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플라즈마 처리시 기판을 안착하는 정전척;
상기 정전척에 상기 기판을 착탈하기 위해 정전압 또는 역전압을 인가하는 정전척 전원 공급부;
플라즈마 처리시 상기 정전척의 내부에 삽입되고, 플라즈마 처리 완료후 상기 정전척으로부터 상승하여 상기 기판을 상기 정전척으로부터 분리하는 리프트 핀;
상기 리프트 핀과 접지단 사이에 연결되고, 플라즈마 처리가 완료되면 상기 기판의 접지 전압으로부터 충전되는 충전부; 및
상기 충전부의 충전 전압이 소정 전압 이상일 경우, 상기 리프트 핀을 기판 접촉면 이상으로 상승시키고 상기 충전부에 충전된 전하를 상기 정전척 전원 공급부로 인가하는 제어부를 포함하는 플라즈마 처리 장치의 척킹/디척킹 장치
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제1항에 있어서,
상기 제어부는 상기 충전부의 충전 전압이 소정 전압 미만일 경우 디척킹 불량을 표시하는 표시부를 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치의 척킹/디척킹 장치
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제1항에 있어서,
상기 제어부는 상기 충전부의 충전 전압이 소정 전압 미만일 경우 인터락 신호를 출력하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치의 척킹/디척킹 장치
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제1항에 있어서,
상기 리프트 핀과 접지단 사이에 연결되고 상기 리프트 핀이 상기 정전척의 기판 접촉면까지 상승하여 상기 기판에 접촉할 경우 상기 기판의 접지전압을 감지하는 접지전압 감지부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치의 척킹/디척킹 장치
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제4항에 있어서,
상기 제어부는 상기 접지전압 감지부에 의해 감지된 접지전압이 소정 전압 이상일 경우 상기 리프트 핀을 상기 기판 접촉면에서 정지시키고 상기 접지전압이 소정 전압 미만일 경우 상기 리프트 핀을 상기 기판 접촉면 이상으로 상승시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치의 척킹/디척킹 장치
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정전척에 전압을 인가하여 상기 정전척 상에 배치된 기판을 상기 정전척에 척킹하여 고정시키는 단계;
플라즈마 반응을 이용하여 상기 정전척 상에 척킹된 기판을 플라즈마 처리하는 단계;
상기 플라즈마 처리 완료 후 상기 정전척에 역전압을 인가하여 상기 정전척이 상기 기판에 미치는 전자기력을 상쇄하는 단계;
상기 전자기력의 상쇄 단계 이후에, 리프트 핀을 상기 정전척 상에 놓인 기판에 접촉하도록 상승시킨 후 상기 기판의 접지전압으로부터 상기 기판의 표면 전하을 충전하는 단계; 및
상기 충전에 의한 충전 전압이 소정 전압 이상일 경우 상기 리프트 핀을 기판 접촉면 이상으로 상승시키고 상기 충전된 전하를 정전척 전원 공급부로 인가하는 단계를 포함하는 플라즈마 처리 장치의 척킹/디척킹 방법
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제6항에 있어서,
상기 충전에 의한 충전 전압이 소정 전압 미만일 경우 디척킹 불량을 표시하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치의 척킹/디척킹 방법
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제6항에 있어서,
상기 충전에 의한 충전 전압이 소정 전압 미만일 경우 인터락 신호를 출력하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치의 척킹/디척킹 방법
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제6항에 있어서,
상기 전자기력의 상쇄 단계 이후에, 상기 리프트 핀이 상기 정전척의 기판 접촉면까지 상승하여 상기 기판에 접촉할 경우 상기 기판의 접지전압을 감지하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치의 척킹/디척킹 방법
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제9항에 있어서,
상기 접지전압 감지부에 의해 감지된 접지전압이 소정 전압 이상일 경우 상기 리프트 핀을 상기 기판 접촉면에서 정지시키고 상기 접지전압이 소정 전압 미만일 경우 상기 리프트 핀을 상기 기판 접촉면 이상으로 상승시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치의 척킹/디척킹 방법
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