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광원으로부터 발생되는 레이저빔으로 가공물에 패턴을 형성하는 방법에 있어서,프로브의 선단에 마련된 개구부를 통해 레이저빔을 가공물에 조사하는 단계;상기 프로브의 선단과 가공물을 근접시키는 단계;상기 가공물에 이미지 패턴(image pattern)을 형성하는 단계;상기 가공물의 이미지 패턴 주변에 마킹 패턴(marking pattern)을 형성하는 단계를 포함하고,상기 이미지 패턴 및 상기 마킹 패턴을 형성하는 단계에서는 상기 프로브의 선단과 가공물의 사이 거리가 1 nm 내지 50 nm 의 범위로 근접된 상태에서 상기 가공물 또는 상기 프로브를 평면방향으로 이동시키면서 상기 이미지 패턴 및 상기 마킹 패턴을 각각 형성하는 근접장 레이저 패터닝 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 마킹 패턴을 형성하는 단계는 상기 레이저빔의 세기를 증폭시켜 형성하는 근접장 레이저 패터닝 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 마킹 패턴을 형성하는 단계는 상기 레이저빔의 광량을 증폭시켜 형성하는 근접장 레이저 패터닝 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 이미지 패턴을 형성하는 단계와 상기 마킹 패턴을 형성하는 단계에서 동일한 프로브와 동일한 광원을 사용하는 근접장 레이저 패터닝 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 마킹 패턴은 직경이 1 ㎛ 내지 5㎛ 의 범위에 속하도록 형성되는 근접장 레이저 패터닝 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 마킹 패턴은 원형 또는 다각형의 패턴을 갖도록 형성되는 근접장 레이저 패터닝 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 마킹 패턴은 숫자 또는 문자 패턴을 갖도록 형성되는 근접장 레이저 패터닝 방법
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제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이미지 패턴을 형성하는 단계 이후에 상기 마킹 패턴을 형성하는 근접장 레이저 패터닝 방법
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제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이미지 패턴을 형성하는 단계 이전에 상기 마킹 패턴을 형성하는 근접장 레이저 패터닝 방법
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10
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 프로브의 개구부는 상기 레이저빔의 파장보다 작은 직경을 갖는 근접장 레이저 패터닝 방법
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제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이미지 패턴은 최소선폭이 1 nm 내지 200 nm 의 범위에 속하도록 형성되는 근접장 레이저 패터닝 방법
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