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임계각 및 표면 플라스몬 공명각의 동시 측정 장치 및 방법

  • 기술번호 : KST2015114838
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 특정 성분의 굴절률(농도) 변화와 시료 전체의 평균 굴절률(농도) 변화를 동시에 측정하여 보다 정확한 측정이 가능하고, 금속 박막에 고정화된 물질의 굴절률이 전반사 유도 매질의 굴절률에 비해 매우 클 경우에도 두 가지 변수를 모두 측정 가능토록 한 임계각 및 표면 플라스몬 공명각의 동시 측정 장치 및 방법을 제공하기 위한 것으로, 일실시예로서 광원(20)과; 상기 광원(20)에서 나온 빛(7)을 측정 범위에 따른 일정 각도 및 편광 상태로 변환시키는 광학장치(21)와; 상기 광학장치(21)를 통과한 입사광을 전반사 반응시키는 전반사 유도 매질(40)과; 상기 전반사 유도 매질(40) 밑면에 일정한 패턴을 갖고 도포되어 상기 측정시료와 접촉하여 SPR 현상을 발생시키는 얇은 금속 박막(41)과; 상기 전반사 유도 매질(40)의 밑면, 금속 박막(41)의 각기 굴절률에 따른 전반사 및 SPR 현상에 따라 반사광(8)의 광량 변화를 광학 장치(51)를 통과시켜 검출 하는 검출 장치(50)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.농도, 임계각, 플라스몬 공명각, SPR, 금속 박막
Int. CL G01N 21/21 (2006.01) G01N 21/27 (2006.01) G01N 21/00 (2006.01)
CPC G01N 21/21(2013.01) G01N 21/21(2013.01) G01N 21/21(2013.01) G01N 21/21(2013.01) G01N 21/21(2013.01) G01N 21/21(2013.01) G01N 21/21(2013.01) G01N 21/21(2013.01)
출원번호/일자 1020070033442 (2007.04.04)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0870131-0000 (2008.11.18)
공개번호/일자 10-2008-0090208 (2008.10.08) 문서열기
공고번호/일자 (20081125) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.04.04)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오세백 대한민국 대전 서구
2 홍영주 대한민국 대전 유성구
3 박효준 대한민국 전북 남원시
4 김수현 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손은진 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길*, *층(대치동 삼성빌딩)(특허법인 아이퍼스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.04.04 수리 (Accepted) 1-1-2007-0262074-80
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.01.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.02.14 수리 (Accepted) 9-1-2008-0011018-12
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.05.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0266347-13
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.07.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0521430-29
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.07.21 수리 (Accepted) 1-1-2008-0521431-75
7 등록결정서
Decision to grant
2008.11.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0572920-10
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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측정시료(32)의 농도와 특정 성분의 농도를 동시에 측정하기 위한 장치에 있어서,광원(20)과;상기 광원(20)에서 나온 빛(7)을 측정 범위에 따른 일정 각도 및 편광 상태로 변환시키는 광학장치(21)와;상기 광학장치(21)를 통과한 입사광을 전반사 반응시키는 전반사 유도 매질(40)과;상기 전반사 유도 매질(40) 밑면에 일정한 패턴을 갖고 도포되어 측정 물질에 특이 반응하는 물질(42)이 더 고착되어 상기 측정시료와 접촉하여 SPR 현상을 발생시키는 얇은 금속 박막(41)과;상기 전반사 유도 매질(40)의 밑면에는 금속 박막이 없는 비금속부(43)가 금속 박막(41)의 패턴 사이사이에 존재하고, 상기 비금속부(43)와 금속 박막(41)에서각기 전반사 및 SPR 현상에 따라 반사광(8)의 광량 변화를 광학 장치(51)를 통과시켜 검출 하는 검출 장치(50)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 임계각 및 표면 플라스몬 공명각의 동시 측정 장치
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삭제
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측정시료(32)의 농도와 특정 성분의 농도를 동시에 측정하기 위한 방법에 있어서,상기 측정시료(32)를 시료 측정관(30)에 흘려보내는 단계와;상기 시료 측정관(30)에 측정 시료(32)와 밑면이 접촉하도록 전반사 유도 매질(40)을 설치하고, 상기 전반사 유도 매질(40)의 밑면에 금속박막이 없는 비금속부(43)와 얇은 금속 박막(41)을 일정 형태로 패턴화시키되 상기 금속 박막(41)에는 측정시료에 포함된 특이 측정물질에 특이 반응하는 물질(42)이 더 고착 되는 단계와;광원(20)의 빛을 광학장치(21)를 통하여 일정한 각도와 편광 상태로 상기 전반사 유도 매질(40)로 입사시키는 단계와;상기 전반사 유도 매질(40)로부터 반사되는 반사광을 광학장치(51)를 통과시킨 후 검출장치(50)를 통해 광량변화를 검출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 임계각 및 표면 플라스몬 공명각의 동시 측정 방법
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