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내부에 수용 공간이 형성되는 챔버;상기 챔버에 설치되고, 회전축을 기준으로 방사선상에 복수개의 시편이 등각 배치되어 상기 시편이 상기 수용 공간 안에서 상기 회전축을 중심으로 회전 경로를 따라 여러 각도로 회전 이동될 수 있도록 상기 시편을 지지하는 회전 장치; 및상기 회전 경로를 따라 회전 이동된 복수개의 시편의 일면에 각각 빔을 조사할 수 있도록 상기 챔버에 설치되는 복수개의 밀링기;를 포함하고,상기 회전 장치는,상기 챔버의 외부에 설치되고, 상기 회전축을 회전시키는 회전 모터;상기 챔버의 내부에 설치되고, 위에서 볼 때, 상기 회전축을 기준으로 상기 회전축으로부터 방사선상으로 120도 등각 돌출되는 3개의 회전암들;상기 회전암들의 선단에 각각 설치되는 마운트들;상기 마운트들에 설치되고, 상기 시편들이 각각 안착되는 마운트 헤드들; 및상기 시편과 상기 밀링기 사이에 설치되도록 상기 마운트 헤드에 고정되는 마스크들;을 포함하는, 회전형 단면 시편 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 밀링기는,제 1 전압 또는 제 1 전류로 구동되어 제 1 밀링 속도를 갖는 제 1 밀링기;제 2 전압 또는 제 2 전류로 구동되어 제 2 밀링 속도를 갖는 제 2 밀링기; 및제 3 전압 또는 제 3 전류로 구동되어 제 3 밀링 속도를 갖는 제 3 밀링기;를 포함하는, 회전형 단면 시편 제조 장치
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제 2 항에 있어서,상기 제 1 밀링기는, 1 내지 8 kV 이상의 고전압 또는 고전류로 구동되는 적어도 하나의 고속 러프 밀링기이고,상기 제 2 밀링기는, 1 내지 10kV 미만의 중전압 또는 중전류로 구동되는 적어도 하나의 중속 일반 밀링기이고,상기 제 3 밀링기는, 100 V 내지 8kV 미만의 저전압 또는 저전류로 구동되는 적어도 하나의 저속 정밀 밀링기인, 회전형 단면 시편 제조 장치
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제 2 항에 있어서,상기 제 1 밀링기는, 상기 제 1 시편에 제 1 빔을 조사하고,상기 제 2 밀링기는, 상기 제 2 시편에 제 2 빔을 조사하며,상기 제 3 밀링기는, 상기 제 3 시편에 제 3 빔을 조사하고,상기 제 1 밀링기의 상기 제 1 빔의 조사 각도를 조절하는 제 1 각도 조절 장치;상기 제 2 밀링기의 상기 제 2 빔의 조사 각도를 조절하는 제 2 각도 조절 장치; 및상기 제 3 밀링기의 상기 제 3 빔의 조사 각도를 조절하는 제 3 각도 조절 장치;를 더 포함하는, 회전형 단면 시편 제조 장치
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제 2 항에 있어서,상기 제 1 밀링기는, 상기 제 1 시편에 제 1 빔을 조사하고,상기 제 2 밀링기는, 상기 제 2 시편에 제 2 빔을 조사하며,상기 제 3 밀링기는, 상기 제 3 시편에 제 3 빔을 조사하고,상기 제 1 밀링기의 상기 제 1 빔의 조사 높이를 조절하는 제 1 높이 조절 장치;상기 제 2 밀링기의 상기 제 2 빔의 조사 높이를 조절하는 제 2 높이 조절 장치; 및상기 제 3 밀링기의 상기 제 3 빔의 조사 높이를 조절하는 제 3 높이 조절 장치;를 더 포함하는, 회전형 단면 시편 제조 장치
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제 2 항에 있어서,상기 제 1 밀링기, 상기 제 2 밀링기 및 상기 제 3 밀링기는, 이온 빔 밀링기 또는 레이져 밀링기인, 회전형 단면 시편 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 마운트 헤드들은, 옆에서 볼 때, 상기 시편들이 아래를 향하여 기울임 각도로 경사지도록 설치되는 것인, 회전형 단면 시편 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 마운트 헤드들은 고정구를 이용하여 상기 마운트들에 착탈가능하게 고정되고, 높이조절이 가능하도록 높이조절장치가 설치되는 것인, 회전형 단면 시편 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 회전 장치에 제 1 각도 회전 제어 신호를 인가하고, 이어서 상기 밀링기에 1차 구동 제어 신호를 인가하며, 상기 회전 장치에 제 2 각도 회전 제어 신호를 인가하고, 이어서 상기 밀링기에 2차 구동 제어 신호를 인가하며, 상기 회전 장치에 제 3 각도 회전 제어 신호를 인가하고, 이어서 상기 밀링기에 3차 구동 제어 신호를 인가하는 제어부;를 더 포함하는 회전형 단면 시편 제조 장치
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