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대기 나노 입자 측정 센서

  • 기술번호 : KST2015127606
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 대기 나노 입자 측정 센서에 관한 것으로, 대기 중에 부유하는 나노 입자를 임팩터 모듈을 통해 크기별로 선별 흡입하여 사용자의 필요에 따라 일정 직경 이하의 나노 입자에 대한 수 농도를 측정할 수 있고, 대기 중에 부유하는 나노 입자를 흡입하여 단극으로 하전시키고 단극으로 하전된 나노 입자의 유동에 의해 발생되는 전압 변화를 검출하는 방식으로 나노 입자의 농도를 측정함으로써, 나노 입자의 수 농도 측정에 대한 정확성을 더욱 향상시킬 수 있으며, 고가의 대형 장비 구조가 아니라 소형으로 컴팩트하게 제작할 수 있어서, 휴대성이 우수하여 소규모 연구실 등에서 널리 사용될 수 있는 대기 나노 입자 측정 센서를 제공한다.
Int. CL G01N 21/85 (2006.01) G01N 27/66 (2006.01) G01N 15/10 (2006.01) G01N 1/24 (2006.01)
CPC G01N 15/10(2013.01) G01N 15/10(2013.01) G01N 15/10(2013.01) G01N 15/10(2013.01) G01N 15/10(2013.01)
출원번호/일자 1020110029729 (2011.03.31)
출원인 (주)에이치시티, 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1269275-0000 (2013.05.23)
공개번호/일자 10-2012-0111309 (2012.10.10) 문서열기
공고번호/일자 (20130529) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.03.31)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 (주)에이치시티 대한민국 경기도 이천시
2 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 권용택 대한민국 경기도 이천시
2 최정석 대한민국 경기도 용인시 수지구
3 윤진욱 대한민국 경기도 이천시
4 황정호 대한민국 서울특별시 용산구
5 이상구 대한민국 서울특별시 서대문구
6 현준호 대한민국 부산광역시 금정구
7 조윤행 대한민국 서울특별시 서대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 서재승 대한민국 서울특별시 강남구 봉은사로 ***-*(논현동) ***호(스카이국제특허사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구
2 주식회사 에이치시티엠 경기도 이천시
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2011-0236740-53
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5252006-10
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.05.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.06.15 수리 (Accepted) 9-1-2012-0046282-85
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.08.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0452476-96
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2012.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2012-0797501-40
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2012.11.02 수리 (Accepted) 1-1-2012-0902865-85
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2012.12.03 수리 (Accepted) 1-1-2012-1001794-21
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.01.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0003276-40
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.01.02 수리 (Accepted) 1-1-2013-0003271-12
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5062749-37
12 등록결정서
Decision to grant		 2013.05.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0337012-40
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.06.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5088566-87
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
대기 중에 부유하는 나노 입자가 흡입 선별되어 통과하도록 형성되는 임팩터 모듈;상기 임팩터 모듈로부터 나노 입자가 유입되도록 상기 임팩터 모듈에 연통되게 결합되는 유입부;상기 유입부를 통해 유입된 나노 입자를 단극으로 하전시켜 통과시키는 하전부;상기 하전부에 의해 단극으로 하전된 나노 입자가 통과할 수 있도록 형성되며, 상기 나노 입자가 통과하며 발생되는 전압 변화를 감지하여 나노 입자의 수 농도를 검출하는 검출부; 및대기 중에 부유하는 나노 입자가 상기 임팩터 모듈로 흡입되어 상기 유입부, 하전부 및 검출부를 통과하며 유동하도록 상기 검출부의 후단에 연통 장착되는 흡입 펌프를 포함하고, 상기 검출부는상기 하전부를 통과하며 단극으로 하전된 나노 입자가 사이 공간으로 통과할 수 있도록 상호 이격되게 배치되는 2개의 계측 전극판; 및상기 2개의 계측 전극판 사이의 전압을 측정하는 전압계를 포함하는 것을 특징으로 하는 대기 나노 입자 측정 센서
2 2
제 1 항에 있어서,상기 임팩터 모듈은대기 중에 부유하는 나노 입자가 흡입되며 크기에 따라 선별되어 일정 직경 이하의 나노 입자만 통과하도록 형성되는 적어도 하나 이상의 포집 모듈; 및상기 포집 모듈과 연통되도록 상기 포집 모듈의 하단에 밀봉 결합되며 일측에는 상기 유입부와 연결되도록 흡입 포트가 형성되는 연결 블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 대기 나노 입자 측정 센서
3 3
제 2 항에 있어서,상기 포집 모듈은나노 입자가 흡입되어 중심부로 가이드되며 통과하도록 노즐홀이 형성되는 노즐 블록; 및상기 노즐 블록의 하단에 결합되며 중심부에 나노 입자를 포집할 수 있는 포집판이 형성되고 상기 포집판의 주변 둘레에는 나노 입자가 통과할 수 있는 입자 유동홀이 형성되는 임팩트 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 대기 나노 입자 측정 센서
4 4
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 하전부는상기 유입부를 통해 유입된 나노 입자가 통과하도록 상기 유입부 및 상기 검출부와 연통되게 형성되는 믹싱 챔버; 및이온 발생 전극을 통해 이온을 발생시켜 나노 입자와 부착되도록 상기 믹싱 챔버에 확산시키는 이온 발생기를 포함하는 것을 특징으로 하는 대기 나노 입자 측정 센서
5 5
삭제
6 6
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 하전부에서 발생된 이온이 상기 검출부로 유입되지 않도록 상기 하전부와 상기 검출부 사이에 별도의 이온 제거부가 형성되는 것을 특징으로 하는 대기 나노 입자 측정 센서
7 7
제 6 항에 있어서,상기 이온 제거부는 상기 하전부에서 발생된 이온이 통과할 수 있도록 상호 이격되게 배치되는 2개의 트랩 전극판을 포함하고, 상기 2개의 트랩 전극판에는 이온이 전기력에 의해 부착될 수 있도록 미세 전압이 생성되는 것을 특징으로 하는 대기 나노 입자 측정 센서
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.