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전자기파 장해 측정 장치 및 전자기파 장해 측정 방법

  • 기술번호 : KST2015091140
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전자기파 장해 측정 장치에 관한 것이다. 보다 자세히는, 본 발명은 탄소 나노 튜브에 대한 전자기파 장해 측정 장치에 관한 것이다. 본 발명에 의한 전자기파 장해 측정 장치는 제어부, 상기 제어부의 주파수 제어 신호에 응답하여 제 1 전자기파를 생성하는 전자기파 생성부, 상기 제 1 전자기파를 피측정장치에 제공하는 전자기파 인가부, 제어부의 측정 제어 신호에 응답하여, 상기 제 1 전자기파에 응답하여 상기 피측정장치로부터 방출된 제 2 전자기파를 측정하는 측정부 및 상기 제어부의 소거 제어 신호에 응답하여 상기 피측정장치의 잔류 전자기파를 소거하는 전자기파 소거부를 포함하며, 상기 제어부는 상기 측정부의 측정 결과를 기초로 상기 피측정장치의 전자기파 장해를 계산한다. 본 발명에 의한 전자기파 장해 측정 장치는 잔류 전자기파에 의한 오차를 보상하여 높은 정확도로 전자기파 장해를 측정할 수 있다.
Int. CL G01R 29/08 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020120146840 (2012.12.14)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2014-0077733 (2014.06.24) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.06.16)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 여순일 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.12.14 수리 (Accepted) 1-1-2012-1044185-88
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.01.16 수리 (Accepted) 1-1-2015-0045356-47
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2017.06.16 수리 (Accepted) 1-1-2017-0577861-40
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2018.03.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2018.07.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2018-0091645-89
7 등록결정서
Decision to grant
2018.07.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0496103-19
8 [명세서등 보정]보정서(심사관 직권보정)
2018.11.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-5020793-09
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번호 청구항
1 1
제어부;상기 제어부의 주파수 제어 신호에 응답하여 제 1 전자기파를 생성하는 전자기파 생성부;상기 제 1 전자기파를 피측정장치에 제공하는 전자기파 인가부;제어부의 측정 제어 신호에 응답하여, 상기 제 1 전자기파에 응답하여 상기 피측정장치로부터 방출된 제 2 전자기파를 측정하는 측정부; 및상기 제어부의 소거 제어 신호에 응답하여 상기 피측정장치의 잔류 전자기파를 소거하는 전자기파 소거부를 포함하며,상기 제어부는 상기 측정부의 측정 결과를 기초로 상기 피측정장치의 전자기파 장해를 계산하는 전자기파 장해 측정 장치
2 2
제 1항에 있어서,상기 제 1 전자기파의 주파수는 상기 주파수 제어 신호에 응답하여 가변되는 전자기파 장해 측정 장치
3 3
제 2항에 있어서,상기 제 1 전자기파의 주파수는 상기 주파수 제어 신호에 응답하여 미리 지정된 스텝값만큼 순차적으로 증가되는 전자기파 장해 측정 장치
4 4
제 3항에 있어서,상기 제 1 전자기파의 주파수는 상기 주파수 제어 신호에 응답하여 초기값 이상 임계값 이하의 값을 가지도록 제어되는 전자기파 장해 측정 장치
5 5
제 1항에 있어서,상기 제어부는 상기 측정 제어 신호 및 상기 소거 제어 신호를 이용하여, 상기 측정부의 측정 동작 후 상기 전자기파 소거부의 소거 동작이 수행되도록 상기 측정부 및 상기 전자기파 소거부를 제어하는 전자기파 장해 측정 장치
6 6
제 1항에 있어서,상기 측정부의 측정 위치는 상기 측정 제어 신호에 응답하여 가변되는 전자기파 장해 측정 장치
7 7
제 6항에 있어서,상기 측정부의 측정 위치는 상기 측정 제어 신호에 응답하여 미리 지정된 위치들 중 하나로 제어되는 전자기파 장해 측정 장치
8 8
제 7항에 있어서,상기 측정부의 측정 위치는 상기 미리 지정된 위치들을 기초로 순차적으로 변경되는 전자기파 장해 측정 장치
9 9
제 7항에 있어서,상기 미리 지정된 위치들은 피측정장치의 중심 및 상기 중심으로부터 미리 지정된 거리만큼 떨어진 복수의 위치들을 포함하는 전자기파 장해 측정 장치
10 10
피측정장치에 측정 주파수를 가지는 제 1 전자기파를 인가하는 제 1 단계;상기 피측정장치의 측정 위치에 대하여, 상기 제 1 전자기파에 응답하여 상기 피측정장치로부터 방출된 제 2 전자기파를 측정하는 제 2 단계;상기 피측정장치에 잔류된 전자기파를 소거하는 제 3 단계; 및상기 제 2 전자기파의 측정 결과를 이용하여 상기 피측정장치의 전자기파 장해를 계산하는 단계를 포함하며, 상기 제 1 내지 제 3 단계는 설정된 측정 주파수가 증가되면서 반복적으로 수행되는 전자기파 장해 측정 방법
11 11
제 10항에 있어서,상기 측정 주파수는 초기값 이상 임계값 이하의 값을 가지며, 상기 초기값으로부터 미리 지정된 스텝값만큼 순차적으로 증가되는 전자기파 장해 측정 방법
12 12
제 10항에 있어서,상기 측정 위치는 미리 지정된 위치들 중 하나로 지정되며,상기 제 1 내지 제 3 단계는 상기 미리 지정된 위치들 모두에 대하여 반복적으로 수행되는 전자기파 장해 측정 방법
13 13
제 11항에 있어서,상기 미리 지정된 위치들은 피측정장치의 중심 및 상기 중심으로부터 미리 지정된 거리만큼 떨어진 복수의 위치들을 포함하는 전자기파 장해 측정 방법
14 14
제 10항에 있어서,상기 피측정장치에 잔류된 전자기파를 소거하는 제 3 단계는 상기 피측정장치를 접지시켜 상기 피측정장치에 잔류된 전자기파를 소거하는 단계인 전자기파 장해 측정 방법
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1 지식경제부 한국반도체산업협회 산업원천기술개발사업(정보통신) 칩수준 EMC 측정표준연구(본과제:차세대 반도체 장비 및 소자의 표준화 기술)