상기 소자영역은 편평하고, 상기 기판을 제공하는 것은:제1 영역 및 제2 영역을 포함하는 포토레지스트층이 도포된 모기판을 제공하는 것; 그레이스케일 포토마스크를 사용하여 상기 제1 영역 상에 물결모양의 패턴을 형성하는 것;상기 포토레지스트층 상에 탄성중합체를 도포하여 상기 기판을 형성하는 것; 및상기 모기판 및 상기 포토레지스트층으로부터 상기 기판을 분리하는 것을 포함하는 전자회로 제조방법
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제 7항에 있어서, 상기 제1 영역은 상기 기판의 상기 배선영역과 대응되는 위치 및 반전된 구조를 가지고, 상기 제2 영역은 상기 기판의 상기 소자영역과 대응되는 위치 및 반전된 구조를 가지는 것을 포함하는 전자회로 제조방법
10 10
배선영역 및 소자영역을 포함하는 기판을 제공하는 것; 상기 배선영역 상에 도전배선을 형성하고, 상기 소자영역 상에 전자소자를 형성하는 것; 및상기 기판 상에 캐핑층을 형성하는 것을 포함하되, 상기 배선영역은 요철부를 가지며, 상기 소자영역은 편평하고, 상기 기판을 제공하는 것은: 광개시제가 포함된 탄성중합체를 모기판 상에 도포하여 상기 기판을 형성하는 것; 및그레이 스케일 포토마스크를 사용하여 상기 요철부를 형성하는 것을 포함하는 전자회로 제조방법
11 11
제 10항에 있어서, 상기 캐핑층을 형성한 후, 상기 기판을 상기 모기판으로부터 분리하는 것을 더 포함하는 전자회로 제조방법
12 12
제 10항에 있어서, 상기 요철부를 형성하는 것은 상기 기판을 패터닝하여 상기 배선영역 상에 물결형상의 굴곡을 형성하는 것을 포함하는 전자회로 제조방법
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배선영역 및 소자영역을 포함하는 기판을 제공하는 것; 상기 배선영역 상에 도전배선을 형성하고, 상기 소자영역 상에 전자소자를 형성하는 것; 및상기 기판 상에 캐핑층을 형성하는 것을 포함하되, 상기 배선영역은 요철부를 가지며, 상기 소자영역은 편평하고, 상기 기판을 제공하는 것은:모기판 상에 제1 영역 및 제2 영역을 포함하는 포토레지스트층을 형성하는 것;상기 제1 영역 상에 각진 형태의 패턴을 형성하는 것; 상기 포토레지스트층을 리플로우하여 라운드진 패턴을 형성하는 것; 상기 포토레지스트층 상에 탄성중합체를 도포하여 상기 기판을 형성하는 것; 및상기 모기판 및 상기 포토레지스트층으로부터 상기 기판을 분리하는 것을 포함하는 전자회로 제조방법
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제 13항에 있어서, 상기 라운드진 패턴을 형성하는 것은 상기 요철부와 반전된 구조를 이루는 패턴을 형성하는 것을 포함하는 전자회로 제조방법
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모기판 상에 제1 영역 및 제2 영역을 포함하는 포토레지스트층을 형성하는 것; 상기 제1 영역 상에 물결 형상의 굴곡부를 형성하는 것; 및상기 포토레지스트층 상에 탄성중합체를 도포하여, 요철부를 가지는 배선영역 및 편평한 소자영역을 포함하는 기판을 형성하는 것;상기 기판의 상기 배선영역 상에 도전배선을 형성하고, 상기 기판의 상기 소자영역 상에 전자소자를 형성하는 것;상기 기판 상에 캐핑층을 형성하는 것; 및상기 기판을 상기 포토레지스트 층으로부터 분리하는 것을 포함하는 전자회로 제조방법
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제 15항에 있어서, 상기 요철부는 상기 굴곡부를 따라 연장된 전자회로 제조방법
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제 15항에 있어서, 상기 굴곡부를 형성하는 것은:상기 제1 영역 상에 각진 형태의 패턴을 형성하는 것; 및상기 포토레지스트층을 리플로우하여 라운드 진 형태의 패턴을 형성하는 것을 포함하는 전자회로 제조방법
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제 15항에 있어서, 상기 굴곡부를 형성하는 것은:그레이스케일 포토마스크를 사용하여 상기 제1 영역 상에 상기 물결 형상의 패턴을 형성하는 것을 포함하는 전자회로 제조방법
19 19
제 15항에 있어서, 상기 기판을 분리한 후, 상기 캐핑층과 이격되며 마주하는 보조기판을 형성하는 것을 더 포함하는 전자회로 제조방법
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1 지식경제부 한국전자통신연구원 산업원천기술개발사업(ETRI지원사업) 에너지 절감을 위한 7인치기준 2W급 환경적응 디스플레이 신모드 핵심 원천 기술 개발