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표면에 기능기를 함유하는 금속 산화물을 포함하는 펜톤 반응 시스템용 촉매, 이를 포함하는 전극 및 이를 이용한 펜톤 반응 시스템

  • 기술번호 : KST2021012999
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 펜톤 반응 시스템용 촉매, 이를 포함하는 전극 및 이를 이용한 펜톤 반응 시스템에 관한 것으로서, 표면에 NO3-/SO42-/H2PO4-/HPO42-/PO43-종 기능기를 포함하는 d0-오비탈 기반 또는 비 d0-오비탈 기반 촉매를 적어도 한 종 이상 포함하는 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매 및 이를 포함하는 전극 및 이를 이용한 전기적 펜톤 반응 시스템 및 표면에 NO3-, SO42-, H2PO4-, HPO42-, 또는 PO43- 기능기를 포함하는 d0 오비탈 기반 전이금속 산화물 촉매결정입자 또는 표면에 SO42-, H2PO4-, HPO42-, 또는 PO43- 기능기를 포함하는 비 d0 오비탈 기반 전이금속 산화물 촉매결정입자를 적어도 한 종 이상 포함하는 비 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매 및 이를 포함하는 촉매 구조체 및 이를 이용한 비 전기적 펜톤 반응 시스템을 제공한다.
Int. CL B01J 27/18 (2006.01.01) B01J 27/25 (2006.01.01) B01J 27/053 (2006.01.01) C02F 1/461 (2006.01.01) B01J 21/06 (2006.01.01) B01J 37/28 (2006.01.01) B01J 37/02 (2006.01.01) C02F 1/467 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020200091558 (2020.07.23)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0141289 (2021.11.23) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020200057943   |   2020.05.14
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.07.23)
심사청구항수 40

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김종식 서울특별시 성북구
2 하헌필 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김남식 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
2 김한 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
3 이인행 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.07.23 수리 (Accepted) 1-1-2020-0769968-12
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2021.10.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0821166-14
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번호 청구항
1 1
표면에 NO3-, SO42-, H2PO4-, HPO42-, 또는 PO43- 기능기를 포함하는 d0 오비탈 기반 전이금속 산화물 촉매결정입자를 적어도 한 종 이상 포함하는, 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매
2 2
표면에 H2PO4-, HPO42-, 또는 PO43- 기능기를 포함하는 비 d0 오비탈 기반 전이금속 산화물 촉매결정입자를 적어도 한 종 이상 포함하는, 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매
3 3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 촉매결정입자는 다공성 구조인, 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매
4 4
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 촉매결정입자는 직경이 0
5 5
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 전이금속 산화물 촉매결정입자의 금속은 주기율표 상의 3d-block 금속(Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn), 4d-block 금속(Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd), 5d-block 금속(La, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, Hg) 및 6d-block 금속(Ac, Rf, Db, Sg, Bh, Hs, Mt, Ds, Rg, Cn)으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나 또는 그 조합인, 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매
6 6
표면에 NO3-, SO42-, H2PO4-, HPO42-, 또는 PO43- 기능기를 포함하는 d0 오비탈 기반 전이금속 산화물 또는 표면에 H2PO4-, HPO42-, 또는 PO43- 기능기를 포함하는 비 d0 오비탈 기반 전이금속 산화물로 이루어진 촉매결정입자를 적어도 한 종 이상 포함하는 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매;상기 촉매가 담지되는 담지체;상기 담지체가 코팅되는 기판; 및상기 담지체와 기판 사이에 개재되어 코팅 접착력을 증가시키는 바인더;를 포함하는,전기적 펜톤 반응 시스템용 전극
7 7
제 6 항에 있어서,상기 촉매결정입자는 다공성 구조인, 전기적 펜톤 반응 시스템용 전극
8 8
제 6 항에 있어서,상기 촉매결정입자는 직경이 0
9 9
제 6 항에 있어서,상기 촉매결정입자의 금속은 주기율표 상의 3d-block 금속(Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn), 4d-block 금속(Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd), 5d-block 금속(La, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, Hg) 및 6d-block 금속(Ac, Rf, Db, Sg, Bh, Hs, Mt, Ds, Rg, Cn)으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나 또는 그 조합인, 전기적 펜톤 반응 시스템용 전극
10 10
제 6 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 담지체는, 탄소(C), Al2O3, MgO, ZrO2, CeO2, TiO2 및 SiO2 중 어느 하나인, 전기적 펜톤 반응 시스템용 전극
11 11
제 6 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 담지체 100중량부 대비 상기 촉매 0
12 12
제 6 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 바인더는 불용성 고분자인, 전기적 펜톤 반응 시스템용 전극
13 13
제 6 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 따른 전극; 및전해질 수용액;을 포함하는, 전기적 펜톤 반응 시스템
14 14
제 13 항에 있어서,상기 전해질 수용액의 pH는 3 내지 10이고, 2W 이하의 전력이 입력되어 전기적 펜톤 반응이 일어나는, 전기적 펜톤 반응 시스템
15 15
제 13 항에 있어서,전기적 펜톤 반응은,(1) H2O2의 불균일 분해반응에 의해 ㆍOH종이 형성되는 단계;(2) 상기 기능화된 SO42-종이 상기 ㆍOH종에 의해 SO4ㆍ-종으로 전환되거나 상기 기능화된 NO3-종이 상기 ㆍOH종에 의해 NO3ㆍ종으로 전환되거나 또는 상기 기능화된 H2PO4-/HPO42-/PO43-종이 상기 ㆍOH종에 의해 H2PO4ㆍ/HPO4ㆍ-/PO42ㆍ- 종으로 전환되는 단계; 및,(3) 상기 NO3ㆍ, SO4ㆍ-, H2PO4ㆍ, HPO4ㆍ- 또는 PO42ㆍ- 종에 의해 난분해성 유기물이 분해되는 단계;를 포함하는,전기적 펜톤 반응 시스템
16 16
d0 오비탈 기반 전이금속 산화물을 제조하는 단계; 및상기 전이금속 산화물에 질산화, 황산화 또는 인산화 처리하여 표면에 NO3-, SO42-, H2PO4-, HPO42-, 또는 PO43- 기능기를 포함하는 전이금속 산화물 촉매를 제조하는 단계;를 포함하는,전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매의 제조방법
17 17
제 16 항에 있어서, 상기 질산화 처리는,NO 및 O2를 포함하는 반응기체에 의해 수행되는,전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매의 제조방법
18 18
제 16 항에 있어서,상기 황산화 처리는,SO2 및 O2를 포함하는 반응기체에 의해 수행되는,전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매의 제조방법
19 19
비 d0 오비탈 기반 전이금속 산화물을 제조하는 단계; 및상기 전이금속 산화물에 인산화 처리하여 표면에 H2PO4-, HPO42-, 또는 PO43- 기능기를 포함하는 전이금속 산화물 촉매를 제조하는 단계;를 포함하는,전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매의 제조방법
20 20
제 16 항 또는 제 19 항에 있어서,상기 인산화 처리는,인산화 전구체를 포함하는 반응용액에 의해 수행되는,전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매의 제조방법
21 21
표면에 NO3-, SO42-, H2PO4-, HPO42-, 또는 PO43- 기능기를 포함하는 d0 오비탈 기반 전이금속 산화물 촉매결정입자를 적어도 한 종 이상 포함하는, 비 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매
22 22
표면에 SO42-, H2PO4-, HPO42-, 또는 PO43- 기능기를 포함하는 비 d0 오비탈 기반 전이금속 산화물 촉매결정입자를 적어도 한 종 이상 포함하는, 비 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매
23 23
제 21 항 또는 제 22 항에 있어서,상기 촉매결정입자는 다공성 구조인, 비 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매
24 24
제 21 항 또는 제 22 항에 있어서,상기 촉매결정입자는 직경이 0
25 25
제 21 항 또는 제 22 항에 있어서,상기 전이금속 산화물 촉매결정입자의 금속은 주기율표 상의 3d-block 금속(Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn), 4d-block 금속(Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd), 5d-block 금속(La, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, Hg) 및 6d-block 금속(Ac, Rf, Db, Sg, Bh, Hs, Mt, Ds, Rg, Cn)으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나 또는 그 조합인, 비 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매
26 26
표면에 NO3-, SO42-, H2PO4-, HPO42-, 또는 PO43- 기능기를 포함하는 d0 오비탈 기반 전이금속 산화물 또는 표면에 SO42-, H2PO4-, HPO42-, 또는 PO43- 기능기를 포함하는 비 d0 오비탈 기반 전이금속 산화물로 이루어진 촉매결정입자를 적어도 한 종 이상 포함하는 비 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매;상기 촉매가 담지되는 담지체;상기 담지체가 코팅되는 지지체; 및상기 담지체와 지지체 사이에 개재되어 코팅 접착력을 증가시키는 바인더;를 포함하는,비 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매 구조체
27 27
제 26 항에 있어서,상기 촉매결정입자는 다공성 구조인, 비 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매 구조체
28 28
제 26 항에 있어서,상기 촉매결정입자는 직경이 0
29 29
제 26 항에 있어서,상기 촉매결정입자의 금속은 주기율표 상의 3d-block 금속(Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn), 4d-block 금속(Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd), 5d-block 금속(La, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, Hg) 및 6d-block 금속(Ac, Rf, Db, Sg, Bh, Hs, Mt, Ds, Rg, Cn)으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나 또는 그 조합인, 비 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매 구조체
30 30
제 26 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 담지체는, 탄소(C), Al2O3, MgO, ZrO2, CeO2, TiO2 및 SiO2 중 어느 하나인, 비 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매 구조체
31 31
제 26 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 담지체 100중량부 대비 상기 촉매 0
32 32
제 26 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 바인더는 불용성 고분자인, 비 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매 구조체
33 33
제 26 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에 따른 촉매 구조체; 과산화수소 공급부; 및전해질 수용액;을 포함하는, 비 전기적 펜톤 반응 시스템
34 34
제 33 항에 있어서,상기 전해질 수용액의 pH는 5 내지 10이고, 상기 과산화수소 공급부에서 10-5mol/L 내지 105 mol/L의 과산화수소가 공급되어 비 전기적 펜톤 반응이 일어나는, 비 전기적 펜톤 반응 시스템
35 35
제 33 항에 있어서,비 전기적 펜톤 반응은,(1) H2O2의 불균일 분해반응에 의해 ·OH종이 형성되는 단계;(2) 상기 기능화된 SO42-종이 상기 ·OH종에 의해 SO4·-종으로 전환되거나 상기 기능화된 NO3-종이 상기 ·OH종에 의해 NO3·종으로 전환되거나 또는 상기 기능화된 H2PO4-/HPO42-/PO43-종이 상기 ·OH종에 의해 H2PO4·/HPO4·-/PO42·-종으로 전환되는 단계; 및(3) 상기 NO3·, SO4·-, H2PO4·, HPO4·-, 또는 PO42·-종에 의해 난분해성 유기물이 분해되는 단계;를 포함하는,비 전기적 펜톤 반응 시스템
36 36
d0 오비탈 기반 전이금속 산화물을 제조하는 단계; 및상기 전이금속 산화물에 질산화, 황산화 또는 인산화 처리하여 표면에 NO3-, SO42-, H2PO4-, HPO42-, 또는 PO43- 기능기를 포함하는 전이금속 산화물 촉매를 제조하는 단계;를 포함하는,비 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매의 제조방법
37 37
제 36 항에 있어서, 상기 질산화 처리는,NO 및 O2를 포함하는 반응기체에 의해 수행되는,비 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매의 제조방법
38 38
제 36 항에 있어서,상기 황산화 처리는,SO2 및 O2를 포함하는 반응기체에 의해 수행되는,비 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매의 제조방법
39 39
비 d0 오비탈 기반 전이금속 산화물을 제조하는 단계; 및상기 전이금속 산화물에 인산화 처리하여 표면에 SO42-, H2PO4-, HPO42-, 또는 PO43- 기능기를 포함하는 전이금속 산화물 촉매를 제조하는 단계;를 포함하는,비 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매의 제조방법
40 40
제 36 항 또는 제 39 항에 있어서,상기 인산화 처리는,인산화 전구체를 포함하는 반응용액에 의해 수행되는,비 전기적 펜톤 반응 시스템용 촉매의 제조방법
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1 과학기술정보통신부 한국과학기술연구원 중견연구자지원사업 라디칼활성점 및 라디칼전구체가 일체화된 다공체들을 이용한 난분해성 오염물 산화분해한계 극복