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플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치

  • 기술번호 : KST2015116422
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판처리 장치를 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는 상판을 포함하는 진공 용기, 상기 상판의 하부에 배치되는 가스 분배부, 상기 가스 분배부의 하부에 배치되고 상기 가스 분배부로부터 제공받은 공정가스를 토출하는 복수의 노즐들을 포함하고 제1 방향으로 나란히 연장되는 절연 지지부들, 상기 절연지지부들 사이에 배치되고 상기 제1 방향으로 나란히 연장되는 접지 전극들, 및 상기 절연지지부의 하부에 배치되고 제1 방향으로 나란히 연장되는 전원 전극들을 포함한다. 상기 전원 전극들에 RF 전력이 인가된다.
Int. CL H05H 1/34 (2006.01.01) H05H 1/46 (2006.01.01) H01L 21/3065 (2006.01.01)
CPC H05H 1/34(2013.01) H05H 1/34(2013.01) H05H 1/34(2013.01) H05H 1/34(2013.01)
출원번호/일자 1020130016155 (2013.02.15)
출원인 한국과학기술원, 주성엔지니어링(주)
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0021437 (2013.03.05) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2011-0031535 (2011.04.06)
관련 출원번호 1020110031535
심사청구여부/일자 Y (2016.02.29)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
2 주성엔지니어링(주) 대한민국 경기도 광주시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장홍영 대한민국 대전 유성구
2 서상훈 대한민국 대전 유성구
3 이윤성 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 누리 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2013.02.15 수리 (Accepted) 1-1-2013-0136099-40
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.07.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5098149-30
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
6 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2016.02.29 수리 (Accepted) 1-1-2016-0195778-64
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.02.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0195706-98
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.05.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0351796-48
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.06.27 수리 (Accepted) 1-1-2016-0616388-70
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.06.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0616361-48
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.11.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0846259-18
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.12.16 수리 (Accepted) 1-1-2016-1239638-25
13 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2016.12.16 보정각하 (Rejection of amendment) 1-1-2016-1239635-99
14 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2017.01.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0021388-62
15 보정각하결정서
Decision of Rejection for Amendment
2017.01.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0064246-39
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.18 수리 (Accepted) 4-1-2019-5143725-93
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
상판을 포함하는 진공 용기;외부로부터 공정가스를 제공받아 상기 공정 가스를 분배하고 상기 상판의 하부에 별도로 배치되는 가스 분배부;상기 가스 분배부의 하부에 배치되고 상기 가스 분배부로부터 제공받은 공정가스를 방전 공간에 토출하고 복수의 노즐들을 포함하는 절연 지지부;일정한 간격을 가지고 상기 절연지지부의 하부에 배치되고 제1 방향으로 나란히 연장되는 접지 전극들; 및일정한 간격을 가지고 상기 접지 전극들 사이에 배치되고 상기 절연지지부의 하부에 배치되고 상기 제1 방향으로 나란히 연장되는 전원 전극들을 포함하고,상기 방전 공간은 축전 결합 플라즈마를 생성하고 이웃한 접지 전극과 전원 전극 사이에 형성되고,상기 전원 전극들에 RF 전력이 인가되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
2 2
제1 항에 있어서,상기 노즐들은 상기 전원 전극과 상기 접지 전극 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
3 3
제1 항에 있어서,상기 절연 지지부는:상부 절연 지지부; 및상기 상부 절연 지지부의 하부에 배치된 하부 절연 지지부를 포함하고,상기 노즐은:상기 상부 절연 지지부를 관통하는 상부 노즐; 및상기 하부 절연 지지부를 관통하는 하부 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
4 4
제3 항에 있어서, 상기 상부 노즐의 구경은 상기 하부 노즐의 구경보다 큰 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
5 5
제3 항에 있어서,상기 하부 절연 지지부는 세라믹, 알루미나, 및 쿼츠 중에서 적어도 하나로 형성되고,상기 상부 절연 지지부는 테프론, 피크(PEEK) 수지, 세라믹, MICA, 및 플라스틱 중에서 적어도 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN103444269 CN 중국 FAMILY
2 KR101180373 KR 대한민국 FAMILY
3 KR101247103 KR 대한민국 FAMILY
4 KR101264913 KR 대한민국 FAMILY
5 KR101765323 KR 대한민국 FAMILY
6 KR101913377 KR 대한민국 FAMILY
7 US10553406 US 미국 FAMILY
8 US20140007812 US 미국 FAMILY
9 WO2012134199 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
10 WO2012134199 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN103444269 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN103444269 CN 중국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.