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축전 결합 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치

  • 기술번호 : KST2015115403
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 일면의 중심에 제1 주파수의 제1 RF 전력을 공급받는 원판형의 제1 전극, 일면의 복수의 위치에서 제2 주파수의 제2 RF 전력을 공급받고 제1 전극의 주위에 배치된 와셔 형상의 제2 전극, 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치된 와셔 형상의 절연 스페이서, 제1 전극에 전력을 공급하는 제1 RF 전원, 제2 전극에 전력을 공급하는 제2 RF 전원, 및 제1 RF 전원의 전력 및 제2 RF 전원의 전력을 조절하는 제어부를 포함한다.
Int. CL H05H 1/46 (2006.01) H01L 21/205 (2006.01)
CPC H01J 37/32541(2013.01) H01J 37/32541(2013.01) H01J 37/32541(2013.01) H01J 37/32541(2013.01) H01J 37/32541(2013.01) H01J 37/32541(2013.01) H01J 37/32541(2013.01)
출원번호/일자 1020110117325 (2011.11.11)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1278972-0000 (2013.06.20)
공개번호/일자 10-2013-0052091 (2013.05.22) 문서열기
공고번호/일자 (20130702) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020130056156;
심사청구여부/일자 Y (2011.11.11)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장홍영 대한민국 대전광역시 유성구
2 서상훈 대한민국 대전광역시 유성구
3 이윤성 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이평우 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)(특허법인 누리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.11.11 수리 (Accepted) 1-1-2011-0890899-65
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.07.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.08.22 수리 (Accepted) 9-1-2012-0067164-32
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.12.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0735558-46
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.01.10 수리 (Accepted) 1-1-2013-0027289-95
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.01.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0027386-15
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2013.04.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0268431-60
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.05.20 수리 (Accepted) 1-1-2013-0436795-68
10 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2013.05.20 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2013-0436789-94
11 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2013.05.20 수리 (Accepted) 1-1-2013-0436779-37
12 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2013.06.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0416368-64
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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일면의 중심에 제1 주파수의 제1 RF 전력을 공급받는 원판형의 제1 전극;일면의 중심에서 일정한 반경을 가진 원주의 복수의 위치에서 제2 주파수의 제2 RF 전력을 공급받고 상기 제1 전극의 주위에 배치된 와셔 형상의 제2 전극;상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 배치된 와셔 형상의 절연 스페이서;상기 제1 전극에 전력을 공급하는 제1 RF 전원;상기 제2 전극에 전력을 공급하는 제2 RF 전원; 상기 제1 전극에 전력을 공급하는 동축 케이블 구조의 제1 RF 전력 공급부;상기 제2 전극의 복수의 위치에 상기 제2 RF 전력을 분배하는 제2 RF 전력 분배부;및상기 제1 RF 전원의 전력 및 상기 제2 RF 전원의 전력을 조절하는 제어부를 포함하고,상기 제2 RF 전력 분배부는:상기 제1 RF 전력 공급부를 감싸는 전력 입력부;상기 전력 입력부에서 대칭성을 가지고 방사형으로 분기하는 제2 전력 분배 라인; 및상기 전력 분배 라인을 감싸는 접지 부재를 포함하고,상기 전력 분배 라인의 일단은 상기 전력 입력부에 대칭적으로 연결되고, 상기 전력 분배 라인의 타단은 상기 제2 전극에 대칭적으로 연결되고,제1 전극의 두께는 상기 제2 전극의 두께보다 작고, 상기 절연 스페이서는 외곽으로 갈수록 두께가 증가하고, 상기 제1 전극의 일면, 상기 제2 전극의 일면, 및 상기 절연 스페이서의 일면은 동일한 평면인 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마 발생 장치
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일면의 중심에 제1 주파수의 제1 RF 전력을 공급받는 원판형의 제1 전극;일면의 중심에서 일정한 반경을 가진 원주의 복수의 위치에서 제2 주파수의 제2 RF 전력을 공급받고 상기 제1 전극의 주위에 배치된 와셔 형상의 제2 전극;상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 배치된 와셔 형상의 절연 스페이서;상기 제1 전극에 전력을 공급하는 제1 RF 전원;상기 제2 전극에 전력을 공급하는 제2 RF 전원; 상기 제1 전극에 전력을 공급하는 동축 케이블 구조의 제1 RF 전력 공급부;상기 제2 전극의 복수의 위치에 상기 제2 RF 전력을 분배하는 제2 RF 전력 분배부;및상기 제1 RF 전원의 전력 및 상기 제2 RF 전원의 전력을 조절하는 제어부를 포함하고,상기 제2 RF 전력 분배부는:상기 제1 RF 전력 공급부를 감싸는 전력 입력부;상기 전력 입력부에서 대칭성을 가지고 방사형으로 분기하는 제2 전력 분배 라인; 및상기 전력 분배 라인을 감싸는 접지 부재를 포함하고,상기 전력 분배 라인의 일단은 상기 전력 입력부에 대칭적으로 연결되고, 상기 전력 분배 라인의 타단은 상기 제2 전극에 대칭적으로 연결되고,제1 전극의 두께는 상기 절연 스페이서의 두께와 동일하고,상기 제2 전극의 두께는 외곽으로 갈수록 두께가 증가하고, 상기 제1 전극의 일면, 상기 제2 전극의 일면, 및 상기 절연 스페이서의 일면은 동일한 평면인 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마 발생 장치
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR101774809 KR 대한민국 FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
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