맞춤기술찾기

이전대상기술

축전 결합 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치

  • 기술번호 : KST2015116372
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 일면의 중심에 제1 주파수의 제1 RF 전력을 공급받는 원판형의 제1 전극, 일면의 복수의 위치에서 제2 주파수의 제2 RF 전력을 공급받고 제1 전극의 주위에 배치된 와셔 형상의 제2 전극, 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치된 와셔 형상의 절연 스페이서, 제1 전극에 전력을 공급하는 제1 RF 전원, 제2 전극에 전력을 공급하는 제2 RF 전원, 및 제1 RF 전원의 전력 및 제2 RF 전원의 전력을 조절하는 제어부를 포함한다.
Int. CL H05H 1/46 (2006.01) H01L 21/205 (2006.01)
CPC H01J 37/32174(2013.01) H01J 37/32174(2013.01) H01J 37/32174(2013.01) H01J 37/32174(2013.01) H01J 37/32174(2013.01) H01J 37/32174(2013.01) H01J 37/32174(2013.01)
출원번호/일자 1020130056156 (2013.05.20)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0065677 (2013.06.19) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2011-0117325 (2011.11.11)
관련 출원번호 1020110117325
심사청구여부/일자 Y (2016.11.07)
심사청구항수 8

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 장홍영 대한민국 대전 유성구
2 서상훈 대한민국 대전 유성구
3 이윤성 대한민국 대전 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인 누리 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2013.05.20 수리 (Accepted) 1-1-2013-0436779-37
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
5 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2016.11.07 수리 (Accepted) 1-1-2016-1086660-86
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.02.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0081773-22
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.03.20 수리 (Accepted) 1-1-2017-0274578-50
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.03.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0274577-15
9 등록결정서
Decision to grant
2017.08.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0567993-25
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
일면의 중심에 제1 주파수의 제1 RF 전력을 공급받는 원판형의 제1 전극;일면의 중심에서 일정한 반경을 가진 원주의 복수의 위치에서 제2 주파수의 제2 RF 전력을 공급받고 상기 제1 전극의 주위에 배치된 와셔 형상의 제2 전극;상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 배치된 와셔 형상의 절연 스페이서;상기 제1 전극에 전력을 공급하는 제1 RF 전원;상기 제2 전극에 전력을 공급하는 제2 RF 전원; 상기 제1 전극에 전력을 공급하는 동축 케이블 구조의 제1 RF 전력 공급부;상기 제2 전극의 복수의 위치에 상기 제2 RF 전력을 분배하는 제2 RF 전력 분배부;및상기 제1 RF 전원의 전력 및 상기 제2 RF 전원의 전력을 조절하는 제어부를 포함하고,상기 제2 RF 전력 분배부는:상기 제1 RF 전력 공급부를 감싸는 전력 입력부;상기 전력 입력부에서 대칭성을 가지고 방사형으로 분기하는 제2 전력 분배 라인; 및상기 제2 전력 분배 라인을 감싸는 접지 부재를 포함하고,상기 제2 전력 분배 라인의 일단은 상기 전력 입력부에 대칭적으로 연결되고, 상기 제2 전력 분배 라인의 타단은 상기 제2 전극에 대칭적으로 연결되고,외측 절연부는 와셔 형상이고 상기 제2 전극의 외측 주위에 배치되고,절연 지지부는 상기 외측 절연부, 상기 제2 전극, 상기 절연 스페이서, 및 상기 제1 전극 상에 배치되고, 상기 절연 지지부는 상기 외측 절연부와 결합하고,덮개부는 상기 절연 지지부 상에 배치되어 상기 절연 지지부와 결합하고,상기 덮개부는 도전성 물질로 형성된 원판 형상이고 원통 형상의 연장부에 연결되고상기 연장부는 진공 용기 내부에서 외부로 연장되는 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마 장치
2 2
제1 항에 있어서,상기 제1 RF 전력 공급부는:상기 제1 전극에 접촉하는 제1 RF 전력 공급 라인;상기 제1 RF 전력 공급라인을 감싸는 제1 RF 전력 내부 절연 자켓;상기 제1 RF 전력 절연 자켓을 감싸는 제1 RF 접지 외피; 및상기 제1 RF 접지 외피를 감싸는 제1 RF전력 외부 절연 자켓을 포함하는 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마 장치
3 3
제1 항에 있어서,상기 제1 전극의 면적과 상기 제2 전극의 면적은 동일한 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마 장치
4 4
제1 항에 있어서,상기 제2 주파수는 제1 주파수와 다른 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마 장치
5 5
제1 항에 있어서,제3 주파수를 가지고 상기 제1 전극에 전력을 공급하는 제3 RF 전원;및제4 주파수를 가지고 상기 제2 전극에 전력을 공급하는 제4 RF 전원 중에서 적어도 하나를 더 포함하고,상기 제3 RF 전원의 전력은 상기 제1 RF 전력 공급부를 통하여 상기 제1 전극에 공급되고,상기 제4 RF 전원의 전력은 상기 제2 RF 전력 분배부를 통하여 상기 제2 전극에 공급되고,상기 제어부는 상기 제1 및 제3 RF 전원의 전력 및 상기 제2 및 제4 RF 전원의 전력을 조절하여 플라즈마 균일도를 제어하는 것을 특징으로 하는 축전 결합 플라즈마 장치
6 6
진공 용기의 내부에 축전 결합 플라즈마를 형성하는 플라즈마 발생부; 및상기 플라즈마 발생부에 대향하여 배치되고 기판을 장착하는 기판 홀더를 포함하고,상기 플라즈마 발생부는: 일면의 중심에 제1 주파수의 제1 RF 전력을 공급받는 원판형의 제1 전극;일면의 중심에서 일정한 반경을 가진 원주의 복수의 위치에서 제2 주파수의 제2 RF 전력을 공급받고 상기 제1 전극의 주위에 배치된 와셔 형상의 제2 전극; 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 배치된 와셔 형상의 절연 스페이서;상기 제1 전극에 전력을 공급하는 제1 RF 전원;상기 제2 전극에 전력을 공급하는 제2 RF 전원; 상기 제1 전극에 전력을 공급하는 동축 케이블 구조의 제1 RF 전력 공급부;상기 제2 전극의 복수의 위치에 상기 제2 RF 전력을 분배하는 제2 RF 전력 분배부;및상기 제1 RF 전원의 전력 및 상기 제2 RF 전원의 전력을 조절하는 제어부를 포함하고,상기 제2 RF 전력 분배부는:상기 제1 RF 전력 공급부를 감싸는 전력 입력부;상기 전력 입력부에서 대칭성을 가지고 방사형으로 분기하는 제2 전력 분배 라인; 및상기 제2 전력 분배 라인을 감싸는 접지 부재를 포함하고,상기 제2 전력 분배 라인의 일단은 상기 전력 입력부에 대칭적으로 연결되고, 상기 제2 전력 분배 라인의 타단은 상기 제2 전극에 대칭적으로 연결되고,외측 절연부는 와셔 형상이고 상기 제2 전극의 외측 주위에 배치되고,절연 지지부는 상기 외측 절연부, 상기 제2 전극, 상기 절연 스페이서, 및 상기 제1 전극 상에 배치되고, 상기 절연 지지부는 상기 외측 절연부와 결합하고,덮개부는 상기 절연 지지부 상에 배치되어 상기 절연 지지부와 결합하고,상기 덮개부는 도전성 물질로 형성된 원판 형상이고 원통 형상의 연장부에 연결되고상기 연장부는 상기 진공 용기 내부에서 외부로 연장되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치
7 7
제6 항에 있어서,상기 제1 RF 전력 공급부는:상기 제1 전극에 접촉하는 제1 RF 전력 공급 라인;상기 제1 RF 전력 공급라인을 감싸는 제1 RF 전력 내부 절연 자켓;상기 제1 RF 전력 절연 자켓을 감싸는 제1 RF 접지 외피; 및상기 제1 RF 접지 외피를 감싸는 제1 RF전력 외부 절연 자켓을 특징으로 하는 기판 처리 장치
8 8
제6 항에 있어서,제1 전극의 두께는 상기 제2 전극의 두께보다 작고, 상기 절연 스페이서는 외곽으로 갈수록 두께가 증가하고, 상기 제1 전극의 일면, 상기 제2 전극의 일면, 및 상기 절연 스페이서의 일면은 동일한 평면인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR101278972 KR 대한민국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
DOCDB 패밀리 정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.