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펄스 플라즈마 방전에 의한 박막 증착방법

  • 기술번호 : KST2015122763
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 펄스 플라즈마 발생장치 및 이를 이용한 박막 증착 방법에 관한 것으로서, 상기 펄스 플라즈마 발생장치는 전원부, 슬라이드 변압기, 고전압 변압기, 플라즈마를 발생시키는 로드, 스파크 간극 스위치를 포함하여 구성되어 낮은 전력으로 순간적인 고밀도의 플라즈마를 발생시킬수 있고, 이를 이용한 박막 증착 방법은 증착장치에 교대로 유입되는 2 이상의 반응가스를 펄스 플라즈마로 분해하여 사이클 과정으로 웨이퍼에 증착시키므로써 균일한 박막층을 제공할 수 있고, 본 발명에 따른 펄스 플라즈마 발생장치는 설계가 자유롭기 때문에 종래의 ALD 또는 CVD 장치에 용이하게 적용될 수 있다.
Int. CL H01L 21/205 (2006.01)
CPC C23C 16/45544(2013.01) C23C 16/45544(2013.01) C23C 16/45544(2013.01) C23C 16/45544(2013.01) C23C 16/45544(2013.01) C23C 16/45544(2013.01)
출원번호/일자 1020020019017 (2002.04.08)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0455753-0000 (2004.10.26)
공개번호/일자 10-2003-0080416 (2003.10.17) 문서열기
공고번호/일자 (20041106) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.04.08)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김용태 대한민국 서울특별시송파구
2 이창우 대한민국 서울특별시서초구
3 심현상 대한민국 서울특별시성북구
4 김성일 대한민국 서울특별시동대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2002.04.08 수리 (Accepted) 1-1-2002-0104509-05
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2003.11.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2003.12.18 수리 (Accepted) 9-1-2003-0063383-20
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2004.06.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0244583-28
5 의견서
Written Opinion		 2004.08.20 수리 (Accepted) 1-1-2004-0374478-56
6 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2004.08.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2004-0374480-48
7 등록결정서
Decision to grant		 2004.10.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0439013-44
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

외부로부터 교류전원이 공급되는 전원부;

상기 전원부로부터 인가된 전압을 인가된 전압 이하로 낮추는 슬라이드 변압기와;

상기 슬라이드 변압기에서 인가된 전압을 상승시키는 고전압 변압기와;

상기 고전압 변압기에서 인가된 전압을 사용하여 플라즈마를 발생시키는 로드; 및

상기 고전압 변압기와 상기 로드를 연결하는 회전식 스파크 간극 스위치를 포함하여 구성되는 펄스 플라즈마 발생장치

2 2

제 1항의 펄스 플라즈마 발생장치를 이용하여 반응가스 A를 플라즈마 분해하고, 상기 반응가스 A의 플라즈마를 박막 증착장치 내부에 투입하여 박막을 증착하는 단계와;

정화가스(purge gas)를 이용하여 상기 박막 증착장치 속에 남아있는 상기 반응가스 A의 플라즈마를 배출하는 단계와;

청구항 1의 펄스 플라즈마 발생장치를 이용하여 반응가스 B를 플라즈마 분해하고, 상기 반응가스 B의 플라즈마를 상기 박막 증착장치 내부에 투입하여 박막을 증착하는 단계와;

정화가스(purge gas)를 이용하여 상기 박막 증착장치 속에 남아있는 상기 반응가스 B의 플라즈마를 배출하는 단계가 사이클 과정으로 이루어지는 박막 증착방법

3 3

제 2항에 있어서, 상기 반응가스 A와 반응가스 B의 유압을 10 Torr이상으로 하여 아크 및 코로나 방전을 동시에 수반하는 박막 증착방법

4 4

삭제
5 5

제 2항 또는 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반응가스 A가 NH3 이고, 상기 반응가스 B가 WF 6 인 것을 특징으로 하는 W-N 박막 증착방법

6 6

제 2항에 있어서, 상기 박막 증착장치가 ALD 장치 또는 CVD 장치인 것을 특징으로 하는 박막 증착방법

7 7

제 1항의 플라즈마 발생장치를 이용하여 반응가스 A를 플라즈마 분해하고, 상기 반응가스 A의 플라즈마를 박막 증착장치 내부에 투입하여 박막을 증착하는 단계와;

정화가스(purge gas)를 이용하여 상기 박막 증착장치 속에 남아있는 상기 반응가스 A의 플라즈마를 배출하는 단계와;

반응가스 B를 상기 박막 증착장치 내부에 투입하여 박막을 증착하는 단계와;

정화가스(purge gas)를 이용하여 상기 박막 증착장치 속에 남아있는 상기 반응가스 B를 배출하는 단계가 사이클 과정으로 이루어지는 박막 증착방법

8 8

제 7항에 있어서, 상기 반응가스 A의 유압을 10 Torr이상으로 하여 아크 및 코로나 방전을 동시에 수반하는 박막 증착방법

9 9

삭제
10 10

제 7항 또는 제 9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반응가스 A가 NH3 이고, 상기 제 2반응가스가 WF 6 인 것을 특징으로 하는 W-N 박막 증착방법

11 11

제 7항에 있어서, 상기 박막 증착장치가 ALD 장치 또는 CVD 장치인 것을 특징으로 하는 박막 증착방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.