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(a) 기판(10)을 준비하는 단계;(b) 상기 기판(10) 상에 규칙적으로 배열되는 원형 구조체(20)를 형성하는 단계;(c) 상기 기판(10) 및 상기 원형 구조체(20) 상에 제1 증착 금속(30)을 1차적으로 코팅하는 단계;(d) 상기 원형 구조체(20)를 제거하여 나노 크기의 구멍(35)을 형성하는 단계;(e) 상기 나노 크기의 구멍(35) 상에 서로 다른 2 이상의 블록 공중합체의 코팅, 유도 자기 조립 과정 및 산화를 통해 동심원 나노 구조체(40)를 형성하는 단계;(f) 상기 동심원 나노 구조체(40) 상에 제2 증착 금속(50)을 2차적으로 코팅하는 단계; 및(g) 상기 제2 증착 금속(50)의 식각을 통해 복수의 동심원 금속 나노갭(54)을 형성하는 단계;를 포함하는,표면강화 라만 분광기판의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 원형 구조체(20)의 직경은 10 nm 내지 1 um로 형성되는,표면강화 라만 분광기판의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 원형 구조체(20)는 반응성 이온 에칭을 이용하여 그 직경을 줄이는,표면강화 라만 분광기판의 제조 방법
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청구항 4은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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제 1 항에 있어서상기 제1 증착 금속(30)의 코팅 두께는 50 nm 이하인,표면강화 라만 분광기판의 제조 방법
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제 1 항에 있어서상기 나노 크기의 구멍(35)은 반응성 이온 에칭(Reactive ion etching)을 통한 상기 원형 구조체(20)의 제거, 유기 용매를 이용한 원형 구조체(20)의 용해, 또는 이들의 조합을 통해 형성되는,표면강화 라만 분광기판의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 나노 크기의 구멍(35)의 직경은 10 nm 내지 1 um 인,표면강화 라만 분광기판의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 블록 공중합체는 폴리스타일렌-b-폴리디메틸실록산(polystyrene-b-polydimethylsioxane),폴리아크릴로나이트릴-b-폴리디메틸실록산(polyacrylonitrile-b-polydimethylsiloxane), 폴리에틸렌옥사이드-b-폴리디메틸실록산(polyethylene oxide-b-polydimethylsiloxane), 폴리(2-비닐피리딘)-b-폴리디메틸실록산(poly(2-vinylpyridine)-b-polydimethylsiloxane), 폴리(4-비닐피리딘)-b-폴리디메틸실록산(poly(4-vinylpyridine)-b-polydimethylsiloxane), 폴리메틸메타크릴레이트-b-폴리디메틸실록산(polymethylmethacrylate-b-polydimethylsiloxane), 폴리아크릴로나이트릴-b-폴리이소프렌 (polyacrylonitrile-b-polyisopyrene), 및 폴리에틸렌옥사이드-b-폴리이소프렌(poly(ethylene oxide)-b-polyisopyrene)를 포함하는 그룹 중 하나인,표면강화 라만 분광기판의 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 블록 공중합체의 부피 비율은 전체 100 부피%에 대해 일측 블록이 10 부피% 내지 30부피%의 부피 비율을 갖는,표면강화 라만 분광기판의 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 블록 공중합체는 5 kg/mol 내지 100 kg/mo의 분자량을 갖는,표면강화 라만 분광기판의 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 블록 공중합체의 유도 자기 조립은 열적 어닐링, 용매 어닐링 또는 이들의 조합을 포함하는,표면강화 라만 분광기판의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 블록 공중합체는 동심원 나노 구조 형태를 갖는,표면강화 라만 분광기판의 제조 방법
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제 12 항에 있어서,상기 블록 공중합체는 5 nm 내지 50 nm 의 직경을 갖는,표면강화 라만 분광기판의 제조 방법
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청구항 14은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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제 1 항에 있어서,상기 제2 증착 금속(50)의 두께는 20 nm 내지 50 nm 인,표면강화 라만 분광기판의 제조 방법
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제 15 항에 있어서,상기 제2 증착 금속(50)의 식각은 10W 내지 400W에서 10초 내지 200초 동안 수행되는,표면강화 라만 분광기판의 제조 방법
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제 12 항에 있어서,상기 형성된 동심원 금속 나노갭(54)은 5 nm 내지 50 nm 인,표면강화 라만 분광기판의 제조 방법
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기판(10);상기 기판(10) 상에 코팅되는 증착 금속(30,50);상기 증착 금속(30,50)에 형성된 나노 크기의 구멍(35);상기 나노 크기의 구멍(35) 상에 서로 다른 2 이상의 블록 공중합체의 코팅, 유도 자기 조립 과정 및 산화를 통해 형성되는 동심원 나노 구조체(40);상기 증착 금속(30,50)의 식각을 통해 상기 동심원 나노 구조체(40) 상에 형성되는 복수의 동심원 금속 나노갭(54);을 포함하는,표면강화 라만 분광기판
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