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적층세라믹캐패시터의제조방법

  • 기술번호 : KST2015119787
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명을 세라믹 유전체층 사이에 형성된 가공층 내부로 용융금속을 주입하여 내부전극을 형성하는 주입전극법에 의한 적층 세라믹 캐패시터의 제조방법에 관한 것으로, 특히 내부전극 형성용 용융금속을 가공층 내부로 주입하기전에 세라믹 유전체의 양측면에 은이나 백금/은의 페이스트를 도포하여 소부함으로써 일차 외부전극을 형성한 후에 기공층으로 부터 세라믹 유전체의 외부표면을 향해 형성된 주입통로를 통하여 용융금속의 주입을 행하여 내부전극을 형성하는 방법에 관한 것이다.본 발명의 주입통로를 통한 내부전극 주입방식은 종래의 다공성 침투층을 통한 방법에 비해 비교적 낮은 압력하에서도 신속하게 용융금속의 주입이 수행되는 장점이 있다.
Int. CL H01G 4/30 (2006.01) H01G 4/33 (2006.01)
CPC H01G 4/30(2013.01) H01G 4/30(2013.01) H01G 4/30(2013.01)
출원번호/일자 1019910015865 (1991.09.11)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0081644-0000 (1995.01.20)
공개번호/일자 10-1993-0006986 (1993.04.22) 문서열기
공고번호/일자 1019940010559 (19941024) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1991.09.11)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김윤호 대한민국 서울특별시노원구
2 오태성 대한민국 서울특별시성북구
3 이창봉 대한민국 서울특별시양천구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1991.09.11 수리 (Accepted) 1-1-1991-0089148-13
2 특허출원서
Patent Application
1991.09.11 수리 (Accepted) 1-1-1991-0089147-78
3 출원심사청구서
Request for Examination
1991.09.11 수리 (Accepted) 1-1-1991-0089149-69
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
1994.06.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1991-0040216-32
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
1994.08.01 수리 (Accepted) 1-1-1991-0089150-16
6 의견서
Written Opinion
1994.08.01 수리 (Accepted) 1-1-1991-0089151-51
7 출원공고결정서
Written decision on publication of examined application
1994.10.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1991-0040217-88
8 등록사정서
Decision to grant
1995.01.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1991-0040218-23
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

가연성물질로 이루어진 카본페이스트가 도포된 유전체 시이트를 다수매 적층 소결하여 생성된 기공층의 내부로 전면 후면과 측면중의 한쪽과 연결된 외부통로를 통하여 용융금속을 주입하여 내부전극을 형성하는 적층세라믹 캐패시터의 제조방법에 있어서, 카본페이스트의 전방 또는 후방단부의 일측이 양쪽면중의 한쪽과 연결되도록 유전체 시이트의 단부까지 돌출되도록 도포하여 소결 후에 생성된 기공층에 세라믹 유전체의 측면과 외부로 연통되는 주입통로를 형성하고, 세라믹 유전체의 양측면에 금속전극 페이스트를 도포하여 소부함으로써 일차 외부전극을 형성한 후에 이를 용탕중에 담그어 상기 주입통로를 통하여 기공층내부로 용융금속이 주입되도록 하여 내부전극을 형성한 다음 일차 외부전극 위에 Ni나 Ni합금층을 피복하여 이차 외부전극을 형성함을 특징으로 하는 적층 세라믹 캐패시터의 제조방법

2 2

제 1 항에 있어서, 내부전극 형성용 금속이 Pb나 PB합금 또는 Sn합금인 것을 특징으로 하는 적층 세라믹 캐패시터의 제조방법

3 3

가연성물질로 이루어진 카본페이스트가 도포된 유전체 시이트를 다수매 적층 소결하여 생성된 기공층의 내부로 용융금속을 주입하여 내부전극을 형성하는 적층세라믹 캐패시터의 제조방법에 있어서, 카본페이스트의 전방 또는 후방단부의 일측이 양측면중의 한쪽과 연결된 외부통로를 통하여 유전체 시이트의 단부까지 돌출되도록 도포하여 소결 후에 생성된 기공층에 세라믹 유전체의 측면과 외부로 연통되는 주입통로를 형성하고, 세라믹 유전체의 양측면에 은이나 백금/은의 금속 페이스트를 소부하여 일차 외부전극을 형성한 후 그 위에 도금이나 증착 또는 전극 페이스트 소부의 방법으로 Ni나 Ni합금층을 피복하여 외부전극을 형성한 다음 상기 주입통로를 통하여 용융금속의 주입을 행하여 내부전극을 형성함을 특징으로 하는 적층 세라믹 캐패시터의 제조방법

4 4

제 3 항에 있어서, 내부전극 형성용 금속이 Pb나 Pb합금 또는 Sn합금인 것을 특징으로 하는 적층 세라믹 캐패시터의 제조방법

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP05087969 JP 일본 FAMILY
2 JP05211110 JP 일본 FAMILY
3 US05311651 US 미국 FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP5087969 JP 일본 DOCDBFAMILY
2 JP5211110 JP 일본 DOCDBFAMILY
3 JPH05211110 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 JPH0587969 JP 일본 DOCDBFAMILY
5 US5311651 US 미국 DOCDBFAMILY
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