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레이저 간섭 리소그래피를 이용한 표면 플라즈모닉 컬러 필터의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015119310
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 표면 플라즈모닉 컬러 필터의 제조 방법은, (a) 기판 위에 금속막을 형성하는 단계와, (b) 금속막 위에 감광층을 형성하는 단계와, (c) 감광층에 레이저 간섭무늬를 조사하여 감광층에 주기성을 가지는 나노 홀 어레이(nano hole array)를 형성하는 단계와, (d) 감광층의 나노 홀 어레이를 이용하여 금속막을 식각(etching)하여 금속막에 나노 홀 어레이를 형성하는 단계와, (e) 나노 홀 어레이를 가지는 감광층을 나노 홀 어레이가 형성된 금속막으로부터 제거하고 나노 홀 어레이가 형성된 금속막 위에 유전체층을 형성하는 단계를 포함한다.
Int. CL G02B 5/20 (2006.01)
CPC G02B 5/201(2013.01) G02B 5/201(2013.01) G02B 5/201(2013.01) G02B 5/201(2013.01) G02B 5/201(2013.01)
출원번호/일자 1020120099268 (2012.09.07)
출원인 한국과학기술원, 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1445844-0000 (2014.09.23)
공개번호/일자 10-2014-0033595 (2014.03.19) 문서열기
공고번호/일자 (20141002) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020140059166;
심사청구여부/일자 Y (2012.09.07)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
2 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최경철 대한민국 대전 유성구
2 도윤선 대한민국 대구 서구
3 주병권 대한민국 서울특별시 종로구
4 박정호 대한민국 경기도 고양시 일산동구
5 황보연 대한민국 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충정 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로***,*층(역삼동,성보역삼빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
2 고려대학교 산학협력단 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.09.07 수리 (Accepted) 1-1-2012-0724039-68
2 보정요구서
Request for Amendment		 2012.09.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0114205-48
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2012.09.22 수리 (Accepted) 1-1-2012-0769989-05
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.07.03 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.08.08 수리 (Accepted) 9-1-2013-0063858-51
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.12.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0874475-61
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.02.17 수리 (Accepted) 1-1-2014-0150244-38
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.03.17 수리 (Accepted) 1-1-2014-0253571-91
11 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.04.17 수리 (Accepted) 1-1-2014-0366816-09
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
13 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2014.05.16 수리 (Accepted) 1-1-2014-0462798-94
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.05.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0462680-16
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.05.16 수리 (Accepted) 1-1-2014-0462679-69
16 등록결정서
Decision to grant		 2014.09.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0603376-06
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
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번호 청구항
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표면 플라즈모닉 컬러 필터의 제조 방법에 있어서,(a) 기판 위에 금속막을 형성하는 단계;(b) 상기 금속막 위에 감광층을 형성하는 단계;(c) 상기 감광층에, 상기 감광층 및 금속막이 형성된 기판을 회전하면서 레이저 간섭무늬를 통과시키지 않는 마스크(mask)를 이용하여 상기 레이저 간섭무늬를 복수번 조사하여 상기 감광층에 나노 홀들(nano holes)의 배열 방향이 서로 다르고 주기성을 가지는 단위 나노 홀 어레이(nano hole array)들을 형성하는 단계;(d) 상기 감광층의 단위 나노 홀 어레이들을 이용하여 상기 금속막을 식각(etching)하여 상기 금속막에 단위 나노 홀 어레이들을 형성하는 단계; 및(e) 상기 단위 나노 홀 어레이들을 가지는 감광층을 상기 단위 나노 홀 어레이들이 형성된 금속막으로부터 제거하고 상기 단위 나노 홀 어레이들이 형성된 금속막 위에 유전체층을 형성하는 단계를 포함하는 표면 플라즈모닉 컬러 필터의 제조 방법
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제3항에 있어서,상기 단위 나노 홀 어레이에 포함된 나노 홀은 적어도 두 개의 방향축들에 주기적으로 배치되고 상기 방향축들 각각에 적어도 3개가 배치되는 표면 플라즈모닉 컬러 필터의 제조 방법
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표면 플라즈모닉 컬러 필터의 제조 방법에 있어서,(a) 기판 위에 금속막을 형성하는 단계;(b) 상기 금속막 위에 감광층을 형성하는 단계;(c) 상기 감광층에, 제1 레이저 간섭무늬를 통과시키지 않고 적색 서브-화소(subpixel) 형성을 위한 마스크(mask), 제2 레이저 간섭무늬를 통과시키지 않고 녹색 서브-화소 형성을 위한 마스크, 및 제3 레이저 간섭무늬를 통과시키지 않고 청색 서브-화소 형성을 위한 마스크를 이용하여 상기 제1 레이저 간섭무늬, 상기 제2 레이저 간섭무늬, 및 상기 제3 레이저 간섭무늬를 각각 조사하여 상기 감광층에 적색 서브-화소, 녹색 서브-화소, 및 청색 서브-화소에 각각 대응하는 제1 나노 홀 주기를 가지는 제1 나노 홀 어레이(nano hole array), 제2 나노 홀 주기를 가지는 제2 나노 홀 어레이, 및 제3 나노 홀 주기를 가지는 제3 나노 홀 어레이를 형성하는 단계;(d) 상기 감광층의 제1 나노 홀 어레이 및 제2 나노 홀 어레이 및 제3 나노 홀 어레이를 이용하여 상기 금속막을 식각(etching)하여 상기 금속막에 제1 나노 홀 어레이 및 제2 나노 홀 어레이 및 제3 나노 홀 어레이를 형성하는 단계; 및(e) 상기 제1 나노 홀 어레이 및 제2 나노 홀 어레이 및 제3 나노 홀 어레이를 가지는 감광층을 상기 제1 나노 홀 어레이 및 제2 나노 홀 어레이 및 제3 나노 홀 어레이가 형성된 금속막으로부터 제거하고 상기 제1 나노 홀 어레이 및 제2 나노 홀 어레이 및 제3 나노 홀 어레이가 형성된 금속막 위에 유전체층을 형성하는 단계를 포함하는 표면 플라즈모닉 컬러 필터의 제조 방법
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1 KR101550008 KR 대한민국 FAMILY

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