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다전극을 이용한 전기화학적 다중-스트리핑 분석법, 이를 이용한 수용액 중의 중금속 이온 탐지 및 측정 시스템

  • 기술번호 : KST2015120757
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 개시된 발명은 수용액 중의 금속 이온을 탐지 및 측정하는 방법에 관한 것으로, 분석하고자 하는 금속이온의 전기화학 반응이 일어나는 적어도 2이상의 다전극으로 구성된 작업전극(Working electrode)과, 작업전극의 전위를 제어 및 측정하는 기준이 되는 기준전극 (Reference electrode) 및 전류의 흐름을 원활히 하기 위한 대전극(Counter electrode)으로 구성하여, 작업전극의 각각에 서로 다른 전위를 순차적으로 가하여 도금하고, 도금된 금속을 스트리핑(Stripping) 분석하는 방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면 단일한 작업전극 대신 다전극을 구비한 다중-스트리핑 분석법으로 수용액 중의 중금속 이온의 정성 및 정량분석시,이온들의 간섭효과를 억제하고 측정 정확도 및 정밀도를 높혔으며 연속적인 측정이 가능하게 하였으며, 더불어 수은과 같은 독성 금속을 사용하지 않아 수질의 환경오염문제를 막을 수 있게 되었다. 또한 본 발명의 분석법을 이용한 중금속이온 분석장치의 개발로 각종기기의 국산화, 수입대체 및 수출증대 효과를 기할 수 있다.금속 이온, 스트리핑 분석, 전기화학, 전극, 일정 전류법
Int. CL G01N 27/30 (2006.01.01) G01N 33/20 (2019.01.01) G01N 27/48 (2006.01.01)
CPC G01N 27/30(2013.01) G01N 27/30(2013.01) G01N 27/30(2013.01)
출원번호/일자 1020000066424 (2000.11.09)
출원인 주식회사 에이치코비, 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2002-0036292 (2002.05.16) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2000.11.09)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 에이치코비 대한민국 경기도 안양시 동안구
2 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조병원 대한민국 서울특별시 은평구
2 현문식 대한민국 서울특별시 송파구
3 김형주 대한민국 서울특별시 성북구
4 김영필 대한민국 서울특별시 성동구
5 김병홍 대한민국 서울특별시 동대문구
6 추용엽 대한민국 서울특별시 양천구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김익환 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, *층 (역삼동, 삼흥역삼빌딩)(하나국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2000.11.09 수리 (Accepted) 1-1-2000-0236179-68
2 전자문서첨부서류제출서
Submission of Attachment to Electronic Document		 2000.11.11 수리 (Accepted) 1-1-2000-5346074-14
3 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2000.11.13 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2000-0238447-46
4 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2000.11.16 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2000-0241125-21
5 출원인명의변경신고서
Applicant change Notification		 2000.11.20 수리 (Accepted) 1-1-2000-5354625-04
6 서지사항 보정서
Amendment to Bibliographic items		 2000.11.28 수리 (Accepted) 1-1-2000-0251251-55
7 서지사항 보정서
Amendment to Bibliographic items		 2000.12.11 수리 (Accepted) 1-1-2000-0263014-77
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
9 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2002.08.20 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
10 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2002.09.12 수리 (Accepted) 9-1-2002-0020380-18
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2003.02.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0059367-43
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2003.04.12 수리 (Accepted) 4-1-2003-5020317-19
13 의견서
Written Opinion		 2003.04.18 수리 (Accepted) 1-1-2003-0137899-82
14 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2003.04.18 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2003-0137902-32
15 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2004.02.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0051549-15
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2005.08.10 수리 (Accepted) 4-1-2005-5082629-59
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2007.07.20 수리 (Accepted) 4-1-2007-5114598-96
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.03.19 수리 (Accepted) 4-1-2012-5057299-30
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2013-5061036-24
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2020-5066441-16
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.09.04 수리 (Accepted) 4-1-2020-5201212-46
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

분석하고자 하는 금속이온의 전기화학 반응이 일어나는 적어도 2이상의 다전극으로 구성된 작업전극(Working electrode)과, 상기 작업전극의 전위를 제어 및 측정하는 기준이 되는 기준전극 (Reference electrode) 및 전류의 흐름을 원활히 하기 위한 대전극(Counter electrode)으로 구성하여 상기 작업전극의 각각에 서로 다른 전위를 순차적으로 가하여 도금하고 상기 도금된 금속을 스트리핑(Stripping) 분석하여 수용액 중의 금속 이온을 탐지 및 측정하는 방법

2 2

제 1항에 있어서, 상기한 각각의 작업전극에 서로 다른 전위를 순차적으로 가하는 방법은 일정전위법과 전위변화법 중에서 선택됨을 특징으로 하는 수용액 중의 중금속 이온을 탐지 및 측정하는 방법

3 3

제 1항에 있어서, 도금이 종료된 상기 작업전극의 스트리핑 방법은 상기 다전극 형태로 구성된 작업전극 각각을 하나로 연결해 일체화시킨 후, 일정전류법 또는 전위변화법으로 스트리핑 (Stripping)함을 특징으로 하는 수용액 중의 중금속 이온을 탐지 및 측정하는 방법

4 4

제 1항에 있어서, 도금이 종료된 상기 작업전극의 스트리핑 방법은 상기 다전극 형태로 구성된 작업전극을 개별적으로 일정전류법 또는 전위변화법으로 스트리핑함을 특징으로 하는 수용액 중의 중금속 이온을 탐지 및 측정하는 방법

5 5

제 1항 내지 4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 작업전극의 재질은 (a)백금, 금, 은과 같은 귀금속류, (b)흑연, 유리질 탄소(glassy carbon), 열분해 탄소(pyrolytic carbon), 왁스-함침된 흑연(wax-impregnated graphite)와 같은 탄소류, (c)상기한 귀금속류와 탄소류에 수은을 피복시키거나 아말감형태로 제조한 수은 함유 그룹 및 (d)이온선택성 물질중에서 선택됨을 특징으로 하는 수용액 중의 금속 이온을 탐지 및 측정하는 방법

6 6

제 5항에 있어서, 상기 작업전극은 상기 재질의 박판이거나, 상기 재질들을 판상의 물체에 PVD법, CVD법, 전기도금법, 무전해도금법으로 피복시켜 제조됨을 특징으로 하는 수용액 중의 금속 이온을 탐지 및 측정하는 방법

7 7

분석하고자 하는 금속이온의 전기화학 반응이 일어나는 적어도 2이상의 다전극으로 구성된 작업전극(Working electrode);

상기 작업전극의 전위를 제어 및 측정하는 기준이 되는 기준전극(Reference electrode); 및

전류의 흐름을 원활히 하기 위한 대전극(Counter electrode)을 포함하고,

상기 작업전극의 각각에 서로 다른 전위를 순차적으로 가하여 도금하고 상기 도금된 금속을 스트리핑(Stripping) 분석하여 수용액 중의 금속 이온을 탐지 및 측정하는 다전극 스트리핑 분석 시스템

8 8

제 7항에 있어서, 상기 작업전극의 재질은 (a)백금, 금, 은과 같은 귀금속류, (b)흑연, 유리질 탄소(glassy carbon), 열분해 탄소(pyrolytic carbon), 왁스-함침된 흑연(wax-impregnated graphite)와 같은 탄소류, (c)상기한 귀금속류와 탄소류에 수은을 피복시키거나 아말감형태로 제조한 수은 함유 그룹 및 (d)이온선택성 물질중에서 선택됨을 특징으로 하는 수용액 중의 금속 이온을 탐지 및 측정하는 다전극 스트리핑 분석 시스템

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.