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물리적인 접붙이기를 이용한 가교된 고분자 패턴의 표면개질방법

  • 기술번호 : KST2015112984
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 물리적인 접붙이기를 이용한 가교된 고분자 패턴의 표면을 개질하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 가교된 고분자 패턴 및 필름 위에 표면 개질 물질을 흡착시키는 단계, 고분자를 용매로 팽창시켜 표면 개질 물질의 일부가 고분자 패턴 안으로 융화되는 단계, 그리고 용매를 제거하여 다시 팽창된 고분자를 원래 형태로 수축시켜 융화된 표면 개질 물질의 일부가 영구히 고정되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 표면의 개질방법에 관한 것이다. 본 발명은 물리적 접붙임(grafting) 방법으로 높은 흡착력을 갖도록 하여 고분자 표면의 물성을 향상시킬 수 있다. 고분자 표면 개질, 가교된 고분자 패턴, 물리적 접붙임(grafting)
Int. CL C08J 7/12 (2006.01)
CPC C08J 7/16(2013.01) C08J 7/16(2013.01) C08J 7/16(2013.01) C08J 7/16(2013.01)
출원번호/일자 1020080028609 (2008.03.27)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0957126-0000 (2010.05.03)
공개번호/일자 10-2009-0103184 (2009.10.01) 문서열기
공고번호/일자 (20100511) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.03.27)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 양승만 대한민국 대전 유성구
2 강지환 대한민국 대전 유성구
3 문준혁 대한민국 서울 구로구
4 이승곤 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 황이남 대한민국 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.03.27 수리 (Accepted) 1-1-2008-0223653-92
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2008.04.04 수리 (Accepted) 1-1-2008-0247657-25
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.01.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.02.19 수리 (Accepted) 9-1-2009-0011009-35
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.09.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0395383-84
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.11.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0696376-44
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.11.12 수리 (Accepted) 1-1-2009-0696379-81
8 등록결정서
Decision to grant
2010.02.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0067338-04
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
고분자 표면의 개질방법에 있어서, 가교된 고분자 패턴 및 필름 위에 친수-소수의 특성을 갖는 단분자 또는 고분자가 결합된 블록공중합체인 표면 개질 물질을 흡착시키는 단계와, 고분자를 용매로 팽창시켜 표면 개질 물질의 일부가 고분자 패턴 안으로 융화되는 단계와, 용매를 제거하여 다시 팽창된 고분자를 원래 형태로 수축시켜 융화된 표면 개질 물질의 일부가 영구히 고정되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 표면의 개질방법
2 2
제 1항에 있어서, 가교된 고분자는 열이나 빛 혹은 경화제의 첨가에 의해 가교된 수지를 포함하는 경화된 고분자로 이루어진 패턴 및 필름인 것을 특징으로 하는 고분자 표면의 개질 방법
3 3
제 1항에 있어서, 가교된 고분자는 기본 단위 반복 구조가 탄화수소를 포함하는 가교될 수 있는 물질로서 유기 용매에 의해 팽창될 수 있는 형태의 고분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 표면의 개질 방법
4 4
제 1항에 있어서, 가교된 고분자는 폴리알킬렌글리콜계, 폴리아크릴계, 폴리스티렌계, 폴리우레탄계, 폴리아미드계, 에폭시수지, 페놀수지 또는 요소수지 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 고분자 표면의 개질 방법
5 5
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지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.