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나노제너레이터 분리 방법 및 이를 이용한 플렉서블 나노제너레이터 제조방법

  • 기술번호 : KST2015114459
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 희생기판 상에 나노제너레이터를 제조하는 단계; 상기 나노제너레이터 상에 금속층을 적층하는 단계; 및 상기 금속층에 기계적 또는 열적 에너지를 가하여 상기 희생 기판의 일부를 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노제너레이터 분리방법이 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 종래의 습식 식각 등의 공정을 통하여 희생기판으로부터 나노제너레이터를 분리하는 방식이 아닌, 희생기판과 상기 금속층 사이의 응력 차이를 이용하여 나노제너레이터를 분리한다. 따라서, 기계적인 방식으로 나노제너레이터를 희생기판으로부터 분리할 수 있으므로, 식각액을 이용한 화학적 분리 방식에 비하여 보다 안전하고, 경제적이다. 더 나아가, 식각액으로 인한 나노제너레이터의 손상을 미리 피할 수 있다는 장점이 있다.
Int. CL H01L 21/02 (2006.01) H01L 21/20 (2006.01)
CPC H01L 41/0477(2013.01) H01L 41/0477(2013.01)
출원번호/일자 1020130002661 (2013.01.09)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1372395-0000 (2014.03.04)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20140310) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.01.09)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이건재 대한민국 대전 유성구
2 박귀일 대한민국 경북 구미시
3 황건태 대한민국 대전 유성구
4 정창규 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 다해 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로***, *층(삼성동,고운빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.01.09 수리 (Accepted) 1-1-2013-0024587-71
2 보정요구서
Request for Amendment		 2013.01.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2013-0005968-66
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2013.01.25 수리 (Accepted) 1-1-2013-0074490-57
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.08.20 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.10.08 수리 (Accepted) 9-1-2013-0076860-47
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.12.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0842182-05
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.02.03 수리 (Accepted) 1-1-2014-0104294-98
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.02.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0104298-70
10 등록결정서
Decision to grant		 2014.03.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0156292-06
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
희생기판 상에 나노제너레이터를 제조하는 단계;상기 나노제너레이터 상에 금속층을 적층하는 단계; 상기 금속층에 기계적 또는 열적 에너지를 가하여 상기 희생 기판의 일부를 분리하는 단계; 및상기 희생 기판의 일부를 분리한 후, 상기 희생 기판의 일부를 화학적 식각 공정에 따라 제거하는 단계;를 포함하며,상기 분리는 상기 희생기판의 잔류 압축응력과, 상기 금속층의 잔류 인장응력의 부조화에 의하여 진행되는 것을 특징으로 하는 나노제너레이터 분리방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 희생기판에는 실리콘 산화물 또는 실리콘 질화물을 포함하는 식각마스크층이 구비되는 것을 특징으로 하는 나노제너레이터 분리방법
3 3
제 2항에 있어서, 상기 분리되는 단계에 따라, 상기 희생기판의 일부층;상기 희생기판의 일부층 상에 구비된 식각마스크층; 및상기 식각마스크층 상에 구비된 나노제너레이터가 얻어지는 것을 특징으로 하는 나노제너레이터 분리방법
4 4
삭제
5 5
제 1항에 있어서, 상기 분리는 상기 희생기판의 수평 방향으로 진행되는 것을 특징으로 하는 나노제너레이터 분리방법
6 6
삭제
7 7
제 1항에 있어서, 상기 희생기판은 실리콘 기판이며, 상기 금속층은 니켈층인 것을 특징으로 하는 소자 분리방법
8 8
제 1항 내지 제 3항, 제 5항 및 제 7항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의하여 제조된 플렉서블 나노제너레이터
9 9
제 8항에 있어서, 상기 나노제너레이터의 하부에는 실리콘 산화물 또는 실리콘 질화물층인 식각마스크층이 구비되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 나노제너레이터
10 10
플렉서블 나노제너레이터 제조방법으로, 실리콘 기판(100) 상에 실리콘 산화물 또는 실리콘 질화물을 포함하는 식각마스크층(200)을 적층하는 단계;상기 식각마스크층(200) 상에 나노제너레이터(300)를 제조하는 단계;상기 나노제너레이터(300) 상에 니켈층(400)을 적층하는 단계; 상기 니켈층(400)에 기계적 또는 열적 에너지를 인가하여 상기 실리콘 기판 내에 수평 방향으로 크랙을 발생시키는 단계;상기 수평 방향으로의 크랙에 의하여 나노제너레이터(300) 및 니켈층(400)을 상기 실리콘 기판(100)으로부터 분리하는 단계; 및상기 나노제너레이터(300) 하부에 잔류하는 일부 실리콘 기판(101)을 분리한 후, 상기 일부 실리콘 기판(101)을 화학적 식각 공정에 따라 제거하는 단계;상기 나노제너레이터를 플렉서블 기판(500)으로 전사시키는 단계;를 포함하며,상기 분리는 상기 실리콘 기판(100)의 잔류 압축응력과, 상기 니켈층(400)의 잔류 인장응력의 부조화에 의하여 진행되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 나노제너레이터 제조방법
11 11
제 10항에 있어서, 상기 수평 방향으로의 크랙은 실리콘 기판 상부로부터 10~15μm 두께에서 진행되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 나노제너레이터 제조방법
12 12
제 11항에 있어서, 상기 플렉서블 나노제너레이터 제조방법은,상기 나노제너레이터(300) 하부에 잔류하는 일부 실리콘 기판(110)을 제거하는 단계 후, 상기 니켈층을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 나노제너레이터 제조방법
13 13
제 12항에 있어서, 상기 플렉서블 나노제너레이터 제조방법은, 상기 일부 실리콘 기판(110)을 제거하는 단계 후, 상기 니켈층을 제거하는 단계 전 상기 나노제너레이터를 플레서블 기판에 전사시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 나노제너레이터 제조방법
14 14
제 10항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의하여 제조된 플렉서블 나노제너레이터
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.