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제1 유출입부와 제2 유출입부를 포함하며, 상기 제1 유출입부로부터 상기 제2 유출입부로 또는 상기 제2 유출입부로부터 상기 제1 유출입부로 미소입자를 포함하는 유체의 흐름을 위한 공간을 제공하는 챔버;상기 챔버 내에서 상기 제1 및 제2 유출입부들 사이에 구비되며, 상기 유체 내의 미소입자를 처리하기 위한 적어도 하나의 가변형 박막 구조물;상기 가변형 박막 구조물에 압력을 인가하기 위한 적어도 하나의 박막 제어 라인; 및상기 챔버 내에 상기 가변형 박막 구조물에 대응하도록 구비되며, 상기 가변형 박막 구조물과 짝을 이루어 상기 미소입자를 필터링하기 위한 고정 구조물을 포함하고,상기 박막 제어 라인은 상기 챔버의 일측벽에 일방향으로 연장하도록 형성된 리세스를 포함하고, 상기 가변형 박막 구조물은 상기 리세스를 커버하여 상기 챔버의 일측벽을 구성하고,상기 고정 구조물은 상기 챔버의 일측벽 또는 타측벽 상에 형성되며 서로 이격된 적어도 한 쌍의 고정 패턴들을 포함하고,상기 가변형 박막 구조물은 상기 박막 제어 라인에 의해 가해지는 압력에 의해 변형되어 상기 고정 패턴들과 함께 유체 채널을 형성하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 가변형 박막 구조물이 변형하여 상기 유체 채널의 크기를 변화시키는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 고정 패턴들은 상기 챔버의 원주 방향으로 다수개가 배열되는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 4 항에 있어서, 상기 가변형 박막 구조물은 상기 고정 패턴들을 따라 원형 형상으로 연장하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 고정 패턴들 중 적어도 하나는 길이 방향을 따라 일정하거나 변화하는 단면 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 리세스는 상기 유체가 흐르는 방향에 직교하는 방향으로 연장하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 박막 제어 라인은 공압 공급원과 연결되어 공압에 의해 상기 가변형 박막 구조물을 변형시키는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 고정 구조물은 상기 유체의 흐름 방향을 따라 순차적으로 배열된 제1 고정 구조물 및 제2 고정 구조물을 포함하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 10 항에 있어서, 상기 제1 고정 구조물은 상기 챔버의 원주 방향으로 배열되는 제1 고정 패턴들을 포함하고, 상기 제2 고정 구조물은 상기 원주 방향으로 배열되며 상기 제1 고정 패턴들을 둘러싸는 제2 고정 패턴들을 포함하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 11 항에 있어서, 상기 제1 고정 패턴들은 제1 거리만큼 서로 이격 배치되고, 상기 제2 고정 패턴들은 상기 제1 거리보다 작은 제2 거리만큼 서로 이격 배치되는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 11 항에 있어서, 상기 제1 고정 패턴들 사이의 이격 거리는 상기 제2 고정 패턴들 사이의 이격 거리와 동일한 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 11 항에 있어서, 상기 가변형 박막 구조물은 상기 제1 고정 패턴들을 따라 원형 형상으로 연장하는 제1 가변형 박막 구조물 및 상기 제2 고정 패턴들을 따라 원형 형상으로 연장하는 제2 가변형 박막 구조물을 포함하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 14 항에 있어서, 상기 박막 제어 라인은 상기 제1 가변형 박막 구조물에 압력을 인가하기 위한 제1 박막 제어 라인 및 상기 제2 가변형 박막 구조물에 압력을 인가하기 위한 제2 박막 제어 라인을 포함하고,상기 제1 및 제2 박막 제어 라인들은 서로 독립적으로 제어되는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 챔버 내에 상기 가변형 박막 구조물의 전방 또는 후방에 배치되어 상기 유체의 흐름을 조절하기 위한 가이딩 구조물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 챔버의 일측벽 또는 양측벽 상에 상기 가변형 박막 구조물에 인접하게 배치되는 적어도 하나의 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 제1 유출입부는 상기 챔버의 중심부에 구비되고, 상기 제2 유출입부는 상기 챔버의 주변부에 구비되는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 미소입자 처리 장치의 회전 속도, 회전 가속도 또는 회전 방향을 조절하여 상기 유체의 이송 속도를 제어하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 유체는 생화학적 미소입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 미소입자 처리 장치
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