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유입부와 유출부를 포함하며, 미소입자를 포함하는 유체의 흐름을 위한 공간을 제공하는 유동 챔버;상기 유동 챔버 내에서 상기 유입부로부터 상기 유출부로 상기 유체가 흐르는 제1 방향을 따라 순차적으로 서로 이격 배치되며, 상기 유체가 통과하는 면적을 제어하기 위하여 탄성적으로 변형할 수 있는 적어도 2개의 가변형 박막 구조물들; 및상기 가변형 박막 구조물들 각각에 압력을 인가하기 위한 적어도 2개의 박막 제어 라인들을 포함하고,상기 박막 제어 라인들은 상기 유동 챔버의 일측벽에 일방향으로 연장 형성되고 상기 제1 방향을 따라 서로 이격된 리세스들을 각각 포함하고, 상기 가변형 박막 구조물들은 상기 리세스들을 각각 커버하여 상기 유동 챔버의 일측벽의 적어도 일부를 구성하고,상기 가변형 박막 구조물 각각의 변형 정도에 따라 상기 유체가 통과하는 상기 유동 챔버의 단면적을 제어하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 리세스는 상기 유체가 흐르는 제1 방향에 직교하는 제2 방향으로 연장하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 박막 제어 라인은 공압 공급원과 연결되어 공압에 의해 상기 가변형 박막 구조물을 변형시키는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 박막 제어 라인들은 제1 박막 제어 라인 및 제2 박막 제어 라인을 포함하고, 상기 제1 박막 제어 라인은 제1 폭을 갖고 상기 제2 박막 제어 라인은 상기 제1 폭보다 더 큰 제2 폭을 갖는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 가변형 박막 구조물들은 제1 가변형 박막 구조물 및 제2 가변형 박막 구조물을 포함하고, 상기 제1 가변형 박막 구조물은 제1 두께를 갖고 상기 제2 가변형 박막 구조물은 상기 제1 두께보다 더 큰 제2 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 가변형 박막 구조물들은 제1 가변형 박막 구조물 및 제2 가변형 박막 구조물을 포함하고, 상기 제1 가변형 박막 구조물에는 제1 압력이 가해지고 상기 제2 가변형 박막 구조물에는 상기 제1 압력보다 더 큰 제2 압력이 가해지는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 유동 챔버에 연결되며 상기 가변형 박막 구조물에 의해 처리된 미소입자를 회수하기 위한 회수 유로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 8 항에 있어서, 상기 회수 유로는 상기 박막 제어 라인에 대응하도록 연장 형성되는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 8 항에 있어서, 상기 회수 유로를 개폐시키기 위한 가변형 밸브 구조물 및 상기 가변형 밸브 구조물에 압력을 인가하기 위한 밸브 제어 라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 10 항에 있어서, 상기 밸브 제어 라인은 상기 회수 유로의 일측벽에 연장 형성되는 리세스를 포함하며, 상기 가변형 밸브 구조물은 상기 밸브 제어 라인을 커버하여 상기 회수 유로의 일측벽을 구성하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 11 항에 있어서, 상기 밸브 제어 라인과 상기 박막 제어 라인은 서로 연결된 리세스이며, 상기 가변형 밸브 구조물과 상기 가변형 박막 구조물은 서로 연결된 가변형 박막인 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 유동 챔버의 일측벽 또는 상기 가변형 박막 구조물 상에 코팅된 화학적 또는 생물학적 물질막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 유동 챔버의 일측벽 또는 상기 가변형 박막 구조물 상에 배치되며 상기 유체가 통과하는 면적을 제어하기 위한 추가 구조물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 유동 챔버의 일측벽 상에 상기 가변형 박막 구조물에 인접하게 배치되며 상기 유체의 흐름을 조절하기 위한 가이딩 구조물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 유동 챔버의 일측벽 상에 상기 가변형 박막 구조물에 인접하게 배치되는 한 쌍의 전극들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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유입부와 유출부를 포함하며, 미소입자를 포함하는 유체의 흐름을 위한 공간을 제공하는 유동 챔버;상기 유동 챔버 내에 순차적으로 구비되며, 상기 유체가 통과하는 면적을 제어하기 위한 적어도 2개의 가변형 박막 구조물들;상기 가변형 박막 구조물들 각각에 압력을 인가하기 위한 적어도 2개의 박막 제어 라인들;상기 유동 챔버에 연결되며 상기 가변형 박막 구조물에 의해 처리된 미소입자를 회수하기 위한 회수 유로; 및상기 회수 유로를 개폐시키기 위한 가변형 밸브 구조물 및 상기 가변형 밸브 구조물에 압력을 인가하기 위한 밸브 제어 라인을 포함하는 미소입자 처리 장치
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제 17 항에 있어서, 상기 회수 유로는 상기 박막 제어 라인에 대응하도록 연장 형성되는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 17 항에 있어서, 상기 밸브 제어 라인은 상기 회수 유로의 일측벽에 연장 형성되는 리세스를 포함하며, 상기 가변형 밸브 구조물은 상기 밸브 제어 라인을 커버하여 상기 회수 유로의 일측벽을 구성하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 17 항에 있어서, 상기 밸브 제어 라인과 상기 박막 제어 라인은 서로 연결된 리세스이며, 상기 가변형 밸브 구조물과 상기 가변형 박막 구조물은 서로 연결된 가변형 박막인 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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