요약 | 저온 비젖음 현상과 극미세 패턴을 갖는 템플렛을 이용한 표면 증강 라만 분광 측정용(Surface Enhanced Raman Spectroscopy) 대면적 금속 나노섬 형성 방법을 개시한다. 상기 표면 증강 라만 분광 측정용(Surface Enhanced Raman Spectroscopy) 극미세 패턴을 가지는 금속 나노 섬(Metal Nano Isalnds)의 형성 방법은 기판(10)을 제공하는 제1단계, 상기 기판(10) 상에 나노 레벨의 금속 박막(11)을 형성하는 제2단계, 상기 금속 박막(11) 상에 미세 나노 패턴이 형성된 고분자 주형(12)의 패턴 면을 접촉시킨 후, 열처리 공정을 수행하여 상기 금속 박막(11)에 비젖음성 현상을 유발시키는 제3단계 및 상기 고분자 주형(12)의 미세 패턴 형상으로 상기 금속 박막(11)의 금속 물질이 비젖음성되어 금속 나노 섬(Metal Nano islands)을 형성하는 제4단계를 포함한다. |
---|---|
Int. CL | G01J 3/44 (2006.01) H01L 21/027 (2006.01) |
CPC | H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020110017305 (2011.02.25) |
출원인 | 한국과학기술원 |
등록번호/일자 | 10-1209701-0000 (2012.12.03) |
공개번호/일자 | 10-2012-0097837 (2012.09.05) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20121210) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2011.02.25) |
심사청구항수 | 7 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
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1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 정기훈 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
2 | 강민희 | 대한민국 | 부산광역시 영도구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 이원희 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술원 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2011.02.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0140217-12 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2011.11.22 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2011.12.16 | 수리 (Accepted) | 9-1-2011-0098679-14 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2012.06.18 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0351186-69 |
5 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2012.08.20 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0664577-13 |
6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2012.08.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0664576-78 |
7 | 등록결정서 Decision to grant |
2012.11.19 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0695929-54 |
8 | [일부 청구항 포기]취하(포기)서 [Abandonment of Partial Claims] Request for Withdrawal (Abandonment) |
2012.12.03 | 수리 (Accepted) | 2-1-2012-0581439-31 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
15 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
번호 | 청구항 |
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1 |
1 표면 증강 라만 분광 측정을 위하여 기판(10) 상에 금속 나노 섬을 형성하는 방법에 있어서, 기판(10)을 제공하는 제1단계;상기 기판(10) 상에 나노 레벨의 금속 박막(11)을 형성하는 제2단계; 상기 금속 박막(11) 상에 미세 나노 패턴이 형성된 고분자 주형(12)의 패턴 면을 접촉시킨 후, 열처리 공정을 수행하여 상기 금속 박막(11)에 비젖음성 현상을 유발시키는 제3단계; 및상기 고분자 주형(12)의 미세 패턴 형상으로 상기 금속 박막(11)의 금속 물질이 비젖음성되어 금속 나노 섬(Metal Nano islands)을 형성하는 제4단계를 포함하며,상기 제3단계는, 상기 금속 박막(11) 물질의 비젖음성 상태에 따른 낮은 온도의 열처리 공정을 이용하여 상기 금속 박막(11) 물질의 비젖음성을 유발시키는 단계이며, 상기 제4단계는, 상기 금속 박막(11)의 두께를 변경함으로써, 상기 금속 박막(11)의 미세 패턴과 표면 증강 라만 분광(Surface Enhanced Raman Scattering)의 세기를 조절시키는 것을 특징으로 하는 저온 비젖음 현상과 극미세 패턴을 갖는 템플렛을 이용한 표면 증강 라만 분광 측정용(Surface Enhanced Raman Spectroscopy) 대면적 금속 나노섬 형성 방법 |
2 |
2 제1항에 있어서, 상기 제4단계는, 상기 고분자 주형(12)을 접촉시킨 후 저온 열처리 공정 조건을 가지는 것을 특징으로 하는 저온 비젖음 현상과 극미세 패턴을 갖는 템플렛을 이용한 표면 증강 라만 분광 측정용(Surface Enhanced Raman Spectroscopy) 대면적 금속 나노섬 형성 방법 |
3 |
3 삭제 |
4 |
4 삭제 |
5 |
5 제1항에 있어서, 상기 제2단계는, 상기 기판(10) 상에 열증착 또는 전자 빔 증착 공정을 수행하여 열에 의해 비젖음성 성질을 갖는 금속 물질을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 저온 비젖음 현상과 극미세 패턴을 갖는 템플렛을 이용한 표면 증강 라만 분광 측정용(Surface Enhanced Raman Spectroscopy) 대면적 금속 나노섬 형성 방법 |
6 |
6 삭제 |
7 |
7 청구항 7은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다 |
8 |
8 청구항 8은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다 |
9 |
9 청구항 9은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다 |
10 |
10 삭제 |
11 |
11 청구항 11은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다 |
지정국 정보가 없습니다 |
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패밀리정보가 없습니다 |
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순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
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1 | 지식경제부 | 한국과학기술원 | 산업원천기술개발사업 | 주파수빗 기술 기반 Terahertz/NIR 복합 고속 분광 내시경 개발 |
2 | 교육과학기술부 | 한국과학기술원 | 중견연구자지원사업(도약연구) | 자연 포토닉구조의 나노공학기반 영감기술 |
특허 등록번호 | 10-1209701-0000 |
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표시번호 | 사항 |
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1 |
출원 연월일 : 20110225 출원 번호 : 1020110017305 공고 연월일 : 20121210 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20121119 청구범위의 항수 : 3 유별 : H01L 21/027 발명의 명칭 : 저온 비젖음 현상과 극미세 패턴을 갖는 템플렛을 이용한 표면 증강 라만 분광 측정용 대면적 금속 나노섬 형성 방법. 존속기간(예정)만료일 : 20171204 |
순위번호 | 사항 |
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1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 81,000 원 | 2012년 12월 04일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 74,200 원 | 2015년 11월 30일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 74,200 원 | 2016년 11월 29일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
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1 | [특허출원]특허출원서 | 2011.02.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0140217-12 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2011.11.22 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 | 2011.12.16 | 수리 (Accepted) | 9-1-2011-0098679-14 |
4 | 의견제출통지서 | 2012.06.18 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0351186-69 |
5 | [명세서등 보정]보정서 | 2012.08.20 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0664577-13 |
6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2012.08.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0664576-78 |
7 | 등록결정서 | 2012.11.19 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0695929-54 |
8 | [일부 청구항 포기]취하(포기)서 | 2012.12.03 | 수리 (Accepted) | 2-1-2012-0581439-31 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
15 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
기술번호 | KST2014047250 |
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자료제공기관 | NTB |
기술공급기관 | 한국과학기술원 |
기술명 | 저온 비젖음 현상과 극미세 패턴을 갖는 템플렛을 이용한 표면증강라만분광측정용대면적금속나노섬형성 방법. |
기술개요 |
저온 비젖음 현상과 극미세 패턴을 갖는 템플렛을 이용한 표면 증강 라만 분광 측정용(Surface Enhanced Raman Spectroscopy) 대면적 금속 나노섬 형성 방법을 개시한다. 상기 표면 증강 라만 분광 측정용(Surface Enhanced Raman Spectroscopy) 극미세 패턴을 가지는 금속 나노 섬(Metal Nano Isalnds)의 형성 방법은 기판(10)을 제공하는 제1단계, 상기 기판(10) 상에 나노 레벨의 금속 박막(11)을 형성하는 제2단계, 상기 금속 박막(11) 상에 미세 나노 패턴이 형성된 고분자 주형(12)의 패턴 면을 접촉시킨 후, 열처리 공정을 수행하여 상기 금속 박막(11)에 비젖음성 현상을 유발시키는 제3단계 및 상기 고분자 주형(12)의 미세 패턴 형상으로 상기 금속 박막(11)의 금속 물질이 비젖음성되어 금속 나노 섬(Metal Nano islands)을 형성하는 제4단계를 포함한다. |
개발상태 | 기술개발완료 |
기술의 우수성 | |
응용분야 | 나노 패터닝·나노구조 제어·극미소 기전시스템 기술 |
시장규모 및 동향 | |
희망거래유형 | 기술매매,라이센스, |
사업화적용실적 | |
도입시고려사항 |
과제고유번호 | 1345149738 |
---|---|
세부과제번호 | 2010-0017693 |
연구과제명 | 자연 포토닉구조의 나노공학기반 영감기술 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 201005~201504 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1415116367 |
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세부과제번호 | KI001889 |
연구과제명 | 주파수빗 기술 기반 Terahertz/NIR 복합 고속 분광 내시경 개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 200803~201302 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
과제고유번호 | 1345119223 |
---|---|
세부과제번호 | 2010-0017693 |
연구과제명 | 자연 포토닉구조의 나노공학기반 영감기술 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
성과제출연도 | 2010 |
연구기간 | 201005~201504 |
기여율 | 0.33333334 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1345194351 |
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세부과제번호 | KIOST02 |
연구과제명 | 테라헤르쯔파 대역 물질과 소자개발 및 측정에 관한 응용연구 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 교육과학기술부 |
연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
성과제출연도 | 2012 |
연구기간 | 201101~201312 |
기여율 | 0.33333334 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1415109064 |
---|---|
세부과제번호 | KI001889 |
연구과제명 | 주파수빗 기술 기반 Terahertz/NIR 복합 고속 분광 내시경 개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
성과제출연도 | 2010 |
연구기간 | 200803~201302 |
기여율 | 0.33333334 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
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