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기체 차단성이 향상된 고분자/나노그래핀시트 나노복합체 필름의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015122085
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노 크기로 박리가 이루어진 NGPs가 고분자 매트릭스 내에 내첨형의 형태로 고르게 분산되어 있는 고분자 나노복합체를 제조하는 발명에 관한 것으로서, 간단한 초음파 처리법을 통해 그래파이트로부터 NGPs를 쉽게 제조하고, 고분자와 미량의 NGPs로 구성된 나노복합체의 제조방법을 제공한다. 본 발명에 의해 제조되어 NGPs의 박리 및 분산 상태가 향상된 고분자 나노복합체는 우수한 기체 차단성 및 기계적 특성을 지니게 되므로 각 종 구조재료 및 포장재료 등에 응용될 수 있다.
Int. CL C08L 29/04 (2006.01) C08K 3/04 (2006.01) C08J 5/18 (2006.01)
CPC C08J 5/18(2013.01) C08J 5/18(2013.01) C08J 5/18(2013.01) C08J 5/18(2013.01) C08J 5/18(2013.01) C08J 5/18(2013.01) C08J 5/18(2013.01) C08J 5/18(2013.01)
출원번호/일자 1020110091824 (2011.09.09)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-1308967-0000 (2013.09.10)
공개번호/일자 10-2013-0028341 (2013.03.19) 문서열기
공고번호/일자 (20130917) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.09.09)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박민 대한민국 서울특별시 노원구
2 심현석 대한민국 경기도 부천시 소사구
3 국정인 대한민국 인천광역시 계양구
4 김태안 대한민국 서울특별시 관악구
5 김희숙 대한민국 서울특별시 송파구
6 이상수 대한민국 서울특별시 서초구
7 임순호 대한민국 서울특별시 송파구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.09.09 수리 (Accepted) 1-1-2011-0707763-17
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.06.22 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.07.06 수리 (Accepted) 9-1-2012-0054898-21
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.12.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0776883-75
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.02.21 수리 (Accepted) 1-1-2013-0158556-19
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.02.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0158557-65
7 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2013.06.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0420401-23
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2013-0559897-12
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.06.24 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2013-0559906-46
10 등록결정서
Decision to grant		 2013.09.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0621824-36
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 층상 구조의 그래파이트를 용매에 분산시킨 후, 초음파 처리하여 용액 내에서 나노그래핀시트를 박리시키는 단계;(b) 상기 나노그래핀시트 용액과 고분자 용액을 혼합한 후 초음파 처리하는 단계; 및(c) 상기 초음파 처리한 혼합 용액을 드랍 코팅하고 건조하여 필름을 제조하는 단계;를 포함하고,상기 (a) 및 (b) 단계에서의 초음파 처리는 50-700 W의 세기로 10-120 분 동안 실시하는 것을 특징으로 하며,상기 고분자 내에 상기 나노그래핀시트가 내첨형으로 분산되어 있는 것을 특징으로 하는 고분자/나노그래핀시트 나노복합체 필름의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계의 용매는 소듐 도데실벤젠설포네이트(SDBS) 및 소듐 도데실설포네이트(SDS) 중에서 선택된 어느 하나를 포함하는 수용액 또는 N,N-다이메틸포름아마이드(DMF), N,N-다이메틸아세트아마이드(DMAc), N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 및 테트라히드로퓨란(THF) 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 고분자/나노그래핀시트 나노복합체 필름의 제조방법
3 3
제 1 항에 있어서,상기 (b) 단계의 고분자는 폴리(비닐 알코올), 폴리(비닐알코올-co-에틸렌) 또는 폴리(비닐아세테이트-co-에틸렌)이고, 상기 고분자 용액에 사용된 용매는 소듐 도데실벤젠설포네이트(SDBS) 및 소듐 도데실설포네이트(SDS) 중에서 선택된 어느 하나를 포함하는 수용액 또는 N,N-다이메틸포름아마이드(DMF), N,N-다이메틸아세트아마이드(DMAc), N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 및 테트라히드로퓨란(THF) 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 고분자/나노그래핀시트 나노복합체 필름의 제조방법
4 4
삭제
5 5
제 1 항에 있어서,상기 나노복합체 필름 총중량 기준 나노그래핀시트의 중량이 0
6 6
제 1 항에 있어서,상기 고분자/나노그래핀시트 나노복합체 필름의 산소투과도가 0
7 7
제 1 항 내지 제 3 항 및 제 5 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 따른 제조방법에 따라 제조되는 고분자/나노그래핀시트 나노복합체 필름으로서,상기 고분자 질량 대비 나노그래핀시트의 중량이 0
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.