맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

이소옥사졸릴 메틸렌 옥사졸리디논 유도체 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015121720
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 일반식(II)로 표시되는 옥사졸리디논 유도체와 일반식(III)으로 표시되는 이소옥사졸 유도체를 용매와 환원제 존재하에 반응시켜 MRSA 균주를 포함한 그람 양성균에 우수한 신규의 일반식 (I)로 표시되는 이소옥사졸릴 메틸렌 옥사졸리디논 유도체 및 이의 제조방법에 관한 것이다.상기 식들 중, R은 수소, 알킬, 브롬 또는 염소의 할로겐, 시아노, 알콜시, 히드록시, 카르복시, 카르바모일, N,N'-디메틸카르바모일, 카르바모일옥시, 산소, 황, 질소원자를 적어도 한 개 이상 포함하고 있는 티오펜, 티아졸, 아미노티아졸, 이소티아졸, 이소옥사졸, 옥사졸, 테트라졸, 피리딘의 불포화 5환 또는 6환 헤테로고리 치환체, 알킬, 할로겐 알콕시, 시아노 또는 페녹시가 치환된 벤젠고리 치환체, 약제학적으로 허용되는 염의 메탄설폰산염, 퓨마렌산염, 브롬산염, 시트릭산염, 인산염, 황산염, 염산염 또는 염이 아닌 아민을 포함한다.
Int. CL C07D 413/14 (2006.01)
CPC C07D 413/12(2013.01)
출원번호/일자 1019990019241 (1999.05.27)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0333492-0000 (2002.04.09)
공개번호/일자 10-2000-0074954 (2000.12.15) 문서열기
공고번호/일자 (20020425) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1999.05.27)
심사청구항수 6

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 고훈영 대한민국 경기도안양시동안구
2 장문호 대한민국 서울특별시강남구
3 조영서 대한민국 서울특별시동작구
4 최경일 대한민국 서울특별시노원구
5 배애님 대한민국 서울특별시송파구
6 김혜연 대한민국 서울특별시성북구
7 주현진 대한민국 서울특별시서초구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원서
Patent Application		 1999.05.27 수리 (Accepted) 1-1-1999-0052749-85
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2001.06.20 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2001.07.24 수리 (Accepted) 9-1-2001-0013485-04
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2001.07.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2001-0198163-38
6 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2001.09.14 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2001-0236126-94
7 의견서
Written Opinion		 2001.09.14 수리 (Accepted) 1-1-2001-0236125-48
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
9 등록결정서
Decision to grant		 2002.03.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0106919-04
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

일반식 (I)로 표시되는 이소옥사졸릴 메틸렌 옥사졸리디논 유도체 및 약제학적으로 허용되는 염

2 2

일반식(II)로 표시되는 옥사졸리디논 유도체와 일반식(III)으로 표시되는 이소옥사졸 유도체를 용매와 환원제 존재하에 반응시키는 것이 특징인 일반식 (I)로 표시되는 이소옥사졸릴 메틸렌 옥사졸리디논 유도체의 제조방법

3 3

제 2 항에 있어서, 환원제가 소디움 트리아세톡시보로하이드라이드, 소디움 시아노 보로하이드라이드 또는 보란-피리딘인 것이 특징인 일반식 (I)로 표시되는 이소옥사졸릴 메틸렌 옥사졸리디논 유도체의 제조방법

4 4

제 2 항에 있어서, 용매가 1,2-디클로로에탄, 메틸렌클로리드, 테트라히드로퓨란, 아세토니트릴, 메타놀 또는 에탄올을 사용하는 것이 특징인 일반식 (I)로 표시되는 이소옥사졸릴 메틸렌 옥사졸리디논 유도체의 제조방법

5 5

제 2 항에 있어서, 반응중 생성되는 물을 제거하기 위해 10 ∼ 50 몰%의 분자체를 사용하는 것이 특징인 일반식 (I)로 표시되는 이소옥사졸릴 메틸렌 옥사졸리디논 유도체의 제조방법
6 6

제 2 항에 있어서, 20 ∼ 40℃의 온도에서 1 ∼ 5시간 반응시키는 것이 특징인 일반식 (I)로 표시되는 이소옥사졸릴 메틸렌 옥사졸리디논 유도체의 제조방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.