[KST2015086277][한국전자통신연구원] |
애벌런치 광다이오드 및 그 형성방법 |
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[KST2015073751][한국전자통신연구원] |
반도체장치의에피택셜층형성방법 |
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[KST2015073809][한국전자통신연구원] |
규소저매늄/저매늄완충층을이용한규소기판상의갈륨비소박막성장방법 |
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[KST2015079606][한국전자통신연구원] |
SOI 웨이퍼 제조 방법 |
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[KST2015087531][한국전자통신연구원] |
SOI 기판의 제조방법 |
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[KST2014032109][한국전자통신연구원] |
패터닝된 응력층을 이용한 양자점 형성 방법 및 이에 의해 제조된 양자점 반도체 소자 |
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[KST2016017908][한국전자통신연구원] |
질화물 반도체 장치 및 그 제조 방법(NITRIDE SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME) |
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[KST2015087598][한국전자통신연구원] |
반도체 소자 및 그 제조방법 |
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[KST2015076465][한국전자통신연구원] |
고품위 지에이에이에스(GAAS) 양자점의 성장방법 |
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[KST2015082730][한국전자통신연구원] |
급속 열증착을 이용한 금속산화물 나노구조물 제조방법 |
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[KST2015084842][한국전자통신연구원] |
ZTO 박막의 제조방법, 이를 적용한 박막 트랜지스터 및 박막 트랜지스터의 제조방법 |
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[KST2019011452][한국전자통신연구원] |
메타물질 구조체의 제조 방법 |
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[KST2015083358][한국전자통신연구원] |
마이크로 히터를 이용한 금속 산화물 나노 소재의 선택적증착방법 및 이를 이용한 가스센서 |
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[KST2015020823][한국전자통신연구원] |
350nm 자외선 광원용 AlGaN 선택 성장 및 활성층 에피기술 |
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[KST2015075169][한국전자통신연구원] |
대면적 펄스 레이저 박막 증착을 위한 비접촉 회전전열기 |
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[KST2015079703][한국전자통신연구원] |
MOSFET 소자 및 그 제조 방법 |
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산화물 TFT 기술 |
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플렉서블 에너지 변환소자 및 이의 제조방법 |
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낮은 침투전위 밀도를 갖는 순수 게르마늄 박막 성장법 |
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초고주파 가변 소자용 강유전체 에피택셜 박막 및 이를이용한 초고주파 가변 소자 |
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스퍼터링 타겟, 투명 필름 및 그의 제조 방법 |
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엑시머레이저증착장치 |
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[KST2014030141][한국전자통신연구원] |
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플라즈마 처리 장치의 척킹/디척킹 장치 및 척킹/디척킹 방법 |
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[KST2015075188][한국전자통신연구원] |
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