| 1 |
1
폴리아믹산 필름층의 이미드화 과정을 거쳐 형성된 무색 투명 폴리이미드 필름층을 수산화칼륨에 담금으로써 상기 무색 투명 폴리이미드 필름층의 겉 표피층에 포타슘 폴리아마이트를 형성하고, 상기 포타슘 폴리아마이트에 1차원의 금속 와이어들이 네트워크화된 전극을 압착하여 함침시키고, 상기 1차원의 금속 와이어들이 네트워크화된 전극이 함침된 상기 포타슘 폴리아마이트에 대한 열처리를 통해 상기 겉 표피층이 폴리이미드로 다시 환원됨으로써 형성되는 상기 무색 투명 폴리이미드 필름층을 포함하고,상기 무색 투명 폴리이미드 필름층의 상기 겉 표피층에 상기 1차원의 금속 와이어들이 네트워크화된 전극의 접점이 서로 용융된 형상으로 내장되는 것을 특징으로 하는 무색 투명 폴리이미드 투명 전극
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 1차원의 금속 와이어들이 네트워크화된 전극은, 은 나노와이어, 구리 나노와이어 및 짧은(chopped) 나노섬유 중 적어도 하나를 이용하여 생성되고,상기 짧은 나노섬유는, 고분자 나노섬유의 표피 층에 은, 구리 및 알루미늄 중에서 선택된 적어도 하나 이상의 금속으로 도금되는 것을 특징으로 하는 무색 투명 폴리이미드 투명 전극
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 은 나노와이어 네트워크는, 직경이 10㎚에서 100 ㎚까지의 범위를 갖고, 길이가 3㎛에서 100 ㎛까지의 범위를 갖고, 횡경비가 20에서 10000까지의 범위를 갖는 것을 특징으로 하는 무색 투명 폴리이미드 투명 전극
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 무색 투명 폴리이미드 필름층의 두께는, 5 ㎛에서 100 ㎛까지의 범위를 갖는 것을 특징으로 하는 무색 투명 폴리이미드 투명 전극
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 포타슘 폴리아마이트가 형성되는 상기 겉 표피층의 두께는, 100 ㎚ 에서 3 ㎛까지의 범위를 갖는 것을 특징으로 하는 무색 투명 폴리이미드 투명 전극
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 수산화칼륨은, 1 몰(M)에서 3 몰(M)까지의 농도 범위를 갖는 것을 특징으로 하는 무색 투명 폴리이미드 투명 전극
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 1차원의 금속 와이어들이 네트워크화된 전극은, 호스트 기판 상에 코팅되고,상기 호스트 기판은, 상기 이미드화 과정을 위해 필요한 열처리 온도에서 견딜 수 있는 금속, 세라믹, 실리콘 및 유리 중 적어도 하나를 재료로 하는 기판인 것을 특징으로 하는 무색 투명 폴리이미드 투명 전극
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 1차원의 금속 와이어들이 네트워크화된 전극은, 호스트 기판 상에 코팅되고,상기 호스트 기판은, 최종적으로 제작된 무색 투명 폴리이미드 투명 전극이 상기 호스트 기판으로부터 쉽게 분리되도록 하기 위해, OTS(octadecyltricholorosilane)가 코팅되는 것을 특징으로 하는 무색 투명 폴리이미드 투명 전극
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 1차원의 금속 와이어들이 네트워크화된 전극의 접점은, 상기 포타슘 폴리아마이트를 폴리이미드로 환원시키기 위한 열처리 과정에서 접점 부분이 서로 용접되는 것을 특징으로 하는 무색 투명 폴리이미드 투명 전극
|
| 10 |
10
1차원의 금속 와이어들이 네트워크화된 전극을 제조하는 제1 단계;무수물과 아민의 교반으로 폴리아믹산 용액을 제조하는 제2 단계;호스트 기판을 OTS(octadecyltricholorosilane)로 코팅하는 제3 단계;상기 폴리아믹산 용액을 상기 호스트 기판 위에 코팅하는 제4 단계;상기 호스트 기판 위에 코팅된 폴리아믹산 막을 열처리하여 무색 투명 폴리이미드 필름층을 제조하는 제5 단계;수산화칼륨을 이용하여 상기 무색 투명 폴리이미드 필름층의 겉 표피층을 포타슘 폴리아마이트로 변화시키는 제6 단계;압착을 통해 상기 1차원의 금속 와이어들이 네트워크화된 전극을 상기 겉 표피층에 내장시키는 제7 단계; 및상기 1차원의 금속 와이어들이 네트워크화된 전극이 상기 포타슘 폴리아마이트에 함침된 후, 열처리를 통해 상기 포타슘 폴리아마이트를 폴리이미드로 환원시켜 상기 무색 투명 폴리이미드 필름층으로 환원시키는 제8 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 무색 투명 폴리이미드 투명 전극의 제조방법
|
| 11 |
11
제10항에 있어서,상기 1차원의 금속 와이어들이 네트워크화된 전극은, 은 나노와이어, 구리 나노와이어 및 짧은(chopped) 나노섬유 중 적어도 하나를 이용하여 제조되고,상기 짧은 나노섬유는, 고분자 나노섬유의 표피 층에 은, 구리 및 알루미늄 중에서 선택된 적어도 하나 이상의 금속으로 도금되는 것을 특징으로 하는 무색 투명 폴리이미드 투명 전극의 제조방법
|
| 12 |
12
제11항에 있어서,상기 제1 단계는,상기 은 나노와이어를 이용하여 상기 네트워크화된 전극을 제조하는 경우,AgCl, AgNO3, PVP 및 EG를 이용한 폴리올 환원 공정을 통해 은 나노와이어를 합성하는 제1-1 단계;상기 은 나노와이어가 균일하게 용액 안에 분산된 은 나노와이어 분산용액을 제조하는 제1-2 단계; 및상기 은 나노와이어 분산용액을 진공여과 전사 코팅 방식을 이용하여 나일론 필터 위에 올려 은 나노와이어 네트워크를 생성하는 제1-3 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 무색 투명 폴리이미드 투명 전극의 제조방법
|
| 13 |
13
제10항에 있어서,상기 폴리아믹산 용액은 상기 무수물과 상기 아민의 중합반응에 의해 생성되고,상기 무수물은, 트리플루오로메틸 그룹을 갖는 6FDA(4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride)를 포함하고,상기 아민은, 설폰 구조를 포함하는 APS(ammonium persulfate)를 포함하는 것을 특징으로 하는 무색 투명 폴리이미드 투명 전극의 제조방법
|
| 14 |
14
제10항에 있어서,상기 제4 단계는,바 코팅, 스핀 코팅 및 스프레이법 중에서 선택된 하나의 공정을 이용하여, 상기 폴리아믹산 용액을 상기 호스트 기판 상에 코팅하는 것을 특징으로 하는 무색 투명 폴리이미드 투명 전극의 제조방법
|
| 15 |
15
제10항에 있어서,상기 제5 단계는,상기 폴리아믹산 막을 300 °C의 온도에서 열처리하는 과정을 포함하고,상기 제8 단계는,상기 포타슘 폴리아마이트를 300 °C의 온도에서 열처리하는 과정을 포함하는것을 특징으로 하는 무색 투명 폴리이미드 투명 전극의 제조방법
|
| 16 |
16
제10항에 있어서,상기 제7 단계는,진공 여과 전사방식을 통해 나일론 필터에 올려져 있는 상기 1차원의 금속 와이어들이 네트워크화된 전극을 압착기를 이용하여 1 kgf/cm2에서 5 kgf/cm2까지의 압력 범위에서 압력을 가하여 상기 포타슘 폴리아마이트에 전사하는 것을 특징으로 하는 무색 투명 폴리이미드 투명 전극의 제조방법
|
