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광여기 공정 장치에 있어서, 광이 투과할 수 있는 개구부를 그 상판 중심부에 가지며 시료나 기판을 지지하는 지지대를 내장하는 반응실 하우징; 상기 개구부를 통해 상기 반응실 내로 광을 조사할 수 있도록 그 발광면이 상기 개구부와 대면하는 광원; 상기 광원의 발광면과 상기 반응실 개구부 사이에 위치하여 상기 광원으로부터의 광이 상기 반응실로 투과될 수 있는 개구부를 상하판의 중심부에 각각 가지며 상기 하판이 상기 반응실 상판과 결합되는 투명 필름 격납실 하우징; 상기 투명 필름 격납실 하우징 내에서 수평으로 설치되어 공급 및 수납되며 상기 광원으로부터의 광이 투과할 수 있는 투명 필름; 상기 광원의 발광면 가장자리를 그 중심 개구부 둘레에 용접한 제 1플란지; 상기 격납실 상판 개구부 둘레에 용접되는 제 2플란지; 양단에 제 3플란지를 가지며, 상기 제 3플란지들 각각이 상기 제 1 및 제 2플란지와 연결됨으로써 상기 광원, 상기 투명 필름 격납실 하우징, 상기 반응실 하우징이 하나의 밀폐 공간이 되도록 하며 광여기 공정 시 진공을 깨지 않고 광원의 상하 구동 운동을 가능케 하기 위한 신축부; 상기 광원과 투명 필름의 직접적인 접촉을 방지하기 위해, 상기 제 1플란지의 중심 개구부 둘레에 용접이나 탈착식으로 수직으로 삽입되는 원통; 및 상기 광원을 상하로 이동시키기 위한 구동장치를 포함하는 광여기 공정장치
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제 1항에 있어서, 상기 원통은 세정가스의 원활한 소통을 위해 다수의 구멍을 갖는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치
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제 2항에 있어서, 상기 원통은 세라믹이나 금속 재질 중 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치
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광원 표면의 흐림 문제를 해결하기 위한 장치에 있어서, 광이 투과할 수 있는 개구부를 그 상판 중심부에 가지며 시료나 기판을 지지하는 지지대를 내장하는 반응실 하우징; 상기 개구부를 통해 상기 반응실 내로 광을 조사할 수 있도록 그 발광면이 상기 개구부와 대면하는 광원; 상기 광원의 발광면과 상기 반응실 개구부 사이에 위치하여 상기 광원으로부터의 광이 상기 반응실로 투과될 수 있는 개구부를 상하판의 중심부에 가지며 상기 하판이 상기 반응실 상판과 결합되는 투명 필름 격납실 하우징; 상기 투명 필름 격납실 하우징내에서 수평으로 설치되어 공급 및 수납되며 상기 광원으로부터의 광이 투과할 수 있는 투명 필름; 상기 광원을 탈착 가능하게 고정하기 위한 제 1플란지; 상기 광원과 상기 제 1플란지를 결합시키는 결합수단; 상기 격납실 상판 개구부 둘레에 용접되는 제 2플란지; 상기 광원과 상기 제 1플란지 사이의 기밀을 유지하기 위해 상기 광원과 상기 제 1플란지의 접촉부에 위치하는 오-링; 양단에 제 3플란지를 가지며, 상기 제 3플란지들 각각이 상기 제 1 및 제 2플란지와 연결됨으로써 상기 광원, 상기 투명 필름 격납실 하우징, 상기 반응실 하우징이 하나의 밀폐 공간이 되도록 하며 광여기 공정 시 진공을 깨지 않고 광원의 상하 구동 운동을 가능케 하기 위한 신축부; 상기 투명 필름의 상하부의 압력 차이에 의해 상기 투명 필름이 아래로 처지거나 위로 부풀어 오르는 것을 방지하기 위해 상기 반응실, 상기 투명 필름 격납실 중 적어도 한 곳에 설치되는 지지 망; 및 상기 광원을 상하로 이동시키기 위한 구동장치를 포함하는 광여기 공정 장치
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제 1항 또는 제 4항에 있어서, 상기 반응실 하우징의 개구부는 상기 투명 필름의 밀착을 위해 상기 개구부 둘레에 부착되는 오-링을 포함하는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치
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제 1항 또는 제 4항에 있어서, 상기 반응실 하우징에 내장된 지지대는 상기 지지대에 내장되어 상기 시료나 기판의 온도를 승온 및 조절하기 위한 히터; 및 상기 지지대의 상하운동을 위한 신축부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치
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제 1항 또는 제 4항에 있어서, 상기 광원은 엑시머 램프, 중수소 방전관, 제논 램프, 저압 수은 램프로 구성된 자외선 영역의 광 방출 광원군, 가시광선 광원군 및 적외선 광원군 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치
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제 7항에 있어서, 상기 광원은 광원의 냉각을 위해 상기 광원의 발광면을 제외한 외벽에 수냉관이나 공냉 선풍기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치
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제 1항에 있어서, 상기 투명 필름의 상하부의 압력 차이에 의해 상기 투명 필름이 아래로 처지거나 위로 부풀어 오르는 것을 방지하기 위해 상기 반응실, 상기 투명 필름 격납실 중 적어도 한 곳에 설치되는 지지 망을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치
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제 4항 또는 제 9항에 있어서, 상기 지지 망은 상기 투명 필름의 상하부의 압력 차이에 의해 상기 투명 필름이 아래로 처지거나 위로 부풀어 오르는 것을 물리적으로 방지할 수 있을 정도의 강도를 가지며, 진공 속에서 사용 가능한 투명한 내열성의 재질이나 금속 재질로 이루어진 미세한 선들로 엉성하게 짜여져 있는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치
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제 1항 또는 제 4항에 있어서, 상기 반응실 하우징은 상기 반응실 내로 반응가스를 공급하기 위한 제 1취기구; 상기 반응가스를 배기하기 위한 제 1배기구; 상기 반응실 내로 세척용 퍼지 가스를 공급하기 위한 제 2취기구; 및 상기 퍼지 가스를 배출하기 위한 제 2배기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치
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제 1항 또는 제 4항에 있어서, 상기 투명 필름 격납실 하우징은 상기 격납실내로 질소나 비활성 가스를 공급하기 위한 제 3취기구; 상기 격납실내 가스를 배기하기 위한 제 3배기구; 청결한 투명 필름을 장착 공급하기 위한 제 1개폐구; 및 사용한 후의 투명 필름을 탈착 수거하기 위한 제 2개폐구를 포함하는 광여기 공정 장치
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제 1항 또는 제 4항에 있어서, 상기 신축부는 성형 벨로우즈나 용접 벨로우즈로 되는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치
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빛이 투과되는 개구부를 가지는 반응실, 투명 필름이 수평 이동하는 격납실 및 광원으로 구성된 광여기 공정 장치를 이용하여 광원의 표면이 반응가스 또는 반응 생성물로 흐려지는 것을 방지하기 위한 광여기 공정 방법에 있어서, (1) 상기 광원을 수직으로 내려 상기 투명 필름을 상기 반응실의 개구부에 밀착시키는 단계; (2) 상기 반응실에 반응가스를 주입한 후 상기 광원으로부터의 빛을 조사하여 반응가스를 활성화 시켜 광여기 공정을 진행하는 단계; (3) 상기 반응실을 세척 및 고진공으로 배기하고, 동시에 상기 반응실과 격납실간 압력차가 발생하지 않도록 상기 격납실에 질소 가스나 비활성 가스를 주입 및 배기하여 주는 단계; (4) 상기 광원을 수직으로 올려 투명 필름을 상기 반응실의 개구부로부터 이탈시키는 단계; 및 (5) 단계 (2)에 의해 흐려진 투명 필름을 수평 이동시키는 단계로 이루어지는 광여기 공정 방법
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제 14항에 있어서, 상기 단계 (2)는 2a) 상기 반응실에 반응가스를 주입하는 단계; 2b) 기판을 일정 온도시까지 가열 승온시키는 단계; 2c) 기판을 수직 상승시키는 단계; 및 2d) 광원으로부터의 빛을 반응실 내로 조사하여 반응가스를 활성화시켜 광여기 공정을 진행하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 방법
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제 14항 또는 제 15항에 있어서, 상기 반응실에 반응가스 주입시 상기 격납실에도 질소가스나 비활성가스를 주입하여 상기 반응실의 압력이 상기 격납실의 압력보다 높지 않도록 하는 것을 특징을 하는 광여기 공정 방법
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