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헤테로폴리산촉매와폴리술폰막으로구성된촉매막반응기

  • 기술번호 : KST2015122717
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 내용 없음.
Int. CL B01J 27/18 (2006.01) B01J 8/00 (2006.01) B01D 71/68 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1019910013858 (1991.08.12)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0080736-0000 (1994.12.24)
공개번호/일자 10-1993-0003962 (1993.03.22) 문서열기
공고번호/일자 1019940009255 (19941006) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1991.08.12)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김재진 대한민국 서울특별시강남구
2 이화영 대한민국 서울특별시송파구
3 송인규 대한민국 서울특별시관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 주성민 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)
2 김성택 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원심사청구서
Request for Examination
1991.08.12 수리 (Accepted) 1-1-1991-0078159-68
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1991.08.12 수리 (Accepted) 1-1-1991-0078158-12
3 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1991.08.12 수리 (Accepted) 1-1-1991-0078157-77
4 특허출원서
Patent Application
1991.08.12 수리 (Accepted) 1-1-1991-0078156-21
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
1994.07.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1991-0034433-47
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
1994.08.10 수리 (Accepted) 1-1-1991-0078160-15
7 의견서
Written Opinion
1994.08.13 수리 (Accepted) 1-1-1991-0078161-50
8 출원공고결정서
Written decision on publication of examined application
1994.09.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1991-0034434-93
9 등록사정서
Decision to grant
1994.12.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1991-0034435-38
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

그 중심부에 시료 주입구(4)가 구비된 원판형의 제1본체(6a), 이 제1본체(6a)의 하부에 위치하면서 그 중심부에 촉매층(8)을 고정하고 시료의 흐름을 유도하기 위한 절두 원추형의 구멍(10)을 갖는 촉매층 지지체(12), 이 촉매층 지지체(12)의 하부에 위치하여 상기 촉매층 지지체(12)를 고정ㆍ유지하고, 그 중심부에 완충 영역(14)가 형성되며, 측부에 배제물 배출구(16)이 구비된 제2본체(6b), 이 제2본체(6b)의 하부에 위치하는 폴리술폰막(18), 이 폴리술폰막(18)을 지지하고, 이 막(18)을 투과한 기체가 자유로이 통과할 수 있도록 다공성인 폴리술폰막 지지체(20), 상기 촉매층(8)과 막(18)의 상부 사이에 위치하여 반응기의 온도를 감지 및 제어하는 열전대(22, 24), 중심부에 상기 폴리술폰막(18)을 통과한 기체를 배출시킬 수 있는 투과물 배출구(26)을 구비하고 상기 폴리술폰막(18)을 고정ㆍ유지시키는 제3본체(6c) 및 반응기(2)에 밀봉성을 제공하기 위해 상기 각 본체(6a, 6b, 6c)와 촉매 지지체(12) 및 술폰막 지지체(20) 사이에 위치하는 O형 링(28)로 구성되는 것을 특징으로 하는 촉매막 반응기

2 2

제1항에 있어서, 상기 촉매층(8)은 12-텅스토인산, 12-몰리브도인산, 12-몰리브도텅스토인산 및 12-텅스토실리콘산으로 이루어진 군 중에서 선택된 헤테로폴리산으로 이루어진 것임을 특징으로 하는 촉매막 반응기

3 3

제1항에 있어서, 상기 반응기(2)가 에탄올의 기상 탈수 반응에 사용되는 것이 특징인 촉매막 반응기

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP05192579 JP 일본 FAMILY
2 JP06083788 JP 일본 FAMILY
3 US05227141 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP1956514 JP 일본 DOCDBFAMILY
2 JP5192579 JP 일본 DOCDBFAMILY
3 JP6083788 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 JPH05192579 JP 일본 DOCDBFAMILY
5 JPH0683788 JP 일본 DOCDBFAMILY
6 US5227141 US 미국 DOCDBFAMILY
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