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진공조; 상기 진공조 내에 시료를 지지하기 위한 지지대; 음(-)의 고전압 펄스를 발생하여 상기 시료를 인가하기 위한 고전압 펄스 발생장치; 상기 진공조 내에 주입된 가스로부터 펄스 플라즈마를 형성하기 위한 안테나; 상기 안테나와 연결되어 RF(Radio Frequency) 펄스를 공급하기 위한 펄스 RF 전력장치; 그리고 상기 고전압 펄스 발생장치와 상기 펄스 RF 전력장치의 사이에 연결설치되는 트리거 펄스 발생기로 이루어지는 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조장치
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대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법에 있어서, 시료를 진공조 내에 위치시키는 단계; 상기 진공조 내에 사용가스를 주입하는 단계; 상기 진공조 내에 RF 펄스를 공급하여 상기 사용가스로부터 고밀도 플라즈마를 발생시키는 단계; 발생된 플라즈마 이온이 시료에 충돌하여 시료표면에 이온을 주입시키기에 충분한 이온 에너지를 가지고 시료를 향해 가속되도록 시료에 음(-)의 고전압 펄스를 가하여 이온을 주입하는 단계; RF 펄스발생과 음(-)의 고전압 펄스발생을 동기화시키는 단계; 그리고 절연막이 형성되도록 시료를 어닐링하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법
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제 2항에 있어서, 상기 RF 펄스는 펄스폭 10㎲~1000㎲, 펄스주파수 10㎐~10㎑, 최대 펄스전력 1㎾~100㎾인 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법
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제 2항에 있어서, 음(-)의 고전압 펄스는 10㎸~100㎸, 펄스폭 10㎲~500㎲, 펄스주파수 10㎐~10㎑를 갖는 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법
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제 2항에 있어서, 상기 이온을 주입하는 단계에서 시료의 온도를 550℃~650℃으로 유지하면서 1×1016/㎠~1×1018/㎠의 도즈로 이온주입하는 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법
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제 2항에 있어서, 상기 어닐링하는 단계는 0
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제 2항에 있어서, 상기 어닐링하는 단계 이전에 시료의 표면에 보호막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법
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제 7항에 있어서, 상기 보호막은 실리콘 산화막인 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법
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제 7항에 있어서, 상기 보호막은 실리콘 질화막인 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법
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제 7항에 있어서, 상기 보호막은 실리콘 질화막인 것을 특징으로 하는 대출력 펄스 RF 플라즈마를 이용한 매몰 절연막 제조방법
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