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위치에 따라 다른 할로우 케소드 방전을 유발하는 복수의 홀 영역들을 포함하는 전극;상기 전극과 이격되어 배치되고 기판을 장착하는 기판 홀더;상기 전극에 제1 주파수를 가지는 제1 RF 전력을 공급하여 플라즈마를 형성하는 제1 RF 전원; 및 상기 전극에 제2 주파수를 가지는 제 2 RF 전력을 공급하여 플라즈마를 형성하는 제2 RF 전원을 포함하고,상기 홀 영역들은 홀의 밀도, 홀의 직경, 및 홀의 형태 중에서 적어도 하나는 서로 다르고,상기 전극은 복수의 서브 전극들로 분리되며,상기 제1 RF 전원은 상기 서브 전극들의 일부에 전력을 공급하고, 상기 제2 RF 전원은 나머지 서브 전극들에 전력을 공급하는 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마 발생 장치
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제 1 항에 있어서,상기 전극은 가스를 공급하는 가스 공급홀을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마 발생 장치
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제 1 항에 있어서,상기 홀들은 상기 전극을 관통하여 가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마 발생 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제1 RF 전원 및 상기 제2 RF 전원은 상기 전극의 중심에 전력을 공급하는 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마 발생 장치
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제 1항에 있어서,상기 전극 상 복수의 홀 사이를 서로 연결하는 트렌치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마 발생 장치
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위치에 따라 다른 할로우 케소드 방전을 유발하는 복수의 홀 영역들을 포함하는 전극;상기 전극과 이격되어 배치되고 기판을 장착하는 기판 홀더;상기 전극에 제1 주파수를 가지는 제1 RF 전력을 공급하여 플라즈마를 형성하는 제1 RF 전원; 및상기 전극에 제2 주파수를 가지는 제 2 RF 전력을 공급하여 플라즈마를 형성하는 제2 RF 전원을 포함하고,상기 홀 영역들은 홀의 밀도, 홀의 직경, 및 홀의 형태 중에서 적어도 하나는 서로 다르고,상기 제 1 RF 전원과 제 2 RF 전원의 전력비 또는 주파수를 변경하여 위치에 따라 불균일한 전기장을 유도하여 상기 홀 영역들 중 일부에 선택적으로 할로우 케소드 방전을 활성화하는 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마 발생장치
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7
위치에 따라 다른 할로우 케소드 방전을 유발하는 복수의 홀 영역들을 포함하는 전극을 제공하는 단계;상기 전극에 제1 주파수를 가지는 제1 RF 전력을 공급하여 플라즈마를 형성하는 단계; 및상기 전극에 제2 주파수를 가지는 제 2 RF 전력을 공급하여 플라즈마의 균일도를 보정하는 단계를 포함하고,상기 홀 영역들은 홀의 밀도, 홀의 직경, 및 홀의 형태 중에서 적어도 하나는 서로 다르고,상기 전극은 복수의 서브 전극들로 분리되며,상기 제1 RF 전력은 상기 서브 전극들의 일부에 공급되고, 상기 제2 RF 전력은 나머지 서브 전극들에 공급되는 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마의 형성 방법
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제 7 항에 있어서,상기 전극은 가스를 공급하는 가스 공급홀을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마의 형성 방법
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위치에 따라 다른 할로우 케소드 방전을 유발하는 복수의 홀 영역들을 포함하는 전극;상기 전극과 이격되어 배치되고 기판을 장착하는 기판 홀더;상기 전극에 복수의 위치에서 RF 전력을 공급하여 플라즈마를 형성하는 RF 전원; 및상기 RF 전원과 상기 전극 사이에 배치된 적어도 하나의 가변 축전기들을 포함하고, 상기 가변 축전기의 정전 용량을 변화시켜 상기 플라즈마의 균일도를 조절하고,상기 전극은 복수의 서브 전극들로 분리되며,상기 RF 전원은 제1 RF 전원 및 제2 RF 전원을 포함하고,상기 제1 RF 전원은 상기 서브 전극들의 일부에 전력을 공급하고, 상기 제2 RF 전원은 나머지 서브 전극들에 전력을 공급하는 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마 발생 장치
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위치에 따라 다른 할로우 케소드 방전을 유발하는 복수의 홀 영역들을 포함하는 전극을 제공하는 단계;상기 전극에 제1 주파수를 가지는 제1 RF 전력을 공급하여 플라즈마를 형성하는 단계; 상기 전극에 공급되는 제1 RF 전력은 가변 리엑턴스를 가지는 적어도 하나의 가변 수동 소자들을 통하여 복수의 위치에서 상기 전극에 공급되고, 상기 가변 리엑턴스를 통하여 상기 플라즈마의 균일도를 보정하는 단계를 포함하고,상기 전극은 복수의 서브 전극들로 분리되며,상기 가변 수동 소자들은 각각 대응하는 상기 서브 전극들에 직렬 연결되고, 상기 가변 수동 소자들은 서로 병렬 연결되고,상기 제1 RF 전력은 상기 가변 수동 소자들에 각각 공급되는 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마의 형성 방법
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할로우 케소드 방전을 유발하는 복수의 홀들을 포함하는 전극;상기 전극과 이격되어 배치되고 기판을 장착하는 기판 홀더;상기 전극에 제1 주파수를 가지는 제1 RF 전력을 공급하여 플라즈마를 형성하는 제1 RF 전원; 및 상기 전극에 제2 주파수를 가지는 제 2 RF 전력을 공급하여 플라즈마를 형성하는 제2 RF 전원을 포함하고,상기 전극은 복수의 서브 전극들로 분리되며,상기 제1 RF 전원은 상기 서브 전극들의 일부에 전력을 공급하고, 상기 제2 RF 전원은 나머지 서브 전극들에 전력을 공급하는 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마 발생 장치
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제 11항에 있어서,상기 전극의 홀들 사이를 서로 연결하는 트렌치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마 발생 장치
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