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적외선 영역에 대한 투과율을 향상시키기 위하여 표면에 돌기 형상의 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 무반사 패턴이 형성된 적외선 투과용 광학계
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제1항에 있어서, 상기 돌기 형상의 패턴이 형성되는 광학계가 렌즈, 윈도우 또는 필터인 것을 특징으로 하는 무반사 패턴이 형성된 적외선 투과용 광학계
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제1항에 있어서, 상기 패턴의 피치(pitch)가 1~5㎛인 것을 특징으로 하는 무반사 패턴이 형성된 적외선 투과용 광학계
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제1항에 있어서, 상기 적외선 영역의 파장이 8~12㎛인 것을 특징으로 하는 무반사 패턴이 형성된 적외선 투과용 광학계
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5
제1항에 있어서, 상기 광학계가 적외선을 투과시킬 수 있는 단일 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 무반사 패턴이 형성된 적외선 투과용 광학계
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6
제5항에 있어서, 상기 단일 재질이 실리콘 또는 게르마늄인 것을 특징으로 하는 무반사 패턴이 형성된 적외선 투과용 광학계
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7
i) 광학계 평판 표면에 PR 층을 도포하는 단계; ii) 상기 PR 층에 정현파(sinusoidal wave) 형상의 에칭 배리어(etching barrier) 패턴을 제작하는 단계; 및 iii) 상기 에칭 배리어 패턴이 형성된 평판에 에칭 공정을 통하여 돌기 형상의 패턴을 제작하는 단계; 를 포함하는 무반사 패턴이 형성된 적외선 투과용 광학계의 제조방법
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8
제7항에 있어서, 상기 패턴이 형성된 광학계의 반대면에 상기 i)~iii) 단계를 반복하여 수행함으로써, 광학계 양면에 돌기 형상의 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 무반사 패턴이 형성된 적외선 투과용 광학계의 제조방법
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제8항에 있어서, 광학계의 반대면에 PR 층을 도포하기 전에, 패턴이 형성된 면을 보호 필름으로 코팅하고, 패턴이 형성된 광하계의 반대면에 CMP 공정을 진행하는 것을 특징으로 하는 무반사 패턴이 형성된 적외선 투과용 광학계의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 에칭 배리어 패턴이 레이저 식각(laser ablation), 전자빔 직접 조사 (direct electron-beam writing), 레이저 간섭 리소그래피(laser interference lithography), 포토리소그래피(photolithography), 고온 임프린팅(thermal imprinting), UV 임프린팅(UV impiriting) 중 어느 하나의 방법으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 무반사 패턴이 형성된 적외선 투과용 광학계의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 돌기 형상의 패턴이 형성되는 광학계가 렌즈, 윈도우 또는 필터인 것을 특징으로 하는 무반사 패턴이 형성된 적외선 투과용 광학계의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 패턴의 피치(pitch)가 1~5㎛인 것을 특징으로 하는 무반사 패턴이 형성된 적외선 투과용 광학계의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 적외선 영역의 파장이 8~12㎛인 것을 특징으로 하는 무반사 패턴이 형성된 적외선 투과용 광학계의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 광학계가 적외선을 투과시킬 수 있는 단일 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 무반사 패턴이 형성된 적외선 투과용 광학계의 제조방법
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제13항에 있어서, 상기 단일 재질이 실리콘 또는 게르마늄인 것을 특징으로 하는 무반사 패턴이 형성된 적외선 투과용 광학계의 제조방법
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