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서로 다른 극성을 갖는 2개 이상의 단량체 및 이-광자 흡수 화합물을 용매에 분산시키는 단계; 상기 단량체 및 상기 이-광자 흡수 화합물이 분산된 용매를 40 내지 90℃ 중 어느 특정 온도로 유지하면서, 불활성 기체를 공급하여 상기 용매에 포함된 용존 산소를 제거하는 단계; 상기 단량체 및 상기 이-광자 흡수 화합물이 분산된 용매에 중합개시제를 공급하여 상기 단량체의 중합에 의해 이-광자 흡수 화합물 집합체를 포함하는 고분자 나노 입자가 형성되도록 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 나노 입자 제조방법
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서로 다른 극성을 갖는 2개 이상의 단량체, 이-광자 흡수 화합물 및 계면활성제를 용매에 분산시킨 후 교반하는 단계; 상기 단량체, 상기 이-광자 흡수 화합물 및 상기 계면활성제가 분산된 용매를 40 내지 90℃ 중 어느 특정 온도로 유지하면서, 불활성 기체를 공급하여 상기 용매에 포함된 용존 산소를 제거하는 단계; 상기 단량체, 상기 이-광자 흡수 화합물 및 상기 계면활성제가 분산된 용매에 중합개시제를 공급하여 상기 단량체의 중합에 의해 이-광자 흡수 화합물 집합체를 포함하는 고분자 나노 입자가 형성되도록 하는 단계; 메탄올 또는 에탄올을 이용하여 상기 고분자 나노 입자에 부착된 상기 계면활성제를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 나노 입자 제조방법
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제2항에 있어서, 상기 계면활성제로는 소듐 도데실 설페이트, 세틸트리메틸암모늄 브로마이드, 세틸트리메틸암모늄 클로라이드, 스테릴트리메틸암모늄 클로라이드, 도데실 트리메틸암모늄 브로마이드 또는 소듐 1,2-비스(2-에틸헥실) 설포석시네이트(에어로졸-OT)을 사용하는 것을 특징으로 하는 고분자 나노 입자 제조방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 단량체는 메틸 메타크릴레이, 스티렌, 스티렌 설포네이트, 비닐 아세테이트, 메틸 스티렌, 아크릴산, 부틸 메타크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, 2-에틸헥실 아크릴레이트 또는 N-비닐카프로락탐인 것을 특징으로 하는 고분자 나노 입자 제조방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 이-광자 흡수 화합물로는 스틸벤계 화합물을 사용하는 것을 특징으로 하는 고분자 나노 입자 제조방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 중합개시제로는 포타슘 퍼설페이트, 암모늄 퍼설페이트 또는 2,2'-아조비스(2-메틸프로피오니트릴)을 사용하는 것을 특징으로 하는 고분자 나노 입자 제조방법
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10
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 용매로는 물 또는 알콜을 사용하는 것을 특징으로 하는 고분자 나노 입자 제조방법
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