맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

고분자 입자제조장치, 고분자입자 제조방법 및 이 방법에의해 제조된 고분자 입자를 포함하는 조성물

  • 기술번호 : KST2015125816
  • 담당센터 :
  • 전화번호 :
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전기방사 기술을 이용하여 고분자 입자 및 생리활성 성분이 포함된 고분자 나노 혹은 마이크로 입자를 대량으로 제조할 수 있는 고분자 입자제조장치 및 전기방사기술을 이용한 고분자 입자제조방법 및 이 방법에 의해 제조된 고분자 입자를 포함한 조성물에 관한 것이다. 전기방사, 전극, 이중노즐, 집진기, 필터
Int. CL B01J 2/02 (2011.01) B82Y 40/00 (2011.01) B01J 19/26 (2011.01)
CPC B01J 2/06(2013.01) B01J 2/06(2013.01) B01J 2/06(2013.01)
출원번호/일자 1020070115256 (2007.11.13)
출원인 (주)아모레퍼시픽, 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0917185-0000 (2009.09.07)
공개번호/일자 10-2009-0049150 (2009.05.18) 문서열기
공고번호/일자 (20090915) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.11.13)
심사청구항수 25

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 (주)아모레퍼시픽 대한민국 서울특별시 용산구
2 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 조은철 대한민국 경기도 의왕시
2 황윤균 대한민국 울산시 동구
3 정운룡 대한민국 경기도 파주시
4 김준오 대한민국 경기도 용인시 기흥구
5 장이섭 대한민국 경기도 용인시 수지구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김종관 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
2 박창희 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
3 권오식 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2007.11.13 수리 (Accepted) 1-1-2007-0811683-08
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2007.12.06 수리 (Accepted) 4-1-2007-5183841-93
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.09.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.10.10 수리 (Accepted) 9-1-2008-0062695-75
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0181692-79
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2009.05.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0273511-68
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.05.07 수리 (Accepted) 1-1-2009-0273500-66
8 등록결정서
Decision to grant		 2009.08.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0343849-06
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.01.11 수리 (Accepted) 4-1-2011-5005963-52
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5252006-10
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.05 수리 (Accepted) 4-1-2013-5054664-12
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5062749-37
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.05.30 수리 (Accepted) 4-1-2013-5078402-29
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.06.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5088566-87
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.05.04 수리 (Accepted) 4-1-2016-5056011-80
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.09.06 수리 (Accepted) 4-1-2016-5127488-87
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5208262-33
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.12.20 수리 (Accepted) 4-1-2017-5209451-34
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.07.10 수리 (Accepted) 4-1-2020-5154791-67
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
양극, 상기 양극에 이격되어 구비되는 음극 및 상기 양극과 음극에 결합되는 전원공급장치로 이루어진 전기장 형성부; 상기 전기장 형성부에 의하여 상기 양극과 음극 사이에 형성되는 전기장 형성공간 내에 고분자 용액 또는 고분자와 생리활성성분의 혼합용액을 방사시키는 용액방사노즐 및 상기 용액분사노즐의 외측에 길이방향으로 감싸며 환상도관으로 형성되어 압축기체를 방사시키는 기체방사노즐로 이루어진 이중노즐; 상기 양극, 음극 및 이중노즐가 고정되는 케이스; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 케이스에는 상기 고분자 용액 또는 혼합용액으로부터 형성된 고분자 입자를 외측으로 흡입시켜 수득하는 흡입펌프가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 고분자 고분자 입자제조장치
3 3
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 양극은 상기 이중노즐과 연접되거나 인접하여 수평으로 구비되며, 상기 음극은 상기 양극의 하방으로 이격되어 수평으로 구비되는 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조장치
4 4
제3항에 있어서, 상기 음극은 하나 또는 다수의 선형, 환형, 메쉬형, 및 이들의 조합형으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조장치
5 5
제4항에 있어서, 상기 음극은 고분자 코팅된 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조장치
6 6
제5항에 있어서 상기 고분자 코팅은 폴리테트라플로로에틸렌(PTFE) 또는 실리콘 수지로 코팅된 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조장치
7 7
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 케이스에는 상기 고분자 용액 또는 혼합용액 중 함유된 용매의 폭발 방지를 위한 폭발 방지가스 주입라인이 구비되는 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조장치
8 8
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 케이스 내측은 고분자 코팅이 된 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조장치
9 9
제8항에 있어서 상기 고분자 코팅은 폴리테트라플로로에틸렌(PTFE) 또는 실리콘 수지로 코팅된 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조장치
10 10
제2항에 있어서, 상기 케이스에 연결되어 상기 케이스에서 형성된 고분자 입자를 회수하는 집진기; 상기 집진기와 상기 흡입펌프를 연결하는 배출관; 상기 케이스에 외부와 연통되도록 형성되는 통기 구멍이 구비되는 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조장치
11 11
제10항에 있어서, 상기 집진기는 내부에 제1차 필터가 구비되는 제1차 집진기와 상기 제1차 집진기와 직렬로 연결되며 내부에 상기 제1차 필터보다 더 작은 입자를 집진하기 위한 제2차 필터가 구비되는 제2차 집진기를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조장치
12 12
제11항에 있어서, 상기 제2차 집진기의 후단에는 용매를 제거하기 위한 용매 제거용 필터가 구비되는 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조장치
13 13
제11항에 있어서, 상기 제1차 필터는 백 필터(bag filter)이고, 상기 제2차 필터는 카트리지 필터(cartridge filter)인 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조장치
14 14
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 고분자 용액 또는 혼합 용액을 상기 용액방사노즐에 공급하기 위한 용액공급펌프; 상기 용액공급펌프와 용액분사노즐을 연결하는 용액공급라인; 상기 압축기체를 상기 기체분사노즐에 공급하기 위한 기체공급펌프; 및 상기 기체분사노즐과 기체공급펌프를 연결하는 기체공급공급라인; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조장치
15 15
제14항에 있어서, 상기 용액공급라인에는 다수개의 상기 용액분사노즐이 병렬로 연결되는 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조장치
16 16
제14항에 있어서, 다수개의 상기 용액분사노즐은 상기 기체공급라인을 횡방향으로 관통하며 상기 용액공급라인에 병렬로 연결되고, 다수개의 상기 기체분사노즐은 상기 용액분사노즐의 외측을 길이방향으로 감싸며 각각 상기 기체공급라인에 병렬로 연결되는 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조장치
17 17
용액방사노즐을 통하여 고분자 용액 또는 고분자와 생리활성성분이 포함된 혼합용액을 전기장이 형성된 공간에 방사하면서 상기 용액분사노즐의 외측에 길이방향으로 감싸는 환상도관으로 형성된 기체방사노즐을 통하여 압축기체를 방사하여 상기 고분자 용액 또는 혼합용액으로부터 고분자를 입자화하는 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조방법
18 18
제17항에 있어서, 상기 고분자 용액 또는 혼합용액으로부터 형성된 고분자 입자는 전기장이 형성된 공간으로부터 흡입(suction)에 의하여 외측으로 이송되어 회수되는 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조방법
19 19
제17항 또는 제18항에 있어서, 상기 고분자 용액 또는 혼합용액에 포함되는 용매는 물, 메탄올, 메탄올, 프로판올, 아세톤, 테트라하이드로퓨란(THF), 메틸렌 클로라이드 또는 에틸 아세테이트 가운데 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조방법
20 20
제17항 또는 제18항에 있어서, 상기 고분자 용액 또는 혼합용액 중에 포함된 고분자는 폴리아크릴산(polyacrylic acid) 및 이의 공중합체, 폴리 히드록시 메틸 셀룰로스(poly(hydroxyl methyl cellulose)), 폴리 히드록시 알킬 메타크릴레이트 (poly(hydroxyl alkyl methacrylate)) 및 그의 공중합체, 폴리에틸렌 글리콜 (poly(ethylene glycol/oxide)) 및 그의 공중합체, 폴리에틸렌 글리콜-폴리카프로락톤(polycaprolactone) 다중 블록 공중합체, 폴리카프로락톤 (polycaprolactone) 및 그의 공중합체, 폴리 락티드 (polylactide) 및 그의 공중합체, 폴리 글리콜리드 (polyglycolide) 및 그의 공중합체, 폴리 메틸 메타크릴레이트 (poly(methyl methacrylate)) 및 그의 공중합체, 폴리 스티렌 (polystyrene) 및 그의 공중합체 가운데 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 고분자 입자 제조 방법
21 21
제17항 또는 제18항에 있어서, 상기 생리 활성성분은 L-아스코빈산(L-ascrobic acid), 에피칼로카테킨-3-갈레이트(epigallocatechin-3-Gallate) 및 그 유도체, 레티놀, 레티닐 아세티이트, 레티닐 팔미테이트, 토코페롤, 토코페릴 아세테이트, 토코페릴 리놀레이트, 토코페릴 니코티네이트, 리놀레익산, 코엔자임 Q-10, 레즈베라트롤 ((E)-5-[2-(4-hydroxyphenyl ethenyl)]-1,3-benzene diol 3,4,5-trihydroxy stilbene), 리포익산, 감초추출물, 티몰 트리메톡시산남메이트(Thymol Trimethoxycinnamate), 커큐민(Curcumin), 테트라하이드로커큐민(Tetrahydrocurcumin), 올레아놀릭산(Oleanolic acid), 어솔릭산(Ursolic acid), 베툴린(Betulin), 베툴린산(Betulinic acid), 디오스메틴(Diosmetin), 케르세틴(Quercetin), 리코펜(Lycopene), 캄페롤 (4’-5,7-trihydroxy flavonol), IBIP-02 (3,5,7-Trihydroxy-4'-methoxy-8-prenylflavone), 루테오린(Luteolin), 에틸(4-(2,3-디하이드로-1H-인덴-5-카복시아미도) 벤조에이트(Ethyl(4-(2,3-dihydro-1H-indene-5-carboxyamido) benzoate) 가운데 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조방법
22 22
제17항 또는 제18항에 있어서, 상기 압축기체는 공기, 질소, 아르곤, 네온 또는 헬륨인 것을 특징으로 하는 고분자 입자제조방법
23 23
제17항 또는 제18항의 제조방법에 의하여 제조된 고분자 입자를 포함하는 화장료 조성물
24 24
제17항 또는 제18항의 제조방법에 의하여 제조된 고분자 입자를 포함하는 피부 외용제 조성물
25 25
제17항 또는 제18항의 제조방법에 의하여 제조된 고분자 입자를 포함하는 식품 조성물
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.