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플라즈마 장치 및 기판 처리 장치

  • 기술번호 : KST2015116159
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 진공 용기에 형성된 복수의 관통홀들에 각각 장착되는 복수의 유전체 튜브들, 진공 용기에 배치되는 대칭성에 따라 제1 그룹 및 제2 그룹으로 분류되고 유전체 튜브들의 외측에 각각 장착되는 안테나들, 제1 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제1 RF 전원, 제2 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제2 RF 전원, 및 제1 그룹의 안테나와 제1 RF 전원 사이에 배치되어 제1 RF 전원의 전력을 제1 그룹의 안테나에 전력을 분배하는 제1 전력 분배부를 포함한다.
Int. CL H05H 1/46 (2006.01) H05H 1/36 (2006.01)
CPC H01J 37/32825(2013.01) H01J 37/32825(2013.01) H01J 37/32825(2013.01) H01J 37/32825(2013.01) H01J 37/32825(2013.01) H01J 37/32825(2013.01) H01J 37/32825(2013.01) H01J 37/32825(2013.01) H01J 37/32825(2013.01)
출원번호/일자 1020120145015 (2012.12.13)
출원인 한국과학기술원, 주식회사 윈텔
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0040168 (2013.04.23) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2011-0104792 (2011.10.13)
관련 출원번호 1020110104792
심사청구여부/일자 Y (2016.10.13)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
2 윈텔코퍼레이션 주식회사 대한민국 경기도 용인시 기흥구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장홍영 대한민국 대전 유성구
2 이진원 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 누리 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
2 윈텔코퍼레이션 주식회사 대한민국 경기도 용인시 기흥구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2012.12.13 수리 (Accepted) 1-1-2012-1035865-16
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2012.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2012-1084189-97
3 보정요구서
Request for Amendment
2012.12.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0153008-19
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
5 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2013.04.29 수리 (Accepted) 1-1-2013-0378076-10
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.10.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0993259-86
10 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2016.10.13 수리 (Accepted) 1-1-2016-0993297-11
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.01.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0021363-21
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.02.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0186291-65
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.02.23 수리 (Accepted) 1-1-2017-0186292-11
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.03.21 수리 (Accepted) 4-1-2017-5043333-17
15 등록결정서
Decision to grant
2017.04.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0286753-16
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.10.15 수리 (Accepted) 4-1-2018-5207644-37
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
상판을 구비한 진공 용기에 형성된 복수의 관통홀들에 각각 장착되는 복수의 유전체 튜브들;상기 진공 용기에 배치되는 대칭성에 따라 제1 그룹 및 제2 그룹으로 분류되고 상기 유전체 튜브들의 외측에 각각 장착되는 안테나들;상기 제1 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제1 RF 전원;상기 제2 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제2 RF 전원; 및상기 제1 그룹의 안테나와 상기 제1 RF 전원 사이에 배치되어 상기 제1 RF 전원의 전력을 상기 제1 그룹의 안테나에 분배하는 제1 전력 분배부를 포함하고,상기 제1 전력 분배부는 복스의 브랜치를 구비한 동축 케이블 형태이고,상기 제1 전력 분배부는 접지된 외측 도선과 전력을 공급하는 내측 도선을 포함하고,상기 안테나들을 고정하고 상기 상판에 고정되는 고정판들; 및상기 고정판과 상기 제1 전력 분배부의 상기 외측 도선을 연결하는 접지 라인을 더 포함하고,상기 고정판들의 일단은 상기 안테나들을 통하여 상기 내측 도선에 연결되고, 상기 고정판들의 타단은 상기 접지 라인에 연결되고,상기 접지 라인의 길이는 모든 안테나들에 대하여 동일한 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
2 2
제1 항에 있어서,상기 제1 전력 분배부는:상기 제1 RF 전원으로터 전력을 공급받는 동축 케이블 형태의 입력 브랜치;상기 입력 브랜치와 연결되고 3 갈래로 갈라지는 동축 케이블 형태의 3 웨이(way) 브랜치; 및상기 3 웨이 브랜치에 연결되어 2 갈래로 갈라지는 동축 케이블 형태의 T 브랜치들을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
3 3
제1 항에 있어서,상기 제1 RF 전원의 구동 주파수는 상기 제2 RF 전원의 구동 주파수와 서로 다른 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
4 4
제2 항에 있어서,상기 입력 브랜치는 원통 형상이고, 상기 3 웨이 브랜치는 사각형 형상이고, 상기 T 브랜치는 사각형 형상이고,상기 내측 도선은 파이프 형상이고, 그 내부에 냉매가 흐르고, 상기 냉매는 상기 제1 그룹의 안테나들에 제공되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
5 5
제1 항에 있어서,상기 제1 그룹의 안테나들은 상기 진공 용기의 상판의 중심을 기준으로 일정한 반경의 원주의 주위에 대칭적으로 되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
6 6
제1 항에 있어서,상기 안테나들은 상기 진공 용기의 사각형의 상판에 매트릭스 형태로 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN103843465 CN 중국 FAMILY
2 KR101246191 KR 대한민국 FAMILY
3 US09734990 US 미국 FAMILY
4 US20140292193 US 미국 FAMILY
5 WO2013055056 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN103843465 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN103843465 CN 중국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국과학기술원 전자정보디바이스산업원천기술개발 고밀도 플라즈마를 이용한 10nm급 반도체 및 10세대 디스플레이용 핵심원천 기술개발