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미세채널에 플라즈모닉 구조를 선택적으로 갖는 미세유체칩을 제조하는 방법

  • 기술번호 : KST2015116911
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 미세채널에 플라즈모닉 구조를 선택적으로 갖는 미세유체칩을 제조하는 방법은 제1기판의 표면에 미세채널을 형성하는 미세채널 형성 단계; 상기 제1기판의 표면에 금속 박막을 증착하는 금속 박막 증착 단계; 상기 제1기판의 표면 중 미세채널이 위치하는 부분을 제외한 나머지 부분에 증착된 금속 박막에 점착용 테이프를 부착하여 박리하는 금속 박막 박리 단계; 상기 제1기판의 표면과 제2기판의 표면을 산소 플라즈마로 처리하여 상기 제1기판에서 금속 박막이 박리된 부분을 화학적으로 변화시키고 상기 제1기판의 표면에 증착된 금속 박막에 플라즈모닉 구조를 형성하고 상기 제2기판의 표면을 화학적으로 변화시키는 플라즈마 처리 단계; 및 상기 제1기판의 표면에서 화학적으로 변화된 부분을 상기 제2기판의 표면에서 화학적으로 변화된 부분에 부착하는 제1기판 부착 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL G01N 27/60 (2006.01) B81C 1/00 (2006.01) G01N 21/65 (2006.01) G01N 33/48 (2006.01)
CPC G01N 21/658(2013.01) G01N 21/658(2013.01) G01N 21/658(2013.01) G01N 21/658(2013.01) G01N 21/658(2013.01) G01N 21/658(2013.01) G01N 21/658(2013.01)
출원번호/일자 1020140064906 (2014.05.29)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1511040-0000 (2015.04.06)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20150410) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.05.29)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정기훈 대한민국 대전광역시 유성구
2 오영재 대한민국 경기도 고양시 일산동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2014.05.29 수리 (Accepted) 1-1-2014-0509159-75
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2014.12.30 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2015.01.14 수리 (Accepted) 1-1-2015-5002869-44
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2015.02.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2015-0011645-11
8 등록결정서
Decision to grant		 2015.03.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0170227-12
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제1기판(100)의 표면에 미세채널(110)을 형성하는 미세채널 형성 단계(S10); 상기 제1기판(100)의 표면에 금속 박막(200)을 증착하는 금속 박막 증착 단계(S20);상기 제1기판(100)의 표면 중 미세채널(110)이 위치하는 부분을 제외한 나머지 부분에 증착된 금속 박막(200)에 점착용 테이프(300)를 부착하여 박리하는 금속 박막 박리 단계(S30);상기 제1기판(100)의 표면과 제2기판(400)의 표면을 산소 플라즈마로 처리하여 상기 제1기판(100)에서 금속 박막(200)이 박리된 부분을 화학적으로 변화시키고 상기 제1기판(100)의 표면에 증착된 금속 박막(200)에 플라즈모닉 구조를 형성하고 상기 제2기판(400)의 표면을 화학적으로 변화시키는 플라즈마 처리 단계(S40); 및상기 제1기판(100)의 표면에서 화학적으로 변화된 부분을 상기 제2기판(400)의 표면에서 화학적으로 변화된 부분에 부착하는 제1기판 부착 단계(S80);를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세채널에 플라즈모닉 구조를 선택적으로 갖는 미세유체칩을 제조하는 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 제1기판(100)이 유리, PDMS(polydimethylsiloxane), 실리콘, 폴리에틸렌, 또는 폴리스티렌 재질로 이루어지고, 상기 금속 박막(200)이 은(Ag) 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세채널에 플라즈모닉 구조를 선택적으로 갖는 미세유체칩을 제조하는 방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 금속 박막 증착 단계는상기 제1기판(100)의 표면에 금속 박막(200)을 증착하는 두께가 10㎚ ~ 1000 ㎚ 인 것을 특징으로 하는 미세채널에 플라즈모닉 구조를 선택적으로 갖는 미세유체칩을 제조하는 방법
4 4
제1항에 있어서,상기 플라즈모닉 구조 형성 단계(S40)와 제1기판 부착 단계(S80) 사이에,상기 제1기판(100)의 표면에 메탈 박막(500)을 증착하는 메탈 박막 증착 단계(S50);상기 제1기판(100)의 표면 중 플라즈모닉 구조가 형성된 부분을 제외한 나머지 부분에 증착된 메탈 박막(500)에 점착용 테이프(300)를 부착하여 박리하는 메탈 박막 박리 단계(S60);상기 제1기판(100)의 표면과 제2기판(400)의 표면을 산소 플라즈마로 처리하여 상기 제1기판(100)에서 메탈 박막(500)이 박리된 부분을 화학적으로 변화시키고 상기 플라즈모닉 구조에 증착된 메탈 박막(500)의 형태를 변형시키고 상기 제2기판(400)의 표면을 화학적으로 변화시키는 플라즈마 처리 반복 단계(S70);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세채널에 플라즈모닉 구조를 선택적으로 갖는 미세유체칩을 제조하는 방법
5 5
제4항에 있어서, 상기 메탈 박막(500)은Au, Ag, Al, Ti, Ni, Cu, Cr, 또는 Pt로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세채널에 플라즈모닉 구조를 선택적으로 갖는 미세유체칩을 제조하는 방법
6 6
제4항에 있어서, 상기 메탈 박막 증착 단계(S50)는상기 제1기판(100)의 표면에 서로 다른 재질로 이루어지는 다수의 메탈 박막(500)을 각각 증착하는 것을 특징으로 하는 미세채널에 플라즈모닉 구조를 선택적으로 갖는 미세유체칩을 제조하는 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국과학기술원 중견연구자지원사업 자연 포토닉구조의 나노공학기반 영감기술
2 미래창조과학부 한국과학기술원 나노원천기술개발사업 메타렌즈어레이기반 대면적 고속 나노리소그래피 플랫폼 개발