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전류를 인가하여 기판에 화합물을 코팅하는 전기영동 전착 장치에 있어서,코팅될 반도체 소재 용액을 포함하는 전착조;상기 전착조 내부에 위치하는 캐소드;상기 전착조 내부에 위치하는 애노드; 및상기 기판에 대향 배치되어, 상기 기판에 빛을 조사하는 조명 장치;를 포함하고,상기 기판 및 애노드는 상기 반도체 소재 용액에 담그어지며,상기 기판 및 캐소드는 서로 접촉되고,전착을 위한 전류는 상기 애노드 및 캐소드를 통하여 인가되며,상기 조명 장치는 상기 반도체 소재의 밴드갭에 해당하는 파장보다 짧은 파장의 빛을 조사하는 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제1항에 있어서,상기 반도체 소재 용액은 Cu, In, Ga, Zn, Sn, Al 및 그 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 한 가지 이상의 금속의 염화염, 황산염, 질산염, 아세트산염 또는 수산화염을 포함하는 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제2항에 있어서,상기 반도체 소재 용액은 SeO2, H2SeO3 또는 SeCl4를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제1항에 있어서,상기 전착조는 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리프로필렌 및 폴리에틸렌으로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나 이상의 소재로 이루어지는 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제1항에 있어서,상기 전착조는 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리프로필렌 및 폴리에틸렌으로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나 이상의 소재가 코팅(coating) 또는 라이닝(lining)된 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제1항에 있어서,상기 전착조는 유리 코팅(coating) 또는 유리 라이닝(lining) 된 카본 스틸(carbon steel) 구조물인 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제1항에 있어서,상기 캐소드는 Ti, Ni 및 Pt로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나 이상의 소재를 포함하는 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제1항에 있어서,상기 애노드는 Pt 재질의 판 또는 판형 메시(mesh)인 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제1항에 있어서,상기 애노드는 Pt 재질의 판 또는 판형 메시(mesh)로서, 폴리머 지지대 위에 고정된 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제1항에 있어서,상기 조명 장치는 복수 개이고, 각각의 조명 장치는 서로 같은 간격으로 이격되어 상기 캐소드 및 애노드 사이에 설치된 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제1항에 있어서,상기 조명 장치는 상기 전착조 벽면을 통해 삽입된 투명관; 광원; 및 집광용 반사경;을 포함하고, 상기 광원 및 집광용 반사경이 상기 투명관 속에 설치됨으로써 상기 반도체 소재 용액과 물리적 접촉이 차단된 기밀형 장치인 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제12항에 있어서,상기 투명관 및 광원은 막대형이고, 광원으로부터의 빛이 일 방향으로 조사되도록 상기 광원의 후면에 길이방향으로 집광용 반사경이 설치된 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제12항에 있어서,상기 투명관은 유리관 또는 석영관(quartz tube)인 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제12항에 있어서,상기 투명관은 상기 전착조의 일 벽면으로부터 이에 대향되는 타 벽면을 향하여 연장되는 터널 형상의 구조물인 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제12항에 있어서,상기 투명관은 상기 전착조의 일 벽면으로부터 이에 대향되는 타 벽면까지 연장되는 터널 형상의 구조물인 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제1항에 있어서,상기 캐소드는 상기 반도체 소재 용액 밖에서 기판을 기계적으로 고정시키는 캐소드 홀더(holder)로서, 상기 캐소드 홀더는 Cu, Ti, Ni, Pt 및 스테인리스 스틸로 이루어지는 군으로부터 선택된 소재를 포함하는 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제17항에 있어서,상기 기판 및 캐소드 홀더가 결합하여 평판형 캐소드 패널을 형성하고,상기 평판형 캐소드 패널은 상기 전착조 내부로 삽입됨으로써 상기 반도체 소재 용액에 담그어지며,상기 애노드는 상기 평판형 캐소드 패널에 대향되는 평판형 애노드이고,상기 조명 장치는 집광된 빛이 기판을 향하도록 평판형 캐소드 패널과 애노드 사이에 설치되며,상기 평판형 캐소드 패널은 그 구성요소 각각의 탈착이 가능하여, 기판의 교체로써 연속적인 전착이 가능한 회분(batch)식의 장치인 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제1항에 있어서,상기 캐소드는 회전이 가능한 원통형의 캐소드 롤러이고,상기 애노드는 상기 캐소드에 대향되는 곡면형 애노드이며,상기 조명 장치는 집광된 빛이 캐소드를 향하도록 캐소드와 애노드 사이에 설치되고,상기 기판은 플렉서블한 소재를 포함하며,상기 기판이 상기 캐소드 롤러로 이송되어 상기 전착조에 포함된 반도체 소재 용액에 노출되는, 연속형의 롤-투-롤 장치인 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제19항에 있어서,상기 CIS계 박막 코팅 장치는 Cu, Ti, Ni, Pt 및 스테인리스 스틸로 이루어지는 군으로부터 선택된 소재의 롤러를 더욱 포함하고, 상기 롤러는 상기 반도체 용액 밖에 설치되며 상기 기판에 접촉함으로써 전력을 공급하는 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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제1항에 있어서,상기 CIS계 박막 코팅 장치는 전착조의 온도를 조절하기 위한 열매체 순환용 자켓을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 CIS계 박막 코팅 장치
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