| 1 |
1
고분자 수지를 포함하는 플렉서블 기판,상기 플렉서블 기판 위에 위치하는 제1 도전층,상기 제1 도전층 위에 위치한 발광층, 및상기 발광층 위에 위치하는 제2 도전층을 포함하는 플렉서블 디스플레이로서,상기 플렉서블 디스플레이는,화상 표시 영역, 및상기 화상 표시 영역을 둘러싸는 화상 비표시 영역을 포함하고,상기 제1 도전층은 복수의 결정들을 포함하는 광투과형 산화물로 형성되며, 상기 화상 비표시 영역에 대응하는 상기 제1 도전층은 상기 복수의 결정들의 경계에 대응하는 선형 무늬를 포함하는 플렉서블 디스플레이
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 선형 무늬는 400배 이상의 배율로 확대하여 식별 가능한 플렉서블 디스플레이
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 복수의 결정들의 경계의 평균 깊이는 70nm 내지 80nm인 플렉서블 디스플레이
|
| 4 |
4
제2항에 있어서,상기 경계의 양측에 위치한 결정들은 상기 플렉서블 기판에서 멀어질수록 그 이격 거리가 점차 커지는 플렉서블 디스플레이
|
| 5 |
5
제4항에 있어서,상기 결정들 중 하나 이상의 결정은 상기 플렉서블 기판의 판면에 수직인 방향과 3° 내지 8°의 각도를 이루는 플렉서블 디스플레이
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 제1 도전층은 상기 기판 위에 위치하는 복수의 비결정들을 더 포함하고, 상기 복수의 비결정들의 위에 상기 복수의 결정들이 위치하는 플렉서블 디스플레이
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 선형 무늬는 상기 제1 도전층을 레이저 주사하여 형성한 플렉서블 디스플레이
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 제1 도전층 위에 위치하면서 상호 이격된 복수의 마스크층들을 더 포함하고, 상기 복수의 마스크층들 사이로 노출된 상기 제1 도전층에 상기 선형 무늬가 존재하는 플렉서블 디스플레이
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 제1 도전층은 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide, ITO), 산화아연(ZnO) 및 산화은(AgO)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 산화물을 포함하는 플렉서블 디스플레이
|
| 10 |
10
고분자 수지를 포함하는 플렉서블 기판을 제공하는 단계,상기 플렉서블 기판 위에 제1 도전층을 상온 증착하는 단계,상기 제1 도전층에 레이저를 주사하여 선형 무늬를 형성하는 단계,상기 제1 도전층 위에 발광층을 제공하는 단계, 및상기 발광층 위에 제2 도전층을 제공하는 단계를 포함하는 플렉서블 디스플레이의 제조 방법
|
| 11 |
11
제10항에 있어서,상기 선형 무늬를 형성하는 단계에서, 상기 레이저의 에너지 플럭스는 0
|
| 12 |
12
제10항에 있어서,상기 제1 도전층을 상온 증착하는 단계와 상기 선형 무늬를 형성하는 단계 사이에 상기 제1 도전층 위에 상호 이격된 복수의 마스크층들을 형성하는 단계를 더 포함하고,상기 선형 무늬를 형성하는 단계에서, 상기 복수의 마스크층들 사이로 노출된 상기 제1 도전층에 상기 레이저를 조사하는 플렉서블 디스플레이의 제조 방법
|
| 13 |
13
제12항에 있어서,상기 선형 무늬를 형성하는 단계에서, 상기 레이저의 에너지 플럭스는 1
|
| 14 |
14
제10항에 있어서,상기 제1 도전층을 상온 증착하는 단계에서, 상기 제1 도전층을 65℃ 내지 75℃에서 증착하는 플렉서블 디스플레이의 제조 방법
|
