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광신호의 세기 감소 방지 장치, 이를 구비한 발광분광분석기, 광학기기 및 질량분석기

  • 기술번호 : KST2015126201
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 광신호의 세기 감소 방지 장치가 개시된다. 본 발명의 실시예에 따른 광신호의 세기 감소 방지 장치는, 웨이퍼 가공을 위한 플라즈마 필드에서 방사되는 RF 전자기파를 차단가능한 메쉬(mesh) 구조를 가지고, 상기 플라즈마 필드의 방출 스펙트럼 영상으로부터 상기 플라즈마 필드를 계측하기 위한 발광분광분석기의 광학창 전방에 설치되며, 메쉬를 통과하는 하전입자가 포집되는 차폐필터;를 포함한다.
Int. CL G01N 21/25 (2006.01) G02B 5/20 (2006.01) H01L 21/3065 (2006.01) H01L 21/66 (2006.01)
CPC G01J 3/443(2013.01) G01J 3/443(2013.01)
출원번호/일자 1020110095713 (2011.09.22)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1300735-0000 (2013.08.21)
공개번호/일자 10-2013-0032046 (2013.04.01) 문서열기
공고번호/일자 (20130827) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.09.22)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 한재원 대한민국 서울특별시 종로구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유)화우 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로***길 **, *층 (대치동, 삼호빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.09.22 수리 (Accepted) 1-1-2011-0739193-97
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5252006-10
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.06.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.07.20 수리 (Accepted) 9-1-2012-0056934-24
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.01.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0036451-43
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.03.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0226716-57
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.03.15 수리 (Accepted) 1-1-2013-0226706-01
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5062749-37
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.06.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5088566-87
10 등록결정서
Decision to grant		 2013.07.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0524127-23
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
웨이퍼 가공을 위한 플라즈마 필드에서 방사되는 RF 전자기파를 차단가능한 메쉬(mesh) 구조를 가지고, 상기 플라즈마 필드의 방출 스펙트럼 영상으로부터 상기 플라즈마 필드를 계측하기 위한 발광분광분석기(10a)의 광학창 전방에 설치되며, 메쉬를 통과하는 하전입자가 포집되는 차폐필터(31);를 포함하며,상기 차폐필터(31)는,플라즈마 방출 스펙트럼의 입사, 유입 경로에 대해 수직한 방향으로의 연장면을 가지는 다수가, 상기 플라즈마 방출 스펙트럼의 입사, 유입 경로를 따라 연속하여 배치되는 광신호의 세기 감소 방지 장치
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서,상기 차폐필터 다수는,메쉬의 중공부, 교차부가 서로 동일한 위상을 가지는 광신호의 세기 감소 방지 장치
5 5
제1항에 있어서,상기 차폐필터 다수는,메쉬의 중공부, 교차부가 서로 다른 위상을 가지는 광신호의 세기 감소 방지 장치
6 6
제5항에 있어서,상기 차폐필터 다수는,메쉬를 구성하는 선재(linear element)의 연장방향이 서로 다르게 배치되는 광신호의 세기 감소 방지 장치
7 7
제5항에 있어서,상기 차폐필터 다수는,메쉬를 구성하는 선재(linear element)의 연장방향을 따라 서로 일정한 위상차를 가지는 광신호의 세기 감소 방지 장치
8 8
제5항에 있어서,상기 차폐필터 다수는,서로 다른 밀도의 메쉬 구조를 가지는 광신호의 세기 감소 방지 장치
9 9
제1항에 있어서,상기 차폐필터(31)의 둘레에 대응되는 형상을 가지고 상기 차폐필터(31)에 결합되며, 상기 발광분광분석기(10a)의 광학창 전단부에 조립되는 고정프레임(32);을 더 포함하는 광신호의 세기 감소 방지 장치
10 10
제9항에 있어서,상기 고정프레임(32)은,상기 차폐필터(31)의 둘레가 삽입, 고정되는 삽입홈이 내면부에 형성되는 광신호의 세기 감소 방지 장치
11 11
제9항에 있어서,상기 고정프레임(32)은,상기 차폐필터(31)의 일면 둘레에 접촉되게 결합되어 상기 차폐필터(31)를 구속하거나 상기 발광분광분석기(10a)의 전단부측으로 가압하는 광신호의 세기 감소 방지 장치
12 12
제11항에 있어서,상기 발광분광분석기(10a)의 전단부와 상기 차폐필터(31) 사이 또는 상기 차폐필터(31) 사이에 이격간격을 두도록 삽입 설치되는 삽입링(33);을 더 포함하는 광신호의 세기 감소 방지 장치
13 13
제12항에 있어서,상기 삽입링(33)은,탄성부재로 구성되는 광신호의 세기 감소 방지 장치
14 14
웨이퍼 가공을 위한 플라즈마 필드에서 방사되는 RF 전자기파를 차단가능한 메쉬(mesh) 구조를 가지고, 상기 플라즈마 필드의 방출 스펙트럼이 입사되는 광학창 전방에 설치되며, 메쉬를 통과하는 하전입자가 포집되는 차폐필터(31);상기 차폐필터(31)를 통과한 플라즈마 방출 스펙트럼이 수광되는 수광렌즈(10)와, 상기 수광렌즈(10)에 입사 또는 출사되는 광신호의 크기를 결정하는 어퍼쳐(aperture)(11), 상기 수광렌즈(10)를 통과한 광신호의 초점 심도를 제한하는 핀홀(pinhole)(12)이 구비되는 광학계본체; 및상기 어퍼쳐(11)와 핀홀(12)을 통과한 광신호를 상기 광학계본체에서 전달받아 플라즈마 필드의 방출 스펙트럼 영상을 분석하는 분석기(16);를 포함하는 플라즈마 측정용 발광분광분석기
15 15
제14항에 있어서,투광소재로 구성되어, 상기 수광렌즈(10)와 차폐필터(31) 사이에 배치되는 보호창(36);을 더 포함하는 발광분광분석기
16 16
제14항에 있어서,레이저 광의 집속 위치와 플라즈마 필드상의 측정 위치를 일치시키는 것에 의해 상기 수광렌즈(10), 어퍼쳐(11), 핀홀(12)간 정렬, 조정이 가능하도록, 레이저를 상기 광학계본체 내 광신호 진행방향과 반대방향으로 조사하는 레이저 장치;를 더 포함하는 발광분광분석기
17 17
웨이퍼 가공을 위한 플라즈마 필드에서 방사되는 RF 전자기파를 차단가능한 메쉬(mesh) 구조를 가지고, 상기 플라즈마 필드의 방출 스펙트럼이 입사되는 광학창 전방에 설치되며, 메쉬를 통과하는 하전입자가 포집되는 차폐필터(31);상기 차폐필터(31)를 통과한 플라즈마 방출 스펙트럼이 수광되는 렌즈; 및상기 렌즈를 통과한 광신호를 반사, 굴절, 간섭, 회절 또는 편광시켜 물체의 상을 만들거나 물리량을 측정하는 광처리장치;를 포함하는 광학기기
18 18
웨이퍼 가공을 위한 플라즈마 필드에서 방사되는 RF 전자기파를 차단가능한 메쉬(mesh) 구조를 가지고, 분석 기체의 유입구 전방에 설치되며, 메쉬를 통과하는 하전입자가 포집되는 차폐필터(31);상기 분석 기체를 이온화, 가속화시키는 이온화 장치(20);상기 이온화 장치(20)를 통과하며 가속화된 이온을 질량에 따라 분리하는 분리 장치(21); 및 상기 분리 장치(21)를 거쳐 분리된 이온을 검출, 측정하는 검출 장치(22);를 포함하는 질량분석기
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1 KR101176742 KR 대한민국 FAMILY
2 US09025143 US 미국 FAMILY
3 US09958322 US 미국 FAMILY
4 US20120120395 US 미국 FAMILY
5 US20150211924 US 미국 FAMILY

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