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박막용 스퍼터링 타겟

  • 기술번호 : KST2015120640
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 마그네트론형 스퍼터링기에 사용되는 박막용 스퍼터링 타겟에 관한 것으로, 타겟의 수명 연장 및 박막의 피착속도 향상을 함께 도모하는 것을 목적으로 하여, 타겟이 평평하게 형성되었다면 누설자계가 크게 되어 스퍼터링시 소모율이 크게 되는 부위에 돌출부가 형성되어 타겟 중앙부와 타겟 가장자리부의 경계를 이루며, 상기 중앙부는 상기 가장자리부 보다 작은 두께를 갖도록 형성되는 박막용 스퍼터링 타겟을 제공한다. 이러한 구조의 박막용 스퍼터링 타겟을 사용하는 경우에는 돌출부의 존재에 의해 타겟의 수명이 연장되는 한편, 얇은 타겟 중앙부를 통한 충분한 누설자계가 존재할 수 있어 피착속도의 저하도 방지할 수 있다.
Int. CL C23C 14/34 (2006.01)
CPC H01J 37/3423(2013.01) H01J 37/3423(2013.01)
출원번호/일자 1020000019996 (2000.04.17)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0328658-0000 (2002.03.04)
공개번호/일자 10-2001-0096075 (2001.11.07) 문서열기
공고번호/일자 (20020320) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2000.04.17)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 나종갑 대한민국 서울특별시도봉구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2000.04.17 수리 (Accepted) 1-1-2000-0075503-82
2 등록결정서
Decision to grant		 2002.02.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0054900-84
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
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번호 청구항
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박막 형성을 위한 스퍼터링 공정에서 박막의 소재를 공급하기 위하여 사용되는 타겟으로서, 마그네트론형 스퍼터링기에서 사용되는 경우에 타겟이 평평하게 형성되었다면 누설자계가 크게 되어 스퍼터링시 소모율이 크게 되는 부위에 돌출부가 형성되어 타겟 중앙부와 타겟 가장자리부의 경계를 이루며, 상기 중앙부는 상기 가장자리부 보다 작은 두께를 갖도록 형성되는 박막용 스퍼터링 타겟

2 2

제 1 항에 있어서, 상기 중앙부의 두께는 상기 가장자리부의 두께의 1/5 내지 4/5 배이고, 상기 돌출부의 두께는 상기 가장자리부의 두께의 1

3 3

제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 돌출부는 완만한 곡선의 둔턱 형상으로 형성된 것을 특징으로 하는 박막용 스퍼터링 타겟

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.