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표면개질된다층복합산소부화막및그제조방법

  • 기술번호 : KST2015123690
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 내용 없음
Int. CL B01D 71/00 (2006.01)
CPC B01D 67/0088(2013.01) B01D 67/0088(2013.01) B01D 67/0088(2013.01) B01D 67/0088(2013.01)
출원번호/일자 1019890016350 (1989.11.11)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0051154-0000 (1992.04.30)
공개번호/일자 10-1991-0009310 (1991.06.28) 문서열기
공고번호/일자 1019920000944 (19920131) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1989.11.11)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김은영 대한민국 서울특별시강남구
2 강용수 대한민국 서울특별시노원구
3 김재진 대한민국 서울특별시강남구
4 송승원 대한민국 서울특별시강남구
5 박현채 대한민국 서울특별시동대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장수길 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)
2 김성택 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원심사청구서
Request for Examination
1989.11.11 수리 (Accepted) 1-1-1989-0096052-45
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1989.11.11 수리 (Accepted) 1-1-1989-0096051-00
3 특허출원서
Patent Application
1989.11.11 수리 (Accepted) 1-1-1989-0096049-18
4 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1989.11.11 수리 (Accepted) 1-1-1989-0096050-54
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
1990.01.10 수리 (Accepted) 1-1-1989-0096053-91
6 출원공고결정서
Written decision on publication of examined application
1991.12.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1989-0050601-38
7 등록사정서
Decision to grant
1992.04.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1989-0050603-29
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

다공성 폴리술폰막의 표면을 술폰화시킴으로써 폴리술폰막 표면에 술폰산기를 도입하고, 이 술폰산기에 반응성 폴리실록산을 실릴화 반응시켜 그라프트시킨 다음, 다시 코팅용 폴리실록산을 가교제와 함께 코팅·가교시키거나, 또는 실릴화 반응과 코팅 가교 공정을 동시에 진행시키는 것을 특징으로 하는 표면 개질된 다층 복합 산소 부화막의 제조 방법

2 2

제1항에 있어서, 술폰화제는 술퍼트리옥사이드의 트리에틸포스페이트와의 착화물이고, 용매는 시클로헥산이며, 반응시간은 실온에서 수 초 내지 50분인 것이 특징인 방법

3 3

제1항에 있어서, 실릴화 반응용 및 코팅용 폴리실록산은 양말단에 수산기가 있는 이수산화폴리디메틸실록산인 것이 특징인 방법

4 4

제1항 또는 제3항에 있어서, 폴리실록산의 분자량은 26,000 내지 150,000이며, 시콜로헥산 중의 0

5 5

제1항에 있어서, 코팅용 폴리실록산에 필요한 가교제가 트리스(디메틸아미노)메틸실란, 트리스(시클로아미노)메틸실란, 에틸아세톡시트리아세테이트실란 및 메틸아세톡시트리아세테이트실란으로 구성되는 군중에서 선택되는 것이 특징인 방법

6 6

다공성 폴리술폰층(1) 위에 이를 술폰화한 술폰화 폴리술폰층(2), 술폰기와 폴리실록산을 그라프트시킨 폴리실록산 그라프트층(3) 및 폴리실록산을 가교시킨 실리콘 고무층(4)의 순으로 코팅된 것이 특징인 공기 분리용 고분자 복합 박막

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP03196824 JP 일본 FAMILY
2 JP05069572 JP 일본 FAMILY
3 US05061301 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP1849638 JP 일본 DOCDBFAMILY
2 JP3196824 JP 일본 DOCDBFAMILY
3 JP5069572 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 JPH03196824 JP 일본 DOCDBFAMILY
5 JPH0569572 JP 일본 DOCDBFAMILY
6 US5061301 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.