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양자점 함유 나노복합입자 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015126496
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일 실시예에 의하면, 중공형 코어 입자; 및 상기 중공형 코어 입자의 표면에 결합되는 적어도 하나의 양자점 나노입자를 포함하는 양자점 함유 나노복합입자가 제공된다. 또한 발명의 일 실시예에 의하면, 중공형 코어 입자를 형성하는 단계; 및 공유결합, 이온결합 또는 물리적 흡착을 이용하여 친수성 유기용매 내에서 상기 중공형 코어 입자에 적어도 하나의 양자점 나노입자를 결합시키는 단계를 포함하는 양자점 함유 나노복합입자의 제조방법이 제공된다.
Int. CL B82B 1/00 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01) C09K 11/02 (2006.01)
CPC B82B 1/008(2013.01) B82B 1/008(2013.01) B82B 1/008(2013.01) B82B 1/008(2013.01) B82B 1/008(2013.01)
출원번호/일자 1020130028431 (2013.03.18)
출원인 주식회사 나노스퀘어, 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1575396-0000 (2015.12.01)
공개번호/일자 10-2014-0114922 (2014.09.30) 문서열기
공고번호/일자 (20151210) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.03.18)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 나노스퀘어 대한민국 서울특별시 관악구
2 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이혁재 대한민국 경기도 용인시 기흥구
2 정흥수 대한민국 경기 용인시 기흥구
3 김현수 대한민국 경기 고양시 일산동구
4 김영주 대한민국 서울 동작구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 곽현규 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 ** A&C빌딩 *층(STN국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 나노스퀘어 대한민국 서울특별시 관악구
2 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.03.18 수리 (Accepted) 1-1-2013-0229409-60
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5062749-37
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5088566-87
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.28 수리 (Accepted) 4-1-2013-5091090-27
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.28 수리 (Accepted) 4-1-2013-5091087-90
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.11.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.12.17 수리 (Accepted) 9-1-2013-0106103-52
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.04.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0297121-25
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.06.27 수리 (Accepted) 1-1-2014-0606260-87
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.07.30 수리 (Accepted) 1-1-2014-0722501-84
11 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.08.29 수리 (Accepted) 1-1-2014-0826220-65
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
13 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.09.30 수리 (Accepted) 1-1-2014-0931302-41
14 지정기간연장 관련 안내서
Notification for Extension of Designated Period
2014.10.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2014-0173374-31
15 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.10.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-1045203-60
16 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.10.30 수리 (Accepted) 1-1-2014-1045289-75
17 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.03.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0205923-81
18 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.05.27 수리 (Accepted) 1-1-2015-0510735-23
19 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.06.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0611244-19
20 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2015-0611232-61
21 등록결정서
Decision to grant
2015.11.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0801229-26
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번호 청구항
1 1
중공형 코어 입자; 상기 중공형 코어 입자의 표면에 공유 결합되는 적어도 하나의 양자점 나노입자; 및 상기 중공형 코어 입자와 양자점 나노입자를 감싸고 상기 양자점 나노입자의 표면에 공유 결합되는 무기질 또는 고분자 껍질을 포함하고, 상기 중공형 코어 입자의 직경이 50 nm 내지 2 ㎛이고, 상기 중공형 코어 입자의 쉘의 두께가 5 내지 100 nm이며, 겉보기 밀도가 참의 밀도 대비 10 내지 90% 감소된 양자점 함유 나노복합입자
2 2
제1항에 있어서, 상기 중공형 코어 입자가 금속산화물 입자 또는 고분자 입자인 양자점 함유 나노복합입자
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
제1항에 있어서, 상기 공유결합이 한쪽에 상기 양자점 나노입자와 결합하는 황, 질소 또는 인 중 어느 하나의 원자를 포함하고 다른 한쪽에 상기 중공형 코어 입자와 결합하는 작용기에 의하여 이루어지는 것인 양자점 함유 나노복합입자
6 6
제5항에 있어서, 상기 작용기가 실란기, 아미노기, 술폰기, 카르복시기 및 하이드록시기로 이루어진 군에서 선택되는 것인 양자점 함유 나노복합입자
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
제1항에 있어서, 상기 양자점 나노입자가, II-VI족 계열의 반도체, III-V족 계열의 반도체 및 IV-IV족 계열의 반도체로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나로 이루어진 단일 코어 구조이거나, 상기 단일 코어 구조에 II-VI족 계열의 반도체가 캡핑된 코어/쉘 구조인 것인 양자점 함유 나노복합입자
10 10
제1항에 있어서, 상기 양자점 나노입자의 직경이 1 내지 20 nm인 것인 양자점 함유 나노복합입자
11 11
삭제
12 12
삭제
13 13
삭제
14 14
삭제
15 15
삭제
16 16
중공형 코어 입자를 형성하는 단계; 및공유결합을 이용하여 친수성 유기용매 내에서 상기 중공형 코어 입자에 적어도 하나의 양자점 나노입자를 결합시킨 다음 공유결합을 이용하여 상기 양자점 나노입자가 결합된 상기 코어 입자를 무기질 또는 고분자 껍질로 피복하는 단계; 를 포함하되,상기 중공형 코어 입자의 직경이 50 nm 내지 2 ㎛이고, 상기 중공형 코어 입자의 쉘의 두께가 5 내지 100 nm이며, 겉보기 밀도가 참의 밀도 대비 10 내지 90% 감소된 양자점 함유 나노복합입자의 제조방법
17 17
제16항에 있어서, 공유결합을 이용하여 친수성 유기용매 내에서 상기 중공형 코어 입자에 적어도 하나의 양자점 나노입자를 결합시키는 단계가,(i) 한쪽에 포스핀기, 아민기 및 티올기로 이루어진 군으로부터 선택되는 작용기를 포함하고 다른 한쪽에 친수성 치환기를 포함하는 반응성 화합물과 코어 입자를 친수성 유기용매 내에서 반응시켜 상기 코어 입자의 표면을 개질하는 단계; 및(ii) 상기 친수성 유기용매에 양자점 나노입자를 첨가하여 상기 코어 입자의 표면에 적어도 하나의 양자점 나노입자를 결합시키는 단계를 포함하는 것인양자점 함유 나노복합입자의 제조방법
18 18
삭제
19 19
제16항에 있어서, 공유결합을 이용하여 상기 양자점 나노입자가 결합된 상기 코어 입자를 껍질로 피복하는 단계가, 상기 양자점 나노입자가 결합된 코어 입자를 반응성 화합물과 반응시켜 표면을 개질하는 단계; 및 상기 개질된 표면에 실리카, 알루미나, 타이타니아(TiO2) 또는 지르코니아(ZnO2)를 반응시켜 무기질 껍질을 형성시키는 단계를 포함하는 것인 양자점 함유 나노복합입자의 제조방법
20 20
제17항에 있어서, 상기 친수성 치환기가 실란기, 아미노기, 술폰기, 카르복시기, 이소시안기, 아지드기, 카벤기 및 하이드록시기로 이루어진 군에서 선택되는 것인 양자점 함유 나노복합입자의 제조방법
21 21
제19항에 있어서, 상기 무기질 껍질 형성 단계가 테트라에톡시실란 용액을 첨가하여 수행되는 것인 양자점 함유 나노복합입자의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 연세대학교 산학협력단 산업원천기술개발사업 고효율 나노형광체 구조 설계 및 미세 도포 기술