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저유전 층간 절연물질 및 그 제조방법

기술번호 : KST2015122802
담당센터 : 서울동부기술혁신센터
전화번호 : 02-2155-3662

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 환형 실록산 화합물 또는 비스(트리알콕시실릴)알칸(BTASA), 실란 화합물 및 케이지형 폴리실세스퀴옥산이 결합된 공중합체를 포함하고, 상기 케이지형 폴리실세스퀴옥산이 공극을 형성하는 저유전 층간 절연물질 및 그 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따른 저유전 층간 절연물질은 고강도를 가지면서도 유전율이 낮아, 이를 이용한 절연막은 저유전율일 뿐 아니라 기계적, 전기적, 화학적 및 열적 특성이 우수하여 소자에 유용하게 적용될 수 있다.
Int. CL	C08L 83/06 (2006.01) C08L 83/04 (2006.01) H01B 3/46 (2006.01)
CPC	H01B 3/46(2013.01) H01B 3/46(2013.01) H01B 3/46(2013.01)
출원번호/일자	1020120138346 (2012.11.30)
출원인	한국과학기술연구원
등록번호/일자	10-1401419-0000 (2014.05.23)
공개번호/일자
공고번호/일자	(20140530) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	등록
심사진행상태	수리
심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2012.11.30)
심사청구항수	25

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	한국과학기술연구원	대한민국	서울특별시 성북구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	장소현	대한민국	광주 북구
2	알버트 이성수	미국	서울 성북구
3	구종민	대한민국	경기 고양시 일산동구
4	홍순만	대한민국	서울 강남구
5	황승상	대한민국	서울 노원구
6	백경열	대한민국	서울 성북구
7	오성연	대한민국	서울 강동구
8	최승석	대한민국	경기 화성시 효행로 **-

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	김영철	대한민국	서울특별시 종로구 종로길 , *층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)
2	김 순 영	대한민국	서울특별시 종로구 종로길 , *층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	한국과학기술연구원		서울특별시 성북구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2012.11.30	수리 (Accepted)	1-1-2012-0997222-42
2	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2013.08.14	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
3	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2013.10.10	수리 (Accepted)	9-1-2013-0086475-51
4	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2013.11.21	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2013-0805799-42
5	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2014.01.16	수리 (Accepted)	1-1-2014-0045093-00
6	[명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment	2014.01.16	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2014-0045094-45
7	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2014.02.19	수리 (Accepted)	4-1-2014-5022002-69
8	등록결정서 Decision to grant	2014.05.20	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2014-0344985-37

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 환형 실록산 화합물 또는 비스(트리알콕시실릴)알칸(BTASA), 실란 화합물 및 케이지형 폴리실세스퀴옥산이 결합된 공중합체를 포함하고, 상기 케이지형 폴리실세스퀴옥산이 공극을 형성하는 저유전 층간 절연물질
2	2 제 1항에 있어서,상기 환형 실록산 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 것인 저유전 층간 절연물질
3	3 제 1항에 있어서,상기 환형 실록산 화합물은 테트라메틸-테트라하이드록시 시클로테트라실록산, 테트라에틸-테트라하이드록시 시클로테트라실록산 및 테트라프로필-테트라하이드록시 시클로테트라실록산으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 저유전 층간 절연물질
4	4 제 1항에 있어서,상기 비스(트리알콕시실릴)알칸(BTASA)은 하기 화학식 2로 표시되는 것인 저유전 층간 절연물질
5	5 제 1항에 있어서,상기 비스(트리알콕시실릴)알칸(BTASA)은 BTESE(1,2-비스트리에톡시실릴에탄), BTESP(1,3-비스트리에톡시실릴프로판) 및 BTESB(1,4-비스트리에톡시실릴부탄)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 저유전 층간 절연물질
6	6 제 1항에 있어서,상기 실란 화합물은 하기 화학식 3으로 표시되는 것인 저유전 층간 절연물질
7	7 제 1항에 있어서,상기 실란 화합물은 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 프로필트리메톡시실란 및 프로필트리에톡시실란으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 저유전 층간 절연물질
8	8 제 1항에 있어서,상기 케이지형 폴리실세스퀴옥산은 하기 화학식 4로 표시되는 것인 저유전 층간 절연물질
9	9 제 1항에 있어서,상기 케이지형 폴리실세스퀴옥산은 하기 화학식 5로 표시되는 폴리헤드럴 올리고머릭 실세스퀴옥산(polyhedral oligomeric silsesquioxane, POSS)인 저유전 층간 절연물질
10	10 제 1항에 있어서,상기 층간 절연물질은 테트라메틸-테트라하이드록시 시클로테트라실록산, 메틸트리에톡시실란 및 케이지형 폴리실세스퀴옥산이 결합된 공중합체인 저유전 층간 절연물질
11	11 제 1항에 있어서,상기 층간 절연물질은 BTESE(1,2-비스트리에톡시실릴에탄), 메틸트리메톡시실란 및 케이지형 폴리실세스퀴옥산이 결합된 공중합체인 저유전 층간 절연물질
12	12 제 1항에 있어서,상기 층간 절연물질은 상기 케이지형 폴리실세스퀴옥산의 구조 제어에 의하여 공극이 형성되어 저유전성을 가지는 것인 저유전 층간 절연물질
13	13 환형 실록산 화합물 또는 비스(트리알콕시실릴)알칸(BTASA), 실란 화합물 및 케이지형 폴리실세스퀴옥산을 솔-겔(sol-gel) 반응시키는 단계;를 포함하는 저유전 층간 절연물질의 제조방법
14	14 제 13항에 있어서,상기 제조방법은, 환형 실록산 화합물 및 실란 화합물을 1차 솔-겔(sol-gel) 반응시키는 단계; 및상기 1차 솔-겔(sol-gel) 반응시키는 단계에서 얻어진 물질에 실란 화합물 및 케이지형 폴리실세스퀴옥산을 첨가하여 2차 솔-겔(sol-gel) 반응시키는 단계;를 포함하는 것인 저유전 층간 절연물질의 제조방법
15	15 제 14항에 있어서,상기 1차 솔-겔(sol-gel) 반응 단계는 환형 실록산 화합물 및 실란 화합물을 1~5:3~10의 몰비로 반응시키고, 상기 2차 솔-겔(sol-gel) 반응 단계는 실란 화합물 및 케이지형 폴리실세스퀴옥산을 0
16	16 제 13항에 있어서,상기 제조방법은 비스(트리알콕시실릴)알칸(BTASA), 실란 화합물 및 케이지형 폴리실세스퀴옥산을 동시에 솔-겔(sol-gel) 반응시키는 단계;를 포함하는 것인 저유전 층간 절연물질의 제조방법
17	17 제 16항에 있어서,상기 비스(트리알콕시실릴)알칸(BTASA), 실란 화합물 및 케이지형 폴리실세스퀴옥산은 1~5:3~10:0
18	18 제 13항에 있어서,상기 환형 실록산 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 것인 저유전 층간 절연물질의 제조방법
19	19 제 13항에 있어서,상기 환형 실록산 화합물은 테트라메틸-테트라하이드록시 시클로테트라실록산, 테트라에틸-테트라하이드록시 시클로테트라실록산 및 테트라프로필-테트라하이드록시 시클로테트라실록산으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 저유전 층간 절연물질의 제조방법
20	20 제 13항에 있어서,상기 비스(트리알콕시실릴)알칸(BTASA)은 하기 화학식 2로 표시되는 것인 저유전 층간 절연물질의 제조방법
21	21 제 13항에 있어서,상기 비스(트리알콕시실릴)알칸(BTASA)은 BTESE(1,2-비스트리에톡시실릴에탄), BTESP(1,3- 비스트리에톡시실릴프로판) 및 BTESB(1,4-비스트리에톡시실릴부탄)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 저유전 층간 절연물질의 제조방법
22	22 제 13항에 있어서,상기 실란 화합물은 하기 화학식 3으로 표시되는 것인 저유전 층간 절연물질의 제조방법
23	23 제 13항에 있어서,상기 실란 화합물은 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 프로필트리메톡시실란 및 프로필트리에톡시실란으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 저유전 층간 절연물질의 제조방법
24	24 제 13항에 있어서,상기 케이지형 폴리실세스퀴옥산은 하기 화학식 4로 표시되는 것인 저유전 층간 절연물질의 제조방법
25	25 제 13항에 있어서,상기 케이지형 폴리실세스퀴옥산은 하기 화학식 5로 표시되는 폴리헤드럴 올리고머릭 실세스퀴옥산(polyhedral oligomeric silsesquioxane, POSS)인 저유전 층간 절연물질의 제조방법

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특허 등록번호	10-1401419-0000

권리란

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표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20121130 출원 번호 : 1020120138346 공고 연월일 : 20140530 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20140520 청구범위의 항수 : 25 유별 : H01B 3/46 발명의 명칭 : 저유전 층간 절연물질 및 그 제조방법 존속기간(예정)만료일 :

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 한국과학기술연구원 서울특별시 성북구...

등록료란

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제 1 - 3 년분	금 액	510,000 원	2014년 05월 26일	납입
제 4 년분	금 액	413,000 원	2017년 05월 08일	납입
제 5 년분	금 액	295,000 원	2018년 04월 09일	납입
제 6 년분	금 액	295,000 원	2019년 05월 20일	납입
제 7 년분	금 액	525,000 원	2020년 04월 27일	납입

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번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2012.11.30	수리 (Accepted)	1-1-2012-0997222-42
2	선행기술조사의뢰서	2013.08.14	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
3	선행기술조사보고서	2013.10.10	수리 (Accepted)	9-1-2013-0086475-51
4	의견제출통지서	2013.11.21	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2013-0805799-42
5	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2014.01.16	수리 (Accepted)	1-1-2014-0045093-00
6	[명세서등 보정]보정서	2014.01.16	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2014-0045094-45
7	출원인정보변경(경정)신고서	2014.02.19	수리 (Accepted)	4-1-2014-5022002-69
8	등록결정서	2014.05.20	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2014-0344985-37


과제고유번호	1345197046
세부과제번호	2E2317
연구과제명	전기-역학 변환 소프트소재 개발
성과구분	출원
부처명	교육과학기술부
연구관리전문기관명	기초기술연구회
연구주관기관명	한국과학기술연구원
성과제출연도	2012
연구기간	201201~201412
기여율	1
연구개발단계명	응용연구
6T분류명	NT(나노기술)

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