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광학용 반사판, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 반사형화면표시소자

  • 기술번호 : KST2015112486
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 광학용 반사판, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 반사형 화면표시소자에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판, 상기 기판 위에 교대로 배열되어 형성되는 제1 콜로이드 결정 패턴 및 제2 콜로이드 결정 패턴, 및 상기 제1 및 제2 콜로이드 결정 패턴 위에 형성되는 제3 콜로이드 결정 패턴을 포함하며, 상기 제1 내지 제3 콜로이드결정 패턴은 각각 서로 다른 파장의 반사광을 내는 것인 광학용 반사판, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 반사형 화면표시소자에 관한 것이다. 본 발명의 광학용 반사판은 다양한 색상의 반사광을 나타낼 수 있으며, 별도의 컬러필터를 구비하지 않아도 반사형 화면표시소자의 색상을 더욱 선명하게 하는 장점이 있다. 또한, 본 발명의 광학용 반사판의 제조방법은 서로 다른 종류의 나노입자 결정들을 기판 위에 패터닝하여 공정을 간편화 하였으며, 본 발명의 광학용 반사판을 포함하는 반사형 화면표시소자는 백 라이트(back light)를 필요로 하지 않기 때문에 에너지 절감 효과를 가지고, 태양광 아래에서도 선명한 화질을 구현할 수 있다. 광학용 반사판, 연성 식각법, 콜로이드 결정, 나노입자, 화면표시소자
Int. CL B82Y 20/00 (2011.01) G02F 1/13357 (2011.01)
CPC G02F 1/1335(2013.01) G02F 1/1335(2013.01) G02F 1/1335(2013.01)
출원번호/일자 1020060031124 (2006.04.05)
출원인 주식회사 엘지화학, 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0850435-0000 (2008.07.30)
공개번호/일자 10-2007-0099838 (2007.10.10) 문서열기
공고번호/일자 (20080805) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.04.17)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구
2 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이승곤 대한민국 대전광역시 유성구
2 이기라 대한민국 대전광역시 서구
3 양승만 대한민국 대전광역시 유성구
4 홍영준 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구
2 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2006.04.05 수리 (Accepted) 1-1-2006-0239252-36
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2006.08.25 수리 (Accepted) 4-1-2006-0019818-11
3 출원심사청구서
Request for Examination		 2007.04.17 수리 (Accepted) 1-1-2007-0291540-24
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2007.12.21 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.01.15 수리 (Accepted) 9-1-2008-0004521-02
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.01.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0050129-12
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.03.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0229722-84
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2008-0229721-38
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2008.05.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0293879-13
10 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2008.06.23 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2008-0026942-56
11 등록결정서
Decision to grant		 2008.07.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0392919-07
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
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번호 청구항
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a) 하기의 i), ii), 및 iii) 단계를 포함하여 기판상에 제1 콜로이드 결정 패턴을 형성하는 단계: i) 음각 패턴이 형성된 신축성 몰드를 기판에 덮는 단계, ii) 상기 신축성 몰드와 기판 사이에 형성되는 음각패턴의 공간 내부로 나노입자 단분산 용액을 주입하고, 자기조립하여 제1 콜로이드결정 패턴을 형성하는 단계, 및 iii) 상기 신축성 몰드를 제거하는 단계;b) 상기 제1 콜로이드 결정 패턴 사이에 제2 콜로이드 결정 패턴을 형성하는 단계; 및 c) 상기 제1 콜로이드 결정 패턴, 및 제2 콜로이드 결정 패턴 위에 제3 콜로이드 결정 패턴을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 제1 및 제2 콜로이드 결정 패턴은 교대로 배열된 선형으로 형성되며, 상기 제3 콜로이드 결정 패턴은 상기 제1, 및 제2 콜로이드 결정 패턴에 사선으로 교차하거나, 또는 수직한 방향으로 교차하도록 형성되고, 상기 제1 내지 제3 콜로이드결정 패턴은 각각 서로 다른 파장의 반사광을 내는 것인 광학용 반사판의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 제2 콜로이드결정 패턴을 형성하는 단계는 i) 패턴 없는 신축성 몰드를 상기 제1 콜로이드결정 패턴 위에 덮는 단계;ii) 상기 제1 콜로이드결정 패턴 사이에 나노입자 단분산 용액을 주입하고, 자기조립하여 제2 콜로이드결정 패턴을 형성하는 단계; 및iii) 상기 신축성 몰드를 제거하는 단계를 포함하며, 상기 나노입자 단분산 용액의 나노입자는 상기 제1콜로이드 결정 패턴에 사용된 나노입자와 상이한 파장의 반사광을 낼 수 있는 것인 광학용 반사판의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 제3 콜로이드결정 패턴을 형성하는 단계는 i) 음각 패턴이 형성된 신축성 몰드를 상기 제1, 및 제2 콜로이드결정 패턴 위에 덮는 단계;ii) 상기 신축성 몰드와 제1, 및 제2 콜로이드 결정 패턴 사이에 형성되는 음각패턴의 공간 내부로 나노입자 단분산 용액을 주입하고, 자기조립하여 제3 콜로이드결정 패턴을 형성하는 단계; 및iii) 상기 신축성 몰드를 제거하는 단계를 포함하며, 상기 나노입자 단분산 용액의 나노입자의 크기는 상기 제1, 및 제2 콜로이드 결정 패턴에 사용된 나노입자와 상이한 파장의 반사광을 낼 수 있는 것인 광학용 반사판의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 제1 내지 제3 콜로이드결정 패턴을 형성하는 단계는 각각 독립적으로 i) 입경의 분산도가 5% 이내이고, ii) 유효굴절률이 1
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제7항에 있어서, 상기 제1 내지 제3 콜로이드결정 패턴을 형성하는 단계는 각각 독립적으로 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 산화아연, 실리카, 티타니아, 및 카드뮴셀레나이드(CdSe)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함하는 나노입자를 포함하는 것인 광학용 반사판의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 제1 내지 제3 콜로이드결정 패턴 형성 단계는 각각 폭 20 내지 200 ㎛인 다수의 선형 패턴으로 형성하는 것인 광학용 반사판의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 광학용 반사판의 제조방법은 상기 제1 및 제2 콜로이드결정 패턴 형성 후에 바인더를 이용하여 각 결정 패턴을 고정시키는 단계를 더 포함하는 것인 광학용 반사판의 제조방법
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지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.