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금속 나노선이 분산된 분산액을 제조하는 단계(단계 1);상기 단계 1의 분산액을 기판 상에 코팅하여 금속 나노선을 포함하는 필름을 제조하는 단계(단계 2); 및상기 단계 2에서 제조된 필름에 포함된 금속 나노선들의 연결지점(junction)을 비전도성 고분자로 코팅하는 단계(단계 3);를 포함하는 비전도성 고분자를 이용한 금속 나노선 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 금속 나노선은 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 백금(Pt), 철(Fe), 코발트(Co), 니켈(Ni), 아연(Zn), 루테늄(Ru), 및 팔라듐(Pd)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 전도성 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 비전도성 고분자를 이용한 금속 나노선 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 분산액은 이소프로필알코올, 메탄올, 에탄올 및 물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 용매로 금속 나노선을 분산시킨 것을 특징으로 하는 비전도성 고분자를 이용한 금속 나노선 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 금속 나노선 분산액은 0
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제1항에 있어서, 상기 비전도성 고분자는 폴리올레핀(polyolefine), 폴리아미드(polyamide), 폴리에스테르(polyester), 아라미드(aramide), 아크릴(acrylic), 폴리에틸렌옥사이드(polyethylene oxide), 폴리카프로락톤(polycaprolactone), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리우레탄(polyurethane), 폴리스틸렌(polystyrene), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephtalate), 폴리벤지미다졸(PBI; polybezimidazole), 폴리(2-하이드로에틸 메타크릴레이트(poly(2-hydroxyethyl methacrylate)), 폴리비닐리덴 플루오라이드(polyvinylidene fluoride), 폴리(에테르 이미드)(poly(ether imide)), 스틸렌-부타디엔-스틸렌 3블록 공중합체(SBS; styrene-butadiene-styrene triblock copolymer) 및 폴리(페로세닐디메틸실레인)(poly(ferrocenyldimethylsilane))를 포함하는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 고분자인 것을 특징으로 하는 비전도성 고분자를 이용한 금속 나노선 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 비전도성 고분자 코팅은, 이소프로필알코올, 메탄올 및 에탄올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 용매에 비전도성 고분자를 용해시킨 비전도성 고분자 용액으로 상기 필름을 표면처리하여 수행되는 것을 특징으로 하는 비전도성 고분자를 이용한 금속 나노선 필름의 제조방법
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제6항에 있어서, 상기 비전도성 고분자 용액은 0
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제1항에 따라 제조되어 금속 나노선들의 연결지점(junction)이 비전도성 고분자로 코팅된 금속 나노선 필름
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제8항에 있어서, 상기 금속 나노선 필름의 두께는 50 내지 200 nm인 것을 특징으로 하는 금속 나노선 필름
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제8항에 있어서, 상기 금속 나노선 필름은 상온에서 10 내지 1000 Ω/□의 저항값을 나타내는 것을 특징으로 하는 금속 나노선 필름
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제8항의 금속 나노선 필름을 포함하는 투명전극
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